2-(6-methoxy)-naphthyl 4-methoxyphenyl ketone | 77799-65-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(6-methoxy)-naphthyl 4-methoxyphenyl ketone
• 英文别名: 6-methoxy-2-naphthyl-4'-methoxyphenyl ketone；6-methoxy-2-naphthyl 4-methoxyphenyl ketone；(6-methoxy-[2]naphthyl)-(4-methoxy-phenyl)-ketone；(6-Methoxy-[2]naphthyl)-(4-methoxy-phenyl)-keton；(6-Methoxy-naphthalen-2-yl)-(4-methoxy-phenyl)-methanone；(6-methoxynaphthalen-2-yl)-(4-methoxyphenyl)methanone
• CAS: 77799-65-6
• 化学式: C₁₉H₁₆O₃
• 分子量: 292.334
• InChiKey: PNDAUTWVODGLNH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  128-131 °C
• 沸点：
  472.2±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.170±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(6-methoxy)-naphthyl 4-methoxyphenyl ketone 在 sodium tetrahydroborate 、 三氟乙酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 20.0h， 以85%的产率得到2-(4-methoxybenzyl)-6-methoxynaphthalene
  参考文献：
  名称：

  电有机反应。第56部分：2-甲基-和2-苄基萘的阳极氧化：影响竞争途径的因素

  摘要：

  系统地研究了在萘核的6位和苄基侧链的4-苯基位取代的2-甲基和2-苄基萘在亲核介质中的阳极氧化作用，以确定有利于环境的因素侧链取代。循环伏安法证实6-取代对萘核的氧化电位有深远的影响，13 C化学位移表明在苄基碳上有极性作用。然而，在任何尝试的条件下，几乎都没有观察到侧链阳极氧化。富电子底物的自由基阳离子优先二聚，并且在6位上具有强吸电子取代基（EtOSO 2）促进核替代。相反，在含水乙酸中用DDQ氧化可对富含电子的底物进行有效的侧链氧化，这与氢化物转移（可能在分子内通过电荷转移络合物）转移一致。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(02)00495-7
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲基萘 在 2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 、 溶剂黄146 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 2-(6-methoxy)-naphthyl 4-methoxyphenyl ketone
  参考文献：
  名称：

  电有机反应。第56部分：2-甲基-和2-苄基萘的阳极氧化：影响竞争途径的因素

  摘要：

  系统地研究了在萘核的6位和苄基侧链的4-苯基位取代的2-甲基和2-苄基萘在亲核介质中的阳极氧化作用，以确定有利于环境的因素侧链取代。循环伏安法证实6-取代对萘核的氧化电位有深远的影响，13 C化学位移表明在苄基碳上有极性作用。然而，在任何尝试的条件下，几乎都没有观察到侧链阳极氧化。富电子底物的自由基阳离子优先二聚，并且在6位上具有强吸电子取代基（EtOSO 2）促进核替代。相反，在含水乙酸中用DDQ氧化可对富含电子的底物进行有效的侧链氧化，这与氢化物转移（可能在分子内通过电荷转移络合物）转移一致。

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(02)00495-7

文献信息

• One-Pot Two-Step Oxidative Cleavage of 1,2-Arylalkenes to Aryl Ketones Instead of Arylaldehydes in an Aqueous Medium: A Complementary Approach to Ozonolysis
  作者：Naina Sharma、Abhishek Sharma、Rakesh Kumar、Amit Shard、Arun K. Sinha

  DOI：10.1002/ejoc.201000672

  日期：2010.11

  A new approach has been developed for a one-pot and selective oxidative cleavage of aryl- and 1,2-diarylalkenes leading to one-carbon shorter aryl ketones; thereby, providing a complementary approach to classical ozonolysis. The methodology was applicable to diverse aromatic and polyaromaticarylalkenes bearing electron-donating or -withdrawing groups on the aromatic ring. The protocol also provided

  已开发出一种新方法，用于芳基和 1,2- 二芳基烯烃的一锅法选择性氧化裂解，产生一个碳的较短芳基酮；因此，为经典臭氧分解提供了一种补充方法。该方法适用于在芳环上带有给电子或吸电子基团的各种芳族和聚芳芳基烯烃。该方案还提供了一个有用的一锅氧化裂解-缩合序列，它可能在天然产物全合成中具有重要的应用。
• InterProScan – an integration platform for the signature-recognition methods in InterPro
  作者：Evgeni M. Zdobnov、Rolf Apweiler

  DOI：10.1093/bioinformatics/17.9.847

  日期：2001.9.1

  Summary: InterProScan is a tool that scans given protein sequences against the protein signatures of the InterPro member databases, currently – PROSITE, PRINTS, Pfam, ProDom and SMART. The number of signature databases and their associated scanning tools as well as the further refinement procedures make the problem complex. InterProScan is designed to be a scalable and extensible system with a robust internal architecture.

  Availability: The Perl-based InterProScan implementation is available from the EBI ftp server (ftp://ftp.ebi.ac.uk/pub/software/unix/iprscan/) and the SRS-basedInterProScan is available upon request. We provide the public web interface (http://www.ebi.ac.uk/interpro/scan.html) as well as email submission server ([e-mail]).

  Contact: [e-mail]

  * To whom correspondence should be addressed.

  摘要：InterProScan是一种工具，用于将给定的蛋白质序列与InterPro成员数据库的蛋白质标志进行扫描，目前包括PROSITE、PRINTS、Pfam、ProDom和SMART。标志数据库的数量及其相关的扫描工具以及进一步的细化程序使问题变得复杂。InterProScan被设计为具有可扩展性和可扩展性的系统，具有稳健的内部架构。

  可用性：基于Perl的InterProScan实现可从EBI ftp服务器（ftp://ftp.ebi.ac.uk/pub/software/unix/iprscan/）获取，基于SRS的InterProScan可根据请求提供。我们提供公共网络界面（http://www.ebi.ac.uk/interpro/scan.html）以及电子邮件提交服务器（[e-mail]）。

  联系人：[e-mail]

  * 应该向谁通讯。

• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US10018911B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.

  一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分，以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子，第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。
• Photosensitization chemical-amplification type resist material, method for forming pattern using same, semiconductor device, mask for lithography, and template for nanoimprinting
  申请人：TOKYO ELECTRON LIMITED

  公开号：US10025187B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  A photosensitization chemical-amplification type resist material according to the present invention is used for a two-stage exposure lithography process, and contains (1) a developable base component and (2) a component generating a photosensitizer and an acid through exposure. Among three components consisting of (a) an acid-photosensitizer generator, (b) a photosensitizer precursor, and (c) a photoacid generator, the above component contains only the component (a), any two components, or all of the components (a) to (c).

  根据本发明，一种光敏化学放大型抗蚀剂材料用于两阶段曝光光刻工艺，它包含(1)可显影碱成分和(2)通过曝光产生光敏剂和酸的成分。在由(a)酸-光敏剂发生器、(b)光敏剂前体和(c)光酸发生器组成的三个组件中，上述组件只包含(a)组件、任意两个组件或(a)至(c)的所有组件。