8-methyl-8-t-butoxycarbonylmethoxycarbonyl-tetracyclo[4.4.0.1^2,5.1^7,10]dodec-3-ene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 8-methyl-8-t-butoxycarbonylmethoxycarbonyl-tetracyclo[4.4.0.1^2,5.1^7,10]dodec-3-ene
• 英文别名: 8-Methyl-8-t-butoxycarbonylmethoxycarbonyltetracyclo[4.4.0.12.5.17.10]dodec-3-ene；[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 4-methyltetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodec-9-ene-4-carboxylate
• 化学式: C₂₀H₂₈O₄
• 分子量: 332.44
• InChiKey: XWHDHLNIGJAUAF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  降冰片烯 、 、 5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯 、 tert-butyl 5-norbornene-2,3-dicarboxylate 、 5,6-Di(t-butoxycarbonylmethoxycarbonyl)norbornene 、 8-t-Butoxy-carbonyltetracyclo[4.4.0.12.5.17.10]dodec-3-ene 、 Tert-butyl 4-methyltetracyclo[6.2.1.13,6,02,7]dodec-9-ene-4-carboxylate 、 8-methyl-8-t-butoxycarbonylmethoxycarbonyl-tetracyclo[4.4.0.1^2,5.1^7,10]dodec-3-ene 生成 8,9-Di(tetrahydropyranyloxycarbonyl)tetracyclo[4.4.0.12,5.17,10]dodeca-3-ene
  参考文献：
  名称：

  Radiation sensitive resin composition

  摘要：

  本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，其包括（A）由表示为下式（1）或（2）的重复单元组成的共聚物所代表的树脂，以及（B）辐射敏感的酸发生剂。该辐射敏感树脂组合物具有优异的储存稳定性，由该组合物制成的抗蚀剂是一种化学放大型的对人工紫外线辐射敏感的抗蚀剂。该抗蚀剂对辐射具有高透明度，对于抗蚀剂的基本物理性质，如耐干法蚀刻性、灵敏度、分辨率和图案构造等方面均表现出优异的性能。

  公开号：

  US06403280B1

文献信息

• Radiation sensitive resin composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US06403280B1

  公开（公告）日：2002-06-11

  The present invention provides a radiation sensitive resin composition which comprises (A) a resin represented by a copolymer comprising recurring units represented by the general formulae (1) or (2) as shown below, and (B) a radiation sensitive acid-generator. The radiation sensitive resin composition has an excellent storage stability and the resist produced from the composition is a chemically amplifiable type sensitive to radiations represented by fartificial ultraviolet rays. The resist has a high transparency to radiations and it is excellent in basic physical properties for resist such as durability to dry etching, sensitivity, resolution, and pattern configuration:

  本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，其包括（A）由表示为下式（1）或（2）的重复单元组成的共聚物所代表的树脂，以及（B）辐射敏感的酸发生剂。该辐射敏感树脂组合物具有优异的储存稳定性，由该组合物制成的抗蚀剂是一种化学放大型的对人工紫外线辐射敏感的抗蚀剂。该抗蚀剂对辐射具有高透明度，对于抗蚀剂的基本物理性质，如耐干法蚀刻性、灵敏度、分辨率和图案构造等方面均表现出优异的性能。