1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-{3-[2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-(trifluoromethyl)ethyl]cyclohexyl}propan-2-ol | 122085-42-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-{3-[2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-(trifluoromethyl)ethyl]cyclohexyl}propan-2-ol
• 英文别名: 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-[3-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropan-2-yl)cyclohexyl]propan-2-ol
• CAS: 122085-42-1
• 化学式: C₁₂H₁₂F₁₂O₂
• 分子量: 416.207
• InChiKey: HGQAFFIDBHENFY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  14

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-{3-[2,2,2-trifluoro-1-hydroxy-1-(trifluoromethyl)ethyl]cyclohexyl}propan-2-ol 、 四环庚烷 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 408.0h， 生成 2-{3-[1-bicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-yloxy-2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl]cyclohexyl}-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol 、 1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-[3-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(3-tricyclo[2.2.1.02,6]heptanyloxy)propan-2-yl]cyclohexyl]propan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Bridged carbocyclic compounds and methods of making and using same

  摘要：

  本文披露了一种氟化的桥联碳环化合物，可以单独聚合或与至少一种其他乙烯基不饱和单体一起聚合以提供聚合物。该聚合物可以用于例如在低于300纳米的光刻胶组合物中。还披露了一种制备桥联碳环化合物的方法。

  公开号：

  EP1505050A1

文献信息

• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20090246694A1

  公开（公告）日：2009-10-01

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula ( 1 a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) RO is OH or C 1 -C 20 organoxy, R 1 is a divalent C 1 -C 20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。 ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a) RO为OH或C1-C20有机氧基，R1为二价的C1-C20脂肪族基团或与RO形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090061358A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 + H + (1a) R 1 —O—COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1c) R 1 is a C 20 -C 50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1c）的磺酸。R1—COOCH(CF3)CF2SO3+H+(1a)R1—O—COOCH( )CF2SO3−H+(1c)R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• Novel photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080085469A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. RC(═O)R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1a) R is hydroxyl, alkyl, aryl, hetero-aryl, alkoxy, aryloxy or hetero-aryloxy, R 1 is a divalent organic group which may have a heteroatom (O, N or S) containing substituent, or R 1 may form a cyclic structure with R. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。RC(═O)R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1a)中，R为羟基、烷基、芳基、杂芳基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基，R1为可能含有杂原子（O、N或S）取代基的二价有机基团，或R1可与R形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物中的使用。
• NOVEL SULFONATE SALTS AND DERIVATIVES, PHOTOACID GENERATORS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：KOBAYASHI Katsuhiro

  公开号：US20070298352A1

  公开（公告）日：2007-12-27

  Sulfonate salts have the formula: HOCH 2 CH 2 CF 2 CF 2 SO 3 − M + wherein M + is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+是Li、Na、K、铵或四甲基铵离子。从这些盐中衍生的烷基盐、肟磺酸盐和磺酰氧亚胺在化学增强型抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。
• Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20080318160A1

  公开（公告）日：2008-12-25

  Sulfonate salts have the formula: CF 3 —CH(OCOR)—CF 2 SO 3 − M + wherein R is C 1 -C 20 alkyl or C 6 -C 14 aryl, and M + is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+，其中R为C1-C20烷基或C6-C14芳基，M+为锂、钠、钾、铵或四甲基铵离子。来自这些磺酸盐的离子盐、肟磺酸盐、磺酰氧基亚胺和其他衍生物在化学增强型光刻胶组合物中是有效的光酸发生剂。