2,2-二氟-3-羟基戊酸乙酯 | 1092693-68-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羟基酸及其衍生物
• 中文名称: 2,2-二氟-3-羟基戊酸乙酯
• 英文名称: ethyl 2,2-difluoro-3-hydroxy pentanoate
• 英文别名: ethyl 2,2-difluoro-3-hydroxypentanoate
• CAS: 1092693-68-9
• 化学式: C₇H₁₂F₂O₃
• 分子量: 182.167
• InChiKey: ZSYORKWIMLXNSC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  250℃
• 密度：
  1.164
• 闪点：
  105℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-二氟-3-羟基戊酸乙酯 在 水 、 三乙胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 2,2-二氟-3-(甲基丙烯酰氧基)戊酸
  参考文献：
  名称：

  Polymerizable Fluorine-Containing Compound

  摘要：

  一种可聚合的含氟化合物，其化学式为（1），其中R1表示可聚合的双键含有基团，R2表示酸敏感保护基团，R3表示氟原子或含氟烷基团，W表示二价连接基团。该化合物可以提供一种含氟聚合物化合物，其重均分子量为1,000-1,000,000，并包含由式（2）表示的重复单元，其中R2、R3和W如上所述，R4、R5和R6中的每一个独立地表示氢原子、氟原子或一价有机基团，至少两个R4、R5和R6可以结合形成一个环。该聚合物化合物可以提供一种抗蚀剂组合物，能够形成透明的曝光光线图案，并具有优异的矩形度。

  公开号：

  US20110098500A1
• 作为产物：
  描述：

  二氟溴乙酸乙酯 、 丙醛 在 锌 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 、 异丙醚 为溶剂， 反应 0.83h， 以89%的产率得到2,2-二氟-3-羟基戊酸乙酯
  参考文献：
  名称：

  Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer, Negative-Type Resist Composition, and Patterning Process Using Same

  摘要：

  化学式（1）所表示的含氟不饱和羧酸，其中R1代表可聚合的双键含基团，R3代表氟原子或含氟烷基团，W代表二价连接基团。该化合物可提供一种分子量为1,000-1,000,000且含有化学式（2）所表示的重复单元的含氟聚合物化合物，其中R3和W如上所定义，R4、R5和R6中的每一个独立地代表氢原子、氟原子或一价有机基团，R4、R5和R6中至少有两个可以结合形成环。该聚合物化合物可提供一种化学增强型光刻胶组合物，该组合物对KrF或ArF准分子激光光线透明，具有高分辨率，并能够形成具有矩形截面且无膨胀的图案。

  公开号：

  US20120226070A1

文献信息

• Practical Selective Hydrogenation of α-Fluorinated Esters with Bifunctional Pincer-Type Ruthenium(II) Catalysts Leading to Fluorinated Alcohols or Fluoral Hemiacetals
  作者：Takashi Otsuka、Akihiro Ishii、Pavel A. Dub、Takao Ikariya

  DOI：10.1021/ja403852e

  日期：2013.7.3

  Selective hydrogenation of fluorinated esters with pincer-type bifunctional catalysts RuHCl(CO)(dpa) 1a, trans-RuH2(CO)(dpa) 1b, and trans-RuCl2(CO)(dpa) 1c under mild conditions proceeds rapidly to give the corresponding fluorinated alcohols or hemiacetals in good to excellent yields. Under the optimized conditions, the hydrogenation of chiral (R)-2-fluoropropionate proceeds smoothly to give the corresponding

  用钳型双功能催化剂 RuHCl(CO)(dpa) 1a、反式-RuH2(CO)(dpa) 1b 和反式-RuCl2(CO)(dpa) 1c 在温和条件下选择性氢化氟化酯迅速进行，得到相应的氟化醇或半缩醛，收率良好至极好。在优化条件下，手性(R)-2-氟丙酸酯的加氢反应顺利进行，得到相应的手性醇，ee值没有出现严重下降。
• RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A PATTERN, POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Kimoto Takakazu

  公开号：US20120276482A1

  公开（公告）日：2012-11-01

  A radiation sensitive resin composition includes a first polymer having a group represented by a following formula (1), and a radiation sensitive acid generator. n is an integer of 2 to 4. X represents a single bond or a bivalent organic group. A represents a (n+1) valent linking group. Each Q independently represents a group that includes an alkali-dissociable group.

