咪唑 三氟甲磺酸盐 | 29727-06-8

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 磺酸盐/亚磺酸盐
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 中文名称: 咪唑 三氟甲磺酸盐
• 中文别名: 咪唑三氟甲磺酸盐；咪唑三氟甲磺酸酯
• 英文名称: imidazolium triflate
• 英文别名: imidazole triflate；imidazole trifluoromethanesulfonate；Imidazolium Trifluoromethanesulfonate；1H-imidazol-3-ium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 29727-06-8
• 化学式: CF₃O₃S*C₃H₅N₂
• 分子量: 218.157
• InChiKey: JNJFONBBNLVENC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  189-193 °C(lit.)
• 沸点：
  308.4 °C
• 稳定性/保质期：
  遵照规定使用和储存，则不会发生分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  91.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 海关编码：
  2933290090
• 安全说明：
  S26,S36
• WGK Germany：
  3
• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319,H335

SDS

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模块 1. 化学品
1.1 产品标识符
: 咪唑 三氟甲磺酸盐
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
Imidazolium triflate
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅用于研发。不作为药品、家庭或其它用途。

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模块 2. 危险性概述
2.1 GHS-分类
皮肤刺激 (类别 2)
眼睛刺激 (类别 2A)
特异性靶器官系统毒性（一次接触） (类别 3)
2.2 GHS 标记要素，包括预防性的陈述
象形图
警示词 警告
危险申明
H315 造成皮肤刺激。
H319 造成严重眼刺激。
H335 可能引起呼吸道刺激。
警告申明
预防措施
P261 避免吸入粉尘/烟/气体/烟雾/蒸气/喷雾.
P264 操作后彻底清洁皮肤。
P271 只能在室外或通风良好之处使用。
P280 穿戴防护手套/ 眼保护罩/ 面部保护罩。
事故响应
P302 + P352 如果皮肤接触：用大量肥皂和水清洗。
P304 + P340 如吸入: 将患者移到新鲜空气处休息，并保持呼吸舒畅的姿势。
P305 + P351 + P338 如与眼睛接触，用水缓慢温和地冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取
出，取出隐形眼镜，然后继续冲洗.
P312 如感觉不适，呼救中毒控制中心或医生.
P321 具体处置（见本标签上提供的急救指导）。
P332 + P313 如觉皮肤刺激：求医/就诊。
P337 + P313 如仍觉眼睛刺激：求医/就诊。
P362 脱掉沾污的衣服，清洗后方可再用。
安全储存
P403 + P233 存放于通风良的地方。 保持容器密闭。
P405 存放处须加锁。
废弃处置
P501 将内容物/ 容器处理到得到批准的废物处理厂。
2.3 其它危害物 - 无

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模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: Imidazolium triflate
别名
: C3H4N2 · CHF3O3S
分子式
: 218.15 g/mol
分子量
组分 浓度或浓度范围
Imidazole trifluoromethanesulfonate
<=100%
化学文摘登记号(CAS 29727-06-8
No.)

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模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
一般的建议
请教医生。 向到现场的医生出示此安全技术说明书。
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如呼吸停止,进行人工呼吸。 请教医生。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。 请教医生。
眼睛接触
用大量水彻底冲洗至少15分钟并请教医生。
食入
切勿给失去知觉者通过口喂任何东西。 用水漱口。 请教医生。
4.2 主要症状和影响，急性和迟发效应
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

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模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,抗乙醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

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模块 6. 泄露应急处理
6.1 作业人员防护措施、防护装备和应急处置程序
使用个人防护用品。 避免粉尘生成。 避免吸入蒸气、烟雾或气体。 保证充分的通风。
人员疏散到安全区域。 避免吸入粉尘。
6.2 环境保护措施
不要让产品进入下水道。
6.3 泄漏化学品的收容、清除方法及所使用的处置材料
收集和处置时不要产生粉尘。 扫掉和铲掉。 放入合适的封闭的容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

