2-甲基-丙烯酸 2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯 | 195000-66-9

• 物质功能分类: 医药中间体 - 杂环化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 内酯类
• 中文名称: 2-甲基-丙烯酸 2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯
• 中文别名: 2-羰基-四氢呋喃-3-羟基-甲基丙烯酸酯；2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯
• 英文名称: 2-oxotetrahydrofuran-3-yl methacrylate
• 英文别名: γ-butyrolacton-2-yl methacrylate；γ-butyrolactone methacrylate；2-carbonyltetrahydrofuran-3-yl methacrylate；α-methacryloyloxy-γ-butyrolactone；α-methacryloyloxyy-γ-butyrolactone；γ-butyrolactone-2-yl methacrylate；methacrylic acid γ-butyrolactone；2-Methylacrylic acid 2-oxo-tetrahydrofuran-3-yl ester；(2-oxooxolan-3-yl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 195000-66-9
• 化学式: C₈H₁₀O₄
• 分子量: 170.165
• InChiKey: QSUJHKWXLIQKEY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  296.8±33.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.17±0.1 g/cm3(Predicted)
• 闪点：
  152 °C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2932209090
• 储存条件：
  2-8℃，保持干燥环境。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基-丙烯酸 2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯 、 甲基氯化镁 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 5.0h， 以48%的产率得到(2-Hydroxy-2-methyloxolan-3-yl) 2-methylprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。

  公开号：

  US20160238930A1
• 作为产物：
  描述：

  甲基丙烯酸 在 三乙胺 作用下， 以 α-溴-γ-丁内酯 为溶剂， 生成 2-甲基-丙烯酸 2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯
  参考文献：
  名称：

  Chemical amplification type positive resist

  摘要：

  公开号：

  EP1041442B1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• MONOMERS, POLYMERS AND PHOTORESIST COMPOSITIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20180059545A1

  公开（公告）日：2018-03-01

  In one preferred embodiment, polymers are provided that comprise a structure of the following Formula (I): Photoresists that comprises such polymers also are provided.

  在一个首选实施例中，提供了包含以下化学式（I）结构的聚合物： 还提供了包含这种聚合物的光刻胶。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20070078269A1

  公开（公告）日：2007-04-05

  The present invention provides a salt of the formula (I): wherein ring Y represents monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, in which one —CH 2 — group is substituted with —COO— group, and at least one hydrogen atom in the monocyclic or polycyclic hydrocarbon group may optionally be substituted with alkyl group having 1 to 6 carbon atom, alkoxy group having 1 to 6 carbon atom, perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, hydroxyl group or cyano group; Q 1 and Q 2 each independently represent fluorine atom or perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A + represents organic counter ion; and n shows an integer of 0 to 12. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐： 其中环Y代表具有3至30个碳原子的单环或多元环烃基团，其中一个—CH2—基团被—COO—基团取代，并且单环或多元环烃基团中的至少一个氢原子可以可选地被具有1至6个碳原子的烷基取代，具有1至6个碳原子的烷氧基，具有1至4个碳原子的全氟烷基，具有1至6个碳原子的羟基烷基，羟基或腈基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基；A+代表有机反离子；n表示0至12的整数。 本发明还提供了一种含有公式(I)盐的化学放大抗蚀剂组合物。
• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。