作者:Afsaneh Pilevar、Abolfazl Hosseini、Marina Šekutor、Heike Hausmann、Jonathan Becker、Kevin Turke、Peter R. Schreiner
DOI:10.1021/acs.joc.8b01392
日期:2018.9.7
demanding cyclic peroxide (spiro[bicyclo[2.2.1]heptane-2,4′-[1,2]dioxolane]-3′,5′-dione, P4) for the direct hydroxylation of aromatic substrates. The new peroxide benefits from high thermal stability and can be synthesized from readily available starting materials. The aromatic C–H oxidation using P4 exhibits generally good yields (up to 96%) and appreciable regioselectivities.
从聚合物到药物,许多化学研究领域中的酚部分都是关键的结构基序。在此,我们报告了结构上苛刻的环状过氧化物(螺[双环[2.2.1]庚烷-2,4'-[1,2]二氧戊环] -3',5'-二酮,P4)的设计和使用。芳族底物的直接羟基化。新的过氧化物具有高的热稳定性,可以由容易获得的起始原料合成。使用P4进行的芳族CH氧化通常显示出良好的产率(高达96%)和可观的区域选择性。