双（2-羟基-5-五甲基）-4-甲基酚 | 1620-68-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 中文名称: 双（2-羟基-5-五甲基）-4-甲基酚
• 中文别名: 2,6-双(对甲酚-2-甲基)对甲酚；2,6-双(2-羟基-5-五甲基)-4-甲基酚；2,6-二(4-甲基苯酚-2-亚甲基)-4-甲基苯酚；2,6-双[(2-羟基-5-甲基苯基)甲基]-4-甲基苯酚；双(2-羟基-5-五甲基)-4-甲基酚
• 英文名称: 2,6-bis(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4-methylphenol
• 英文别名: 2,6-bis(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl-4-methylphenol；2,6-Bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol
• CAS: 1620-68-4
• 化学式: C₂₃H₂₄O₃
• mdl: MFCD00155175
• 分子量: 348.442
• InChiKey: MAQOZOILPAMFSW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  214 °C
• 沸点：
  533.7±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.191±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.8
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.217
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2907299090
• 储存条件：
  室温且干燥环境下使用。

SDS

2,6-双[(2-羟基-5-甲基苯基)甲基]-4-甲基苯酚 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： 2,6-Bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 2,6-双[(2-羟基-5-甲基苯基)甲基]-4-甲基苯酚
百分比： >98.0%(T)
CAS编码： 1620-68-4
俗名： 2,6-Bis(p-cresol-2-ylmethyl)-p-cresol
修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C23H24O3

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色-极淡的黄色
修改号码：5

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模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点：
214°C
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constaNT(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明
修改号码：5

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  双（2-羟基-5-五甲基）-4-甲基酚 在 chlorobis(ethylene)rhodium(I) dimer 、 氢气 、 对甲苯磺酸 、 三乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 乙腈 、 苯 为溶剂， 20.0~170.0 ℃ 、1.03 MPa 条件下， 反应 26.0h， 生成 2,6-Bis-<2-hydroxy-5-methyl-3-(2-hydroxy-5-methylbenzyl)-benzyl>-4-methylphenol
  参考文献：
  名称：

  2,2'-亚甲基二酚中无应变 C(芳基)–C(烷基)键的催化活化

  摘要：

  无应变和非极性 C-C 键的催化活化仍然是一个很大程度上未解决的挑战。在这里，我们描述了我们在开发铑催化氢解 2,2'-亚甲基二酚中无应变 C(芳基)-C(烷基)键的详细努力，并辅以可去除的定向基团。通过耐受广泛的官能团，获得了良好的单酚产品收率。此外，该反应具有可扩展性，催化剂负载量可降至 0.5 mol%。此外，该方法被证明可有效切割酚醛树脂和商用酚醛清漆树脂模型中的 C（芳基）-C（烷基）键。最后，详细的实验和计算机制研究表明，C-H 活化是一种竞争性但可逆的非循环反应，

  DOI：

  10.1021/jacs.1c13342
• 作为产物：
  描述：

  2,2'-亚甲基-双-(4-甲基苯酚) 在 盐酸 、 sodium hydroxide 作用下， 生成 双（2-羟基-5-五甲基）-4-甲基酚
  参考文献：
  名称：

  Maitland; Pepper, Journal of the Society of Chemical Industry, 1942, vol. 61, p. 66

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Resist lower-layer composition containing thermal acid generator, resist lower layer film-formed substrate, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20100119970A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  There is disclosed a resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, wherein the resist lower-layer composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and wherein the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid represented by the general formula (1) by heating at a temperature of 100° C. or higher. RCOO—CH 2 CF 2 SO 3 − H + (1) There can be provided a resist lower-layer composition in a multi-layer resist method (particularly, a two-layer resist method and a three-layer resist method), which composition is used to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film, which composition becomes insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and which composition is capable of forming a resist lower layer film, intermediate-layered film, and the like having a higher anti-poisoning effect and exhibiting a lower load to the environment.

  揭示了一种抗性下层组合物，配置为在光刻中使用的多层抗性方法中使用，用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，其中抗性下层组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，且抗性下层组合物至少包括用于通过在100°C或更高温度下加热生成由通式（1）表示的酸的热酸发生剂。 可以提供一种抗性下层组合物，用于多层抗性方法（特别是双层抗性方法和三层抗性方法），该组合物用于形成低于作为抗性上层膜的光刻胶层的一层，该组合物在形成下层后变得不溶解或难溶解于碱性显影剂中，并且该组合物能够形成具有更高抗毒性效果并表现出对环境负荷较低的抗性下层膜、中间层膜等。
• An Efficient Synthetic Approach to Substituted Trisphenols (Phloroglucide Analogues) Using Tungstosilicic Acid in Water
  作者：Reza Fareghi-Alamdari、Ali Khalafi-Nezhad、Negar Zekri

