【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。zは、0〜6の整数を表す。X1は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表す。L1は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。R3及びR4は、それぞれ水素原子又は飽和炭化水素基を表す。R5、R6及びR7は、それぞれアルキル基、アルケニル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、R5及びR6は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成する。Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
这项技术旨在提供能够制造具有良好CD均一性(CDU)的光刻胶图案的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。根据式(I)表示的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。【式中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基。R1和R2分别表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基。z表示0~6的整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−。L1表示可以具有单键或取代基的烃基。R3和R4分别表示氢原子或饱和烃基。R5、R6和R7分别表示烷基、烯基、脂
环烃基、芳香族烃基或它们的组合基,或者R5和R6相互连接以形成脂
环烃基,与它们连接的碳原子一起。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无