本报告详细介绍了 α,α-5,10-diurea 和 α,α,α-5,10,15-triurea
卟啉的合成。在之前的报告中,这些
卟啉与 α,α,α,α-5,10,15,20-四
脲尖刺
卟啉一起被用来证明一个隐藏的溶剂分子在结合无机阴离子的选择性和
化学计量中发挥的重要作用. 在先前工作的基础上,本报告讨论了四和双
脲尖刺
卟啉(后者在阴离子受体复合物中不包含掩埋的溶剂分子)之间
乙酸根阴离子结合研究的结果,比较了从 van't 获得的热力学数据的差异能够在其结合基序中利用掩埋溶剂的
卟啉阴离子受体的霍夫图与不使用的结合基序,并比较了四
脲卟啉1的晶体结构-
氯化物阴离子复合物,包含隐藏溶剂,具有四
脲卟啉1 的新 X 射线晶体结构 - 二
氯化物或双
磷酸二氢根阴离子复合物,不含隐藏溶剂。我们之前工作的数据以及本文描述的工作表明,一个掩埋的溶剂分子为受体 - 阴离子复合物提供稳定性,其能量类似于中等强度的氢键。