(E)-2-[(E)-Hydroxyimino]-3-oxo-5-phenyl-pent-4-enenitrile | 104919-26-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 肉桂酸及其衍生物
• 英文名称: (E)-2-[(E)-Hydroxyimino]-3-oxo-5-phenyl-pent-4-enenitrile
• 英文别名: (E,2E)-2-hydroxyimino-3-oxo-5-phenylpent-4-enenitrile
• CAS: 104919-26-8
• 化学式: C₁₁H₈N₂O₂
• 分子量: 200.197
• InChiKey: NJXJOOIHZJGFHR-FCXQYMQBSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  73.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (E)-2-[(E)-Hydroxyimino]-3-oxo-5-phenyl-pent-4-enenitrile 、 氰乙酸乙酯 在 哌啶 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 以70%的产率得到(Z)-2-Cyano-2-(4-oxo-2-phenyl-2-pyrrolin-5-yliden)essigsaeureethylester
  参考文献：
  名称：

  Nawwar, Galal A.M.; Osman, Saad A.; El-Bayouki, Khairy A.M., Heterocycles, 1985, vol. 23, # 12, p. 2983 - 2988

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  cinnamoylacetonitrile 在 亚硝酸 作用下， 以78%的产率得到(E)-2-[(E)-Hydroxyimino]-3-oxo-5-phenyl-pent-4-enenitrile
  参考文献：
  名称：

  Nawwar, Galal A.M.; Osman, Saad A.; El-Bayouki, Khairy A.M., Heterocycles, 1985, vol. 23, # 12, p. 2983 - 2988

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
  申请人：INASAKI Takeshi

  公开号：US20130029255A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound (A) which contains at least one phenolic hydroxyl group and at least one group where a hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group is substituted by a group represented by the following General Formula (1). (in the formula, each of R 11 and R 12 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group; X 11 represents an aryl group; M 11 represents a single bond or a divalent linking group; and Q 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, wherein the number of carbon atoms which are included in the group represented by -M 11 -Q 11 is 3 or more, and at least two of R 11 , R 12 , Q 11 , and X 11 may form a ring by bonding to each other)

  提供的是一种感光树脂组合物，其中包含至少含有一个酚羟基和至少一个氢原子被以下通式（1）所代表的基替换的基团的化合物（A）。（在通式中，R11和R12分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或芳基烷基；X11表示芳基；M11表示单键或二价连接基团；Q11表示烷基、环烷基或芳基，其中包含在-M11-Q11所代表的基团中的碳原子数为3或更多，并且R11、R12、Q11和X11中至少有两个可以通过相互键合形成环）
• UNSATURATED OXIME DERIVATIVES AND THE USE THEREOF AS LATENT ACIDS
  申请人：Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

  公开号：EP1105373B1

  公开（公告）日：2002-10-09
• NAWWAR, GALAL, A. M.;OSMAN, SAAD, A.;EL-BAYOUKI, KHAIRY, A. M., HETEROCYCLES, 1985, 23, N 12, 2983-2988
  作者：NAWWAR, GALAL, A. M.、OSMAN, SAAD, A.、EL-BAYOUKI, KHAIRY, A. M.

  DOI：——

  日期：——
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2721446B1

  公开（公告）日：2017-11-22