4-(4-t-butylphenylsulphinyl)acetophenone

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-(4-t-butylphenylsulphinyl)acetophenone
• 英文别名: 1-[4-(4-Tert-butylphenyl)sulfinylphenyl]ethanone
• 化学式: C₁₈H₂₀O₂S
• 分子量: 300.422
• InChiKey: AGQMQSDQFWWWGQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.28
• 拓扑面积：
  53.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(4-t-butylphenylsulphinyl)acetophenone 在 三甲基氯硅烷 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 、 甲苯 为溶剂， 反应 9.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  スルホニウム化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法

  摘要：

  在光源为高能量线的光刻技术中，提供一种用于高灵敏度、酸扩散小、在各种光刻性能方面表现优异的化学增强型光刻胶组合物的新磺酰胺化合物，以及包含该磺酰胺化合物作为光酸发生剂的化学增强型光刻胶组合物，以及使用该化学增强型光刻胶组合物进行图案形成的方法。解决方案包括以下式（A）所示的磺酰胺化合物，以及包含由该磺酰胺化合物构成的光酸发生剂和基础树脂的化学增强型光刻胶组合物。【选择图】无

  公开号：

  JP2020169157A
• 作为产物：
  描述：

  4-(4-tert-butylphenyl)sufanylacetophenone 在 双氧水 、 溶剂黄146 作用下， 反应 20.0h， 以92%的产率得到4-(4-t-butylphenylsulphinyl)acetophenone
  参考文献：
  名称：

  スルホニウム化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法

  摘要：

  在光源为高能量线的光刻技术中，提供一种用于高灵敏度、酸扩散小、在各种光刻性能方面表现优异的化学增强型光刻胶组合物的新磺酰胺化合物，以及包含该磺酰胺化合物作为光酸发生剂的化学增强型光刻胶组合物，以及使用该化学增强型光刻胶组合物进行图案形成的方法。解决方案包括以下式（A）所示的磺酰胺化合物，以及包含由该磺酰胺化合物构成的光酸发生剂和基础树脂的化学增强型光刻胶组合物。【选择图】无

  公开号：

  JP2020169157A

文献信息

• Antimycotically active substituted 2-aminothiazoles
  申请人：Bayer Aktiengesellschaft

  公开号：US04956370A1

  公开（公告）日：1990-09-11

  A 2-aminothiazole of the formula ##STR1## in which R.sup.1 represents hydrogen or alkyl and R.sup.2 represents a radical of the formula ##STR2## where R.sup.3, R.sup.4, R.sup.5 and R.sup.6 independently of one another in each case represent hydrogen, halogen, nitro, alkyl, alkoxy, alkoxycarbonyl, dialkylamino, alkylthio, alkylsulphinyl, alkylsulphonyl, halogenoalkyl, halogenoalkoxy, halogenoalkylthio, halogenoalkylsulphinyl or halogenoalkylsulphonyl, X represents oxygen, sulphur, sulphinyl or sulphonyl and Ar represents an unsubstituted aryl or a substituted aryl radical, and their physiologically tolerable acid addition salts.

  该公式代表的2-氨基噻唑为##STR1##其中R.sup.1代表氢或烷基，R.sup.2代表##STR2##中的基团，其中R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5和R.sup.6分别独立地代表氢、卤素、硝基、烷基、烷氧基、烷氧羰基、二烷基氨基、烷基硫醚、烷基亚砜基、烷基磺酰基、卤代烷基、卤代烷氧基、卤代烷基硫醚、卤代烷基亚砜基或卤代烷基磺酰基，X代表氧、硫、亚砜或磺酰，Ar代表未取代的芳基或取代的芳基基团，以及它们的生理耐受的酸盐。
• Substituierte 2-Aminothiazole
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0365915A2

  公开（公告）日：1990-05-02

  Die Erfindung betrifft neue substituierte 2-Aminothiazole der allgemeinen Formel ein Verfahren zur ihrer Herstellung und ihre Verwendung bei der Bekämpfung von Krankheiten, insbesondere Mykosen.

  本发明涉及通式为新取代的 2-氨基噻唑 的制备方法及其在防治疾病，特别是真菌病方面的用途。
• IPPEN, JOACHIM;BAASNER, BERND;MARHOLD, ALBRECHT;KYSELA, ERNST;SCHALLER, K+
  作者：IPPEN, JOACHIM、BAASNER, BERND、MARHOLD, ALBRECHT、KYSELA, ERNST、SCHALLER, K+

  DOI：——

  日期：——
• SULFONIUM COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200319550A1

  公开（公告）日：2020-10-08

  A novel sulfonium compound of formula (A) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in lithography properties.
• US4956370A
  申请人：——

  公开号：US4956370A

  公开（公告）日：1990-09-11