  一种辐射敏感性树脂组合物，包括具有下式（1）所代表的基团的第一聚合物和辐射敏感性酸发生剂。n是2到4的整数。X代表单键或二价有机基团。A代表（n+1）价的连接基团。每个Q独立地代表包括可溶于碱的基团的基团。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer, Postive-Type Resist Composition, And Patterning Process Using Same
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20080311507A1

  公开（公告）日：2008-12-18

  Disclosed is a fluorine-containing compound represented by formula (1), wherein R 1 represents a polymerizable double-bond containing group, R 2 represents an acid-labile protecting group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W represents a bivalent linking group. This compound can provide a fluorine-containing polymer compound that has a weight-average molecular weight of 1,000-1,000,000 and contains a repeating unit represented by formula (2), wherein R 2 , R 3 and W are defined as above, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, at least two of R 4 , R 5 and R 6 may be combined to form a ring. This polymer compound can provide a resist composition capable of forming a pattern that is transparent to exposure light and superior in rectangularity.

  本发明涉及一种含氟化合物，其化学式为（1），其中R1代表可聚合的双键含基团，R2代表酸易保护基，R3代表氟原子或含氟烷基团，W代表双价连结基团。该化合物可提供一种含氟聚合物化合物，其重均分子量为1,000-1,000,000，并含有由式（2）所表示的重复单元，其中R2、R3和W如上所定义，R4、R5和R6中的每一个独立地代表氢原子、氟原子或一价有机基团，其中至少两个R4、R5和R6可以组成环。该聚合物化合物可提供一种抗蚀剂组合物，能够形成对曝光光线透明且在矩形度方面优越的图案。
• Positive-Type Resist Composition
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20090061353A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  Disclosed is a fluorine-containing polymer compound containing first and second repeating units respectively represented by formulas (a-1) and (a-2), wherein R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, each of W and W 1 independently represents a bivalent linking group, R 2 represents an acid-labile protecting group, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, and at least two of R 4 , R 5 , R 6 and W or W 1 may be combined to form a cyclic structure in formula (a-1) or (a-2). This polymer compound has a weight-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000 and can provide a resist composition capable of forming a pattern with no swelling and no pattern falling down.

  本发明涉及一种含氟聚合物化合物，其中包含第一和第二重复单元，分别由式（a-1）和（a-2）表示，其中R3表示氟原子或含氟烷基，W和W1各自表示双价连接基团，R2表示酸敏保护基团，R4、R5和R6各自表示氢原子、氟原子或单价有机基团，且式（a-1）或（a-2）中至少两个R4、R5、R6和W或W1可组成环状结构。该聚合物化合物具有1,000至1,000,000的重均分子量，并可提供一种抗膨胀和无图案脱落的光刻胶组合物。
• Top Coating Composition
  申请人：Maeda Kazuhiko

  公开号：US20120040294A1

  公开（公告）日：2012-02-16

  Disclosed is a top coating composition formed on a resist film, for protecting the resist film, the top coating composition being a top coating composition for photoresist, characterized by containing a fluorine-containing polymer having a repeating unit represented by the following general formula (1). This composition is capable of controlling developing solution solubility and has a high water repellency. [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, fluorine atom, methyl group or trifluoromethyl group, R 2 represents a heat-labile protecting group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W is a bivalent linking group.]

  本发明公开了一种用于保护光阻膜的顶层涂层组合物，该顶层涂层组合物是一种用于光刻胶的顶层涂层组合物，其特征在于包含具有以下一般式（1）所表示的重复单元的含氟聚合物。该组合物能够控制显影液的溶解性，并具有高度的防水性。[在公式中，R1表示氢原子、氟原子、甲基基团或三氟甲基基团，R2表示热敏保护基团，R3表示氟原子或含氟烷基团，W是双价连接基团。]