represent a challenging class of substrates for current radical trifluoromethylation and hydrotrifluoromethylation methods due to a myriad of potential side reactions. Herein, we describe the development of mild, selective and broadly applicable photocatalytic trifluoromethylation and hydrotrifluoromethylation protocols for these challenging substrates. The methods use fac‐Ir(ppy)3, visible light and
由于大量潜在的副反应,对于目前的自由基三
氟甲基化和氢三
氟甲基化方法,
苯乙烯代表了具有挑战性的一类底物。在这里,我们描述了针对这些具有挑战性的底物的温和,选择性和广泛适用的光催化三
氟甲基化和氢三
氟甲基化方案的发展。该方法使用fac-Ir(ppy)3,可见光和廉价的CF 3 I,可应用于多种
乙烯基芳烃基材。使用连续流光
化学反应条件可以减少反应时间并提高反应选择性。