  DOI：10.1055/s-0033-1340681

  日期：——

  Abstract Tungstosilicic acid was found to be an efficient catalyst for the synthesis of trisphenols using the reaction of 2,6-bis(hydroxymethyl)phenols with phenols in an aqueous medium. The catalytic reactivity of tungstosilicic acid in boiling water was examined with a series of substrates, demonstrating that this catalyst is reactive in the presence of a variety of functionalities. Tungstosilicic acid

  摘要 发现钨硅酸是在水介质中使用2，6-双（羟甲基）苯酚与苯酚的反应合成三苯酚的有效催化剂。用一系列的底物检查了钨硅酸在沸水中的催化反应活性，表明该催化剂在多种官能团存在下具有反应性。 发现钨硅酸是在水介质中使用2，6-双（羟甲基）苯酚与苯酚的反应合成三苯酚的有效催化剂。用一系列的底物检查了钨硅酸在沸水中的催化反应活性，表明该催化剂在多种官能团存在下具有反应性。
• NOVEL TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC PARTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190169211A1

  公开（公告）日：2019-06-06

  The present invention has been made in view of the circumstances herein. An object of the present invention is to provide: a tetracarboxylic dianhydride which can lead to a polyimide usable as a base resin of a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern and obtaining high resolution without impairing excellent characteristics such as mechanical strength and adhesiveness; a polyimide resin obtained by using the tetracarboxylic dianhydride; and a method for producing the polyimide resin. The tetracarboxylic dianhydride is shown by the following general formula (1).

  本发明是基于本文中的情况而作出的。本发明的目的是提供：一种四羧酸二酐，可导致聚酰亚胺，作为感光树脂组合物的基树脂，能够形成细微图案并获得高分辨率，同时不损害优异的特性，如机械强度和粘附性；通过使用该四羧酸二酐获得的聚酰亚胺树脂；以及生产该聚酰亚胺树脂的方法。该四羧酸二酐由以下通用式（1）所示。
• Organic Silicon-Based Compound And Method Of Producing The Same
  申请人：Kikuchi Taketoshi

  公开号：US20070203275A1

  公开（公告）日：2007-08-30

  Provided are an organic silicon compound of the following formula (I): (wherein, R 1 to R 20 represent each independently alkyl, alkoxy, aryloxy, cycloalkyl, alkylcycloalkyl, aryl, dialkylamino or the like, and the aryloxy and aryl may be substituted with a substituent selected from the group consisting of alkyl, alkoxy and alkoxyalkyl.) which can be used for suppression of coloration and thermal deterioration of an organic material in molding, and an organic material composition containing the organic silicon compound and a method of producing the organic silicon compound.

  提供以下式(I)的有机硅化合物：（其中，R1到R20分别独立表示烷基、烷氧基、芳氧基、环烷基、烷基环烷基、芳基、二烷基氨基或类似物，芳氧基和芳基可被从烷基、烷氧基和烷氧基中选择的取代基所取代。）该化合物可用于抑制有机材料在成型过程中的着色和热降解，以及含有该有机硅化合物的有机材料组合物和生产该有机硅化合物的方法。
• [EN] USE OF 4-CYANO-NAPHTHALENE-1, 8-DICARBOXIMIDE DERIVATIVES AND RELATED COMPOUNDS TO PROTECT ORGANIC MATERIAL FROM THE DAMAGING EFFECTS OF LIGHT<br/>[FR] UTILISATION DE DERIVES 4-CYANO-NAPHTHALENE-1, 8-DICARBOXIMIDE ET COMPOSES ASSOCIES POUR LA PROTECTION DE MATIERE ORGANIQUE CONTRE LES EFFETS NUISIBLES DE LA LUMIERE
  申请人：BASF AG

  公开号：WO2005047265A1

  公开（公告）日：2005-05-26

  A description is given of the use of naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimides of the formula (I), in which R1 is hydrogen, alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, heterocycloalkyl, aryl or heteroaryl and R2 is a radical containing at least one π electron system containing a carbon atom and at least one further atom selected from carbon, oxygen, and nitrogen, with the proviso that the radical contains at least one atom other than carbon; to protect organic material from the damaging effects of light, of compositions which comprise at least one naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimide of the formula (I) in an amount which provides protection from the damaging effects of light, and at least one organic material, and of new naphthalene-1,8-dicarboxylic monoimides (I).

  描述了使用式(I)的萘-1,8-二羧酸单亚胺，其中R1是氢、烷基、烯基、环烷基、环烯基、杂环烷基、芳基或杂芳基，R2是一个含有至少一个π电子体系的基团，其中包含一个碳原子和至少一个来自碳、氧和氮的其他原子，但基团至少包含一个碳以外的原子；用于保护有机材料免受光的破坏作用的组合物的描述，该组合物包括至少一种式(I)的萘-1,8-二羧酸单亚胺，其含量提供了对光的破坏作用的保护，以及至少一种有机材料，以及新的萘-1,8-二羧酸单亚胺(I)。

表征谱图