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α-(2,6-二甲基苯基)-2,6-二甲基苯甲醇 | 22004-65-5

中文名称
α-(2,6-二甲基苯基)-2,6-二甲基苯甲醇
中文别名
双(2,6-二甲基苯基)甲醇
英文名称
α-(2,6-dimethylphenyl)-2,6-dimethylbenzenemethanol
英文别名
Hydroxy-bis-(2.6-dimethyl-phenyl)-methan;Bis-(2.6-dimethyl-phenyl)-methanol;2,6,2',6'-Tetramethyl-benzhydrol;Di-[2.6]xylyl-methanol;2,2',6,6'-tetramethylbenzhydryl alcohol;2,2',6,6'-Tetramethyl-benzhydrol;Bis(2,6-dimethylphenyl)methanol
α-(2,6-二甲基苯基)-2,6-二甲基苯甲醇化学式
CAS
22004-65-5
化学式
C17H20O
mdl
——
分子量
240.345
InChiKey
OKFOGGVYBGIWSE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    388.3±11.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.035±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.2
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.29
  • 拓扑面积:
    20.2
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    1

安全信息

  • 海关编码:
    2906299090

SDS

SDS:0b8804fd340740280e4756cd0c164569
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    α-(2,6-二甲基苯基)-2,6-二甲基苯甲醇氯化亚砜 作用下, 以 为溶剂, 反应 0.5h, 生成 bis(2,6-dimethylphenyl)methyl chloride
    参考文献:
    名称:
    Bolton, Roger; Burley, Rita E.; Williams, Nigel J., Australian Journal of Chemistry, 1986, vol. 39, # 4, p. 625 - 634
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    1,1,2,2-四-(2,6-二甲基-苯基)-乙烷 在 氧气 作用下, 生成 α-(2,6-二甲基苯基)-2,6-二甲基苯甲醇
    参考文献:
    名称:
    Nauta; Ernsting; Faber, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1941, vol. 60, p. 915,927
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Synthesis and antiarrhythmic activity of .alpha.-[(diarylmethoxy)methyl]-1-piperidineethanols
    作者:Milton L. Hoefle、L. T. Blouin、R. W. Fleming、S. Hastings、J. M. Hinkley、T. E. Mertz、T. J. Steffe、C. S. Stratton、L. M. Werbel
    DOI:10.1021/jm00105a002
    日期:1991.1
    A series of alpha-[(diarylmethoxy)methyl]-1-piperidineethanols was evaluated for antiarrhythmic activity in the coronary artery ligated dog model. Structure-activity relationship studies indicated that the 2,6-dimethylpiperidine group afforded the best antiarrhythmic agents in this series and was essential for long duration of action. This investigation indicated that quaternary ammonium salts were
    评价了一系列α-[((二芳基甲氧基)甲基] -1-哌啶乙醇在冠状动脉结扎狗模型中的抗心律失常活性。结构-活性关系研究表明,2,6-二甲基哌啶基团提供了该系列中最好的抗心律不齐药,并且对于长时间作用至关重要。该研究表明,季铵盐对于长时间的作用不是必需的。还显示出抗心律失常活性可以与由这种类型的药物引起的心动过速分开。
  • CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
    申请人:OSAKA UNIVERSITY
    公开号:EP3133444A1
    公开(公告)日:2017-02-22
    A chemically amplified resist material of the present invention is used in a process including: patternwise exposing a predetermined region of resist material film to ionizing radiation or nonionizing radiation; floodwise exposing the resist material film patternwise exposed to nonionizing radiation; baking the resist material film floodwise exposed; and developing resist material film to form a resist pattern, the chemically amplified resist material containing: (1) base component; and (2) a component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure, wherein the component (2) contains, among (a) a radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent, (b) a radiation-sensitive sensitizer generating agent, and (c) a radiation-sensitive acid generating agent: the components (a) and (b); the components (b) and (c); or all of the components (a) to (c), and wherein the component (b) contains a compound represented by formula (A).
    本发明的一种化学放大抗蚀剂材料用于一种工艺中,该工艺包括:将抗蚀剂材料薄膜的预定区域图案化暴露于电离辐射或非电离辐射中;将抗蚀剂材料薄膜图案化暴露于非电离辐射中;烘烤被图案化暴露的抗蚀剂材料薄膜;显影抗蚀剂材料薄膜以形成抗蚀剂图案,该化学放大抗蚀剂材料包含:(1)碱成分;和(2)能在曝光时生成辐射敏感敏化剂和酸的成分,其中成分(2)包含(a)辐射敏感酸和敏化剂生成剂,(b)辐射敏感敏化剂生成剂,和(c)辐射敏感酸生成剂:组分 (a) 和 (b);组分 (b) 和 (c);或组分 (a) 至 (c) 的全部,其中组分 (b) 包含式 (A) 所代表的化合物。
  • Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
    申请人:JSR CORPORATION
    公开号:US10018911B2
    公开(公告)日:2018-07-10
    A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.
    一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分,以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子,第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。
  • Photosensitization chemical-amplification type resist material, method for forming pattern using same, semiconductor device, mask for lithography, and template for nanoimprinting
    申请人:TOKYO ELECTRON LIMITED
    公开号:US10025187B2
    公开(公告)日:2018-07-17
    A photosensitization chemical-amplification type resist material according to the present invention is used for a two-stage exposure lithography process, and contains (1) a developable base component and (2) a component generating a photosensitizer and an acid through exposure. Among three components consisting of (a) an acid-photosensitizer generator, (b) a photosensitizer precursor, and (c) a photoacid generator, the above component contains only the component (a), any two components, or all of the components (a) to (c).
    根据本发明,一种光敏化学放大型抗蚀剂材料用于两阶段曝光光刻工艺,它包含(1)可显影碱成分和(2)通过曝光产生光敏剂和酸的成分。在由(a)酸-光敏剂发生器、(b)光敏剂前体和(c)光酸发生器组成的三个组件中,上述组件只包含(a)组件、任意两个组件或(a)至(c)的所有组件。
  • Coops et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1940, vol. 59, p. 1109,1111
    作者:Coops et al.
    DOI:——
    日期:——
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