6-hydroxy-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 6-hydroxy-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylic acid
• 英文别名: 2-hydroxy-5-oxo-4-oxatricyclo[4.2.1.03,7]nonane-9-carboxylic acid；Hexahydro-6-hydroxy-2-oxo-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylic acid
• 化学式: C₉H₁₀O₅
• 分子量: 198.175
• InChiKey: RLIGTMKVDUTAGG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  83.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-hydroxy-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylic acid 在 potassium carbonate 、 N,N'-羰基二咪唑 、 potassium iodide 作用下， 以 氯仿 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 25.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供旨在制造具有良好CD均一性（CDU）的光阻图案的盐类、酸发生剂以及含有该酸发生剂的光阻组合物。解决方案是由式（I）表示的盐及其所包含的光阻组合物。【在式（I）中，Q1和Q2分别独立表示氟原子等。R1和R2分别独立表示氢原子等。z表示0〜6中的任何整数，当z大于等于2时，多个R1和R2可以相同也可以不同。X1和X2分别独立表示*−CO−O−等。L1表示具有单键或取代基的碳数为1〜28的烃基等。A1表示具有取代基的碳数为3〜36的内酯环。L2表示单键或碳数为1〜6的烷基基团。R3表示具有碘原子的碳数为1〜18的烃基等。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无

  公开号：

  JP2020183375A
• 作为产物：
  描述：

  5-降冰片烯-2,3-二羧酸 在 过氧乙酸 、 甲酸 、 双氧水 、 potassium carbonate 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 6-hydroxy-2-oxohexahydro-3,5-methano-2H-cyclopenta[b]furan-7-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  一种光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法

  摘要：

  本发明提供一种光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法。该光刻胶树脂中间体的制备方法包括如下步骤：a)进行解聚得到b)将与反应得到c)将步骤b)的反应产物进行碱化处理、酸化处理和浓缩。该光刻胶树脂单体的制备方法包括如下步骤：将与氧化剂进行环氧化反应，然后进行内酯化反应；然后与进行酯化反应，获得光刻胶树脂单体。本发明光刻胶树脂单体及其中间体的制备方法收率高、纯度高，尤其在百公斤级制备下仍然具有收率高和纯度高的有益效果。

  公开号：

  CN114085138A

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Sumitomo Chemical Company, Limited

  公开号：US20190107778A1

  公开（公告）日：2019-04-11

  A salt represented by the formula (I):

  由化学式(I)表示的盐：
• Metal-Containing Compositions and Method of Making Same
  申请人：Malik Mangala

  公开号：US20080015278A1

  公开（公告）日：2008-01-17

  The present invention relates to metal-containing compositions with refractive indices of at least 1.5 comprising a metal-containing precursor unit (MU), a prepolymer unit (PU), and a catalyst or an initiator capable of inducing a combining reaction of ethylenically unsaturated functional groups of the metal-containing precursor unit and reactive functional groups of the prepolymer unit. In another embodiment, the composition comprises MU and a catalyst or initiator capable of inducing a combining reaction of the metal-containing precursor units. Both MU and PU contain additional functional groups, which may be selected to impart compatibility with each other and to produce optically clear films. The metal-containing compositions can be used to produce films or articles having a transmittance of at least 90% and index of refraction in the range of 1.5 to 1.8 in the 400-700 nm range of light and 1.5 to 2.4 in the 150-400 nm range of light.

  本发明涉及具有折射率至少为1.5的含金属组分，包括一个含金属前体单元（MU）、一个预聚合物单元（PU）和一个催化剂或引发剂，能够诱导含金属前体单元的乙烯基未饱和官能团和预聚合物单元的反应性官能团进行结合反应。在另一实施例中，该组分包括MU和一个催化剂或引发剂，能够诱导含金属前体单元的结合反应。MU和PU都包含额外的功能性团，可以选择这些团来使它们相容，从而产生光学透明的薄膜。这些含金属组分可以用于生产透过率至少为90％，在400-700 nm光谱范围内的折射率在1.5到1.8之间，并且在150-400 nm光谱范围内的折射率在1.5到2.4之间的薄膜或制品。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20220146931A1

  公开（公告）日：2022-05-12

  Disclosed are a salt represented by formula (I), an acid generator and a resist composition: wherein Q 1 and Q 2 each represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group; R 11 and R 12 each represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a perfluoroalkyl group; z represents an integer of 0 to 6; X 1 and X 2 each represent *—CO—O—, *—O—CO—, etc.; L 1 represents a single bond or a hydrocarbon group which may have a substituent; A 1 represents a group having a lactone structure which may have a substituent; L 2 and L 3 each represent a single bond or an alkanediyl group; R 1 represents an iodine atom or a haloalkyl group; R 2 represents a halogen atom, a hydroxy group, a haloalkyl group or an alkyl group; m2 represents an integer of 0 to 4; and Z + represents an organic cation.

  公开了一种由式(I)表示的盐、酸发生剂和抗蚀组合物：其中Q1和Q2分别表示氟原子或全氟烷基；R11和R12分别表示氢原子、氟原子或全氟烷基；z表示0至6的整数；X1和X2分别表示*—CO—O—、*—O—CO—等；L1表示单键或可具有取代基的碳氢基团；A1表示具有内酯结构的基团，可能具有取代基；L2和L3分别表示单键或脂肪二烷基基团；R1表示碘原子或卤代烷基；R2表示卤原子、羟基、卤代烷基或烷基；m2表示0至4的整数；Z+表示有机阳离子。
• Conductive material and substrate
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10023752B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  The present invention provides a conductive material including: (A) a π-conjugated polymer, (B) a dopant polymer which contains one or more repeating units selected from “a1” to “a4” respectively shown by the following general formula (1) and has a weight-average molecular weight in the range of 1,000 to 500,000, and (C) one or more salts selected from the group consisting of a monovalent copper salt of carboxylic acid, a monovalent copper salt of β-diketone, and a monovalent copper salt of β-ketoester. There can be provided a conductive material that has excellent film-formability and also can form a conductive film having high transparency and conductivity, superior flexibility and flatness when the film is formed from the material.

  本发明提供了一种导电材料，包括(A) π-共轭聚合物；(B) 掺杂聚合物，其含有一个或多个如下通式(1)所示分别选自 "a1 "至 "a4 "的重复单元，且其重量平均分子量在 1,000 至 500,000 之间；以及 (C) 一种或多种盐，其选自由羧酸的一价铜盐、β-二酮的一价铜盐和β-酮酯的一价铜盐组成的组。本发明可提供一种导电材料，该材料具有优异的成膜性，并可形成具有高透明度和导电性的导电薄膜，在由该材料形成薄膜时，还具有优异的柔韧性和平整度。
• Resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10222696B2

  公开（公告）日：2019-03-05

  A resist composition comprising a base polymer and a biguanide salt compound offers a high dissolution contrast, minimal LWR, and dimensional stability on PPD.

  由基质聚合物和双胍盐化合物组成的抗蚀剂组合物在 PPD 上具有较高的溶解对比度、最小的 LWR 和尺寸稳定性。