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模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
避免接触皮肤和眼睛。 避免形成粉尘和气溶胶。
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 使容器保持密闭，储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

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模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
根据良好的工业卫生和安全规范进行操作。 休息前和工作结束时洗手。
个体防护设备
眼/面保护
带有防护边罩的安全眼镜符合 EN166要求请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟)
检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
防渗透的衣服, 防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和数量来选择。
呼吸系统防护
如须暴露于有害环境中,请使用P95型(美国)或P1型(欧盟 英国
143)防微粒呼吸器。如需更高级别防护,请使用OV/AG/P99型(美国)或ABEK-P2型 (欧盟 英国 143)
防毒罐。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH（US）或CEN（EU）的呼吸器和零件。

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模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 固体
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/凝固点: 189 - 193 °C - lit.
f) 沸点、初沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸气压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 密度/相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

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模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不相容的物质
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

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模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞致突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（一次接触）
吸入 - 可能引起呼吸道刺激。
特异性靶器官系统毒性（反复接触）
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 通过皮肤吸收可能有害。 造成皮肤刺激。
眼睛 造成严重眼刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

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模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物累积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不良影响
无数据资料

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模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和不可回收的溶液交给有许可证的公司处理。
联系专业的拥有废弃物处理执照的机构来处理此物质。
与易燃溶剂相溶或者相混合，在备有燃烧后处理和洗刷作用的化学焚化炉中燃烧
受污染的容器和包装
按未用产品处置。

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模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国运输名称
欧洲陆运危规: 非危险货物
国际海运危规: 非危险货物
国际空运危规: 非危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 国际空运危规: 否
海洋污染物（是/否）: 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料

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模块 15 - 法规信息
N/A

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-octyn-2-one 、 咪唑 三氟甲磺酸盐 生成 6-Oktin-2-en-yltriflat
  参考文献：
  名称：

  乙烯基阳离子23三键参与三氟甲磺酸乙烯酯的溶剂分解

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)91108-0
• 作为产物：
  描述：

  咪唑 、 三氟甲烷磺酸甲酯 以 1-Methyl-4,5-diphenyl-2[(2-oxopropyl)thio]-imidazole 、 二氯甲烷 为溶剂， 生成 咪唑 三氟甲磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  Imidazole compounds and their use as transglutaminase inhibitors

  摘要：

  咪唑化合物，包括咪唑和咪唑盐，以及它们作为转谷氨酰胺酶抑制剂的用途被披露。

  公开号：

  US05030644A1
• 作为试剂：
  描述：

  4-(氯甲基)苯甲醛 在 咪唑 、 四丁基氟化铵 、 sodium hydride 、 咪唑 三氟甲磺酸盐 、 三氯乙酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 1,2-二氯乙烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 反应 7.74h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Efficient Preparation of Organic Substrate−RNA Conjugates via in Vitro Transcription

  摘要：

  A concise synthetic way has been developed for the preparation of guanosine monophosphate derivatives carrying a decaethylene glycol spacer at their 5'-oxygen to which are attached a range of organic substrates. The four different compounds, prepared via a convergent synthetic strategy, carry a tethered benzylallyl ether residue (1a), an anthracene (1b), a benzyl carbamate residue (1c), or a primary amino group (1d), respectively. All four compounds have been successfully incorporated at the T-end of a 25-mer long RNA transcript via T7 RNA polymerase, and no inhibition of chain elongation could be observed. Under proper conditions, 1a and 1b can be incorporated up to 90-95% and 1c up to 68%. The amino-terminated initiator Id is incorporated less efficiently although still up to 49%. These results show that the more hydrophobic the guanosine monophosphate derivative is, the higher is its enzymatic incorporation.

