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1,1,1-三氟癸烷-2,4-二酮 | 332-82-1

中文名称
1,1,1-三氟癸烷-2,4-二酮
中文别名
——
英文名称
1,1,1-trifluoro-2,4-decanedione
英文别名
1,1,1-trifluoro-decane-2,4-dione;1,1,1-Trifluor-decan-2,4-dion;1,1,1-Trifluorodecane-2,4-dione
1,1,1-三氟癸烷-2,4-二酮化学式
CAS
332-82-1
化学式
C10H15F3O2
mdl
——
分子量
224.223
InChiKey
UVLGAJSKYICIQF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.4
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.8
  • 拓扑面积:
    34.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

安全信息

  • 海关编码:
    2914700090

SDS

SDS:70e3472ce1ef560a8f4a526f309cc6cb
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,1,1-三氟癸烷-2,4-二酮苯肼硫酸 作用下, 以 乙醇 为溶剂, 生成 3-hexyl-1-phenyl-5-trifluoromethylpyrazole 、 5-hexyl-1-phenyl-3-trifluoromethylpyrazole
    参考文献:
    名称:
    吡唑的形成:动力学、取代基效应和机制途径的检查
    摘要:
    使用 19F NMR 光谱研究了 1,3-二酮 1a-o 与选定的芳基肼(芳基 = Ph、4-NO2Ph、4-CH3OPh 和 2,4-diNO2Ph)缩合的反应动力学。产物的区域选择性受反应物比例、取代基和酸度的调节。发现反应速率受二酮和苯肼上的取代基以及反应介质酸度的影响,速率变化高达 1000 倍。确定了这些环化的 Hammett ρ 值。发现该反应在二酮和芳基肼中都是一级反应。吡唑形成的速率决定步骤随着 pH 值的变化而变化。提出了支持这些发现的机制细节和反应途径。© 2008 Wiley Periodicals, Inc. Int J Chem Kinet 40: 370–383, 2008
    DOI:
    10.1002/kin.20316
  • 作为产物:
    描述:
    三氟乙酸乙酯仲辛酮sodium methylate 作用下, 以 乙醚 为溶剂, 反应 0.08h, 生成 1,1,1-三氟癸烷-2,4-二酮
    参考文献:
    名称:
    氟化杂环的合成
    摘要:
    将选定的在2位具有三氟甲基和/或氟的1,3-二酮与芳族肼,羟胺,尿素,硫脲,胍和取代的苯胺缩合,分别生成吡唑,异恶唑,嘧啶和喹啉。产率从27%到87%。
    DOI:
    10.1016/s0022-1139(02)00221-x
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文献信息

  • Synthesis of fluorinated heterocycles
    作者:Joseph C. Sloop、Carl L. Bumgardner、W.David Loehle
    DOI:10.1016/s0022-1139(02)00221-x
    日期:2002.12
    Selected 1,3-diketones having a trifluoromethyl group and/or a fluorine in the 2-position were condensed with aromatic hydrazines, hydroxylamine, urea, thiourea, guanidine, and substituted anilines producing pyrazoles, isoxazoles, pyrimidines, and quinolines, respectively, in yields ranging from 27 to 87%.
    将选定的在2位具有三氟甲基和/或氟的1,3-二酮与芳族肼,羟胺,尿素,硫脲,胍和取代的苯胺缩合,分别生成吡唑,异恶唑,嘧啶和喹啉。产率从27%到87%。
  • Conductive material and substrate
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US10023752B2
    公开(公告)日:2018-07-17
    The present invention provides a conductive material including: (A) a π-conjugated polymer, (B) a dopant polymer which contains one or more repeating units selected from “a1” to “a4” respectively shown by the following general formula (1) and has a weight-average molecular weight in the range of 1,000 to 500,000, and (C) one or more salts selected from the group consisting of a monovalent copper salt of carboxylic acid, a monovalent copper salt of β-diketone, and a monovalent copper salt of β-ketoester. There can be provided a conductive material that has excellent film-formability and also can form a conductive film having high transparency and conductivity, superior flexibility and flatness when the film is formed from the material.
    本发明提供了一种导电材料,包括(A) π-共轭聚合物;(B) 掺杂聚合物,其含有一个或多个如下通式(1)所示分别选自 "a1 "至 "a4 "的重复单元,且其重量平均分子量在 1,000 至 500,000 之间;以及 (C) 一种或多种盐,其选自由羧酸的一价铜盐、β-二酮的一价铜盐和β-酮酯的一价铜盐组成的组。本发明可提供一种导电材料,该材料具有优异的成膜性,并可形成具有高透明度和导电性的导电薄膜,在由该材料形成薄膜时,还具有优异的柔韧性和平整度。
  • Some New β-Diketones Containing the Trifluoromethyl Group<sup>1a</sup>
    作者:J. C. Reid、M. Calvin
    DOI:10.1021/ja01163a038
    日期:1950.7
  • CONDUCTIVE MATERIAL AND SUBSTRATE
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20170130070A1
    公开(公告)日:2017-05-11
    The present invention provides a conductive material including: (A) a π-conjugated polymer, (B) a dopant polymer which contains one or more repeating units selected from “a1” to “a4” respectively shown by the following general formula (1) and has a weight-average molecular weight in the range of 1,000 to 500,000, and (C) one or more salts selected from the group consisting of a monovalent copper salt of carboxylic acid, a monovalent copper salt of β-diketone, and a monovalent copper salt of β-ketoester. There can be provided a conductive material that has excellent film-formability and also can form a conductive film having high transparency and conductivity, superior flexibility and flatness when the film is formed from the material.
  • US4320149A
    申请人:——
    公开号:US4320149A
    公开(公告)日:1982-03-16
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