4-oxoadamantane 1-yl-oxycarbonyl(difluoro)methanesulfonyl fluoride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-oxoadamantane 1-yl-oxycarbonyl(difluoro)methanesulfonyl fluoride
• 英文别名: (4-Oxo-1-adamantyl) 2,2-difluoro-2-fluorosulfonylacetate
• 化学式: C₁₂H₁₃F₃O₅S
• 分子量: 326.293
• InChiKey: COSGFOOQKFTWSM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  85.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-oxoadamantane 1-yl-oxycarbonyl(difluoro)methanesulfonyl fluoride 在 硼烷四氢呋喃络合物 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 27.1h， 生成 triphenylsulfonium 4-hydroxy-1-adamantyloxycarbonyldifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  JP5821582

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  5-羟基-2-金刚烷酮 、 2-氟磺酰基二氟乙酸 在 硫酸 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 4-oxoadamantane 1-yl-oxycarbonyl(difluoro)methanesulfonyl fluoride
  参考文献：
  名称：

  JP5821582

  摘要：

  公开号：

文献信息

• 化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2016222652A

  公开（公告）日：2016-12-28

  【課題】良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）で、レジストパターンを製造することができる化合物、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物及びこの化合物を含む酸発生剤及びレジスト組成物。［Ｑ１及びＱ２は各々Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｒ１及びＲ２は各々Ｆ又はペルフルオロアルキル基等；ｚは０〜６の整数；Ｘ１は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−又は＊−Ｏ−；Ａ１は２価の炭化水素基；Ｒ３は炭化水素基；Ａ１及びＲ３は、互いに結合しこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい；Ｘａ及びＸｂは各々Ｏ又はＳ；Ｘ２は、Ｆを有してもよい２価の飽和炭化水素基；Ｒ４は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基；Ｒ５は、置換基を有してもよい炭化水素基又はシアノ基］【選択図】なし

  提供具有良好掩模误差因子（ＭＥＦ）的化合物，酸发生剂和掩模组成物，可用于制造掩模图案。所述解决方案涉及由式（Ｉ）表示的化合物，以及包含该化合物的酸发生剂和掩模组成物。【其中，Ｑ１和Ｑ２分别为Ｆ或全氟烷基；Ｒ１和Ｒ２分别为Ｆ或全氟烷基等；ｚ为０〜６的整数；Ｘ１为＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−或＊−Ｏ−；Ａ１为二价碳氢基；Ｒ３为碳氢基；Ａ１和Ｒ３可以相互连接并形成环，与连接它们的碳原子一起；Ｘａ和Ｘｂ分别为Ｏ或Ｓ；Ｘ２可以是具有氟的二价饱和碳氢基；Ｒ４可以是带有取代基的芳香族碳氢基；Ｒ５可以是带有取代基的碳氢基或氰基。】【选择图】无
• JP5781749
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• Imide Compound and Chemically Amplified Resist Composition Containing The Same
  申请人：TAKEMOTO Ichiki

  公开号：US20100028807A1

  公开（公告）日：2010-02-04

  An imide compound represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1-C20 aliphatic hydrocarbon group etc., W 1 represents —CO—O— etc., Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., and A represents a group represented by the formula (I-1): wherein A 1 represents —CH 2 —CH 2 — etc., and a chemically amplified resist composition containing the same.
• Oxime Compound and Resist Composition Containing the Same
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20100021847A1

  公开（公告）日：2010-01-28

  An oxime compound represented by the formula (I): wherein Y represents an unsubstituted or substituted n-valent C6-C14 aromatic hydrocarbon group, n represents an integer of 1 to 6, R 1 ) represents a C1-C30 aliphatic hydrocarbon group etc., R 2 represents a linear or branched chain C1-C20 aliphatic hydrocarbon group etc., W represents —CO—O— etc., Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., Z represents a C1-C20 halogenated aliphatic hydrocarbon group etc, and the resist composition containing the same.
• US8173350B2
  申请人：——

  公开号：US8173350B2

  公开（公告）日：2012-05-08