  DOI：

  10.1021/ja051179m

文献信息

• Ion transport in a class of imidazole-based liquid/solid protic ionics
  作者：Vincenzo Tricoli、Gabriele Orsini、Martina Anselmi

  DOI：10.1039/c2cp41027c

  日期：——

  A class of protic ionic-compounds were prepared by Brønsted acid–base reaction of imidazole or benzimidazole with one of the following acids: trifluoromethanesulfonic, nonafluorobutanesulfonic, para-toluenesulfonic and trifluoroacetic. Except those based on trifluoroacetic acid, all prepared compounds are thermally stable up to at least 270 °C. They are solid up to temperatures between 134 and 220 °C, depending on their constituent acid and base. A simple physico-mathematical model of ion motion in the lattice was developed and implemented to correctly interpret frequency-dependent electrical response of these materials, particularly in the solid state, and investigate their ion-conducting behavior as a function of temperature. These ionic compounds display sensible ionic conductivity up to ca. 5 × 10−4 and 5 × 10−2 S cm−1 in the solid and molten state, respectively, under fully anhydrous conditions. The presence of absorbed water, after brief exposure to an ambient atmosphere, enhances conduction properties remarkably. Conductivity values up to 10−3 and 10−1 S cm−1 were registered, respectively, in the solid and molten state, after short exposure to (humid) ambient air. It is argued how absorbed water molecules may remove protons from (ImH)+ or (BImH)+ groups, thereby enabling a chain mechanism of proton-hopping through non-protonated Im or BIm sites. It is discussed how these results and methods may inspire designing protic ionic-materials at the solid-state, with enhanced proton conduction even under fully-anhydrous conditions.

  通过咪唑或苯并咪唑与以下酸之一：三氟甲磺酸、九氟丁磺酸、对甲苯磺酸和三氟乙酸的布朗斯台德酸碱反应，制备了一系列质子型离子化合物。除基于三氟乙酸的化合物外，所有制备的化合物在至少270°C温度下均具有热稳定性。它们的固态温度范围为134至220°C，具体取决于所组成的酸和碱。开发并实施了一个简单的物理数学模型来解释这些材料在固态下频率依赖的电响应，并研究它们的离子导电行为随温度的变化。这些离子化合物在完全无水的条件下，分别在固态和熔融状态下显示出高达约5×10⁻⁴和5×10⁻² S/cm的合理离子电导率。短暂暴露于环境气氛后，吸附的水显著增强了传导性能。在短暂暴露于（湿润的）环境空气中后，分别在固态和熔融状态下记录到了高达10⁻³和10⁻¹ S/cm的电导率值。据推测，吸附的水分子可能从（ImH）⁺或（BImH）⁺基团中去除质子，从而通过非质子化的Im或BIm位点实现质子跳跃的链式机制。讨论了这些结果和方法如何启发在固态下设计具有增强质子传导性的质子型离子材料，即使在完全无水的条件下。
• Self-assembled structure and dynamics of imidazolium-based protic salts in water solution
  作者：Haijin Zhu、R. Vijayaraghavan、Douglas R. MacFarlane、Maria Forsyth

  DOI：10.1039/c8cp07254j

  日期：——

  increase with decreasing chain length. It is generally believed that a long alkyl chain length is essential for the formation of self-assembled structures. So far, no self-assembled structure has been reported for protic ionic liquids with an alkyl chain length of n < 4. This paper reports on the structure and dynamics of two imidazolium based protic organic salts with no alkyl chain or a methyl group (n

  含有带有长烷基链的阳离子的质子离子液体可在水，酸性水或四氢呋喃等中形成自组装的胶束，囊泡，微乳液和溶致液晶结构。由于这种独特的性质，它们被认为是一种新颖的类别两亲物，并且在胶体和界面化学领域中变得越来越重要。发现质子盐，例如烷基硝酸铵在水中的临界胶束浓度（CMC）随着链长的减少而增加。通常认为长的烷基链长度对于形成自组装结构是必不可少的。迄今为止，尚未报道烷基链长为n的质子离子液体的自组装结构。<4.本文报告了通过水溶液的NMR光谱分析和脉冲分析确定的两种不带烷基链或甲基（n = 1）附着在水溶液中的阳离子的咪唑基质子有机盐的结构和动力学。场梯度NMR数据。我们证明，这些不具有烷基链或烷基链短（n = 1）的咪唑阳离子可以在水溶液中形成自组装的簇结构，这对咪唑分子离子的扩散行为有很大的影响。据推测，这种自组装结构可能存在于具有短烷基链的离子液体的其他类似溶液中。
• RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICONE HAVING ONIUM GROUP
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US20110143149A1

  公开（公告）日：2011-06-16

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hard mask or a bottom anti-reflective coating, or a resist underlayer film causing no intermixing with a resist and having a dry etching rate higher than that of the resist. A film forming composition comprising a silane compound having an onium group, wherein the silane compound having an onium group is a hydrolyzable organosilane having, in a molecule thereof, an onium group, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The composition uses as a resist underlayer film forming composition for lithography. A composition comprising a silane compound having an onium group, and a silane compound having no onium group, wherein the silane compound having an onium group exists in the whole silane compound at a ratio of less than 1% by mol, for example 0.01 to 0.95% by mol. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula: R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4-(a+b) . A resist underlayer film obtained by applying the composition as claimed in any one of claims 1 to 14 onto a semiconductor substrate and by baking the composition.

  提供了一种用于光刻的抗阻底层膜成分，用于形成可用作硬掩模或底部防反射涂层的抗阻底层膜，或者是不与抗阻混合并具有比抗阻更高的干法蚀刻速率的抗阻底层膜。该膜形成成分包括具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物是具有水解性的有机硅烷，其分子中具有onium基团、其水解产物或其水解缩合产物。该成分用作光刻的抗阻底层膜形成成分。一种成分包括具有onium基团的硅烷化合物和不具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物在整个硅烷化合物中的比例小于1摩尔％，例如为0.01至0.95摩尔％。该水解性有机硅烷可以是式：R1aR2bSi（R3）4-（a + b）的化合物。通过将所述任一权利要求1至14中的任一成分应用于半导体基板并烘烤所述成分，可以获得抗阻底层膜。
• Resist underlayer film forming composition containing silicone having onium group
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US08864894B2

  公开（公告）日：2014-10-21

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hard mask or a bottom anti-reflective coating, or a resist underlayer film causing no intermixing with a resist and having a dry etching rate higher than that of the resist. A film forming composition comprising a silane compound having an onium group, wherein the silane compound having an onium group is a hydrolyzable organosilane having, in a molecule thereof, an onium group, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The composition uses as a resist underlayer film forming composition for lithography. A composition comprising a silane compound having an onium group, and a silane compound having no onium group, wherein the silane compound having an onium group exists in the whole silane compound at a ratio of less than 1% by mol, for example 0.01 to 0.95% by mol. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula: R1aR2bSi(R3)4−(a+b). A resist underlayer film obtained by applying the composition as claimed in any one of claims 1 to 14 onto a semiconductor substrate and by baking the composition.

  提供一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，用于形成可用作硬掩膜或底部抗反射涂层的抗蚀底层膜，或者不与光刻胶混合且具有比光刻胶更高的干法刻蚀速率的抗蚀底层膜。该组合物包括具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，在其分子中具有onium基团、其水解产物或其水解缩合产物。该组合物用作光刻的抗蚀底层膜形成组合物。该组合物包括具有onium基团的硅烷化合物和不具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物在整个硅烷化合物中的比例小于1%摩尔，例如0.01至0.95%摩尔。可水解的有机硅烷可以是公式的化合物：R1aR2bSi（R3）4-（a+b）。通过将所述组合物按权利要求1至14中的任一项涂覆到半导体基片上并烘烤所得到的抗蚀底层膜。
• Dabkowski, Wojciech; Michalski, Jan; Skrzypczynski, Zbigniew, Chemische Berichte, 1985, vol. 118, # 5, p. 1809 - 1824
  作者：Dabkowski, Wojciech、Michalski, Jan、Skrzypczynski, Zbigniew

  DOI：——

  日期：——