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Methyl 16-heptadecenoate | 62735-47-1

中文名称
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中文别名
——
英文名称
Methyl 16-heptadecenoate
英文别名
Δ16-Heptadecensaeuremethylester;16-Heptadecenoic acid, methyl ester;methyl heptadec-16-enoate
Methyl 16-heptadecenoate化学式
CAS
62735-47-1
化学式
C18H34O2
mdl
——
分子量
282.467
InChiKey
JCICNXVCLRNHGW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    120-125 °C(Press: 0.2 Torr)
  • 密度:
    0.871±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.4
  • 重原子数:
    20
  • 可旋转键数:
    16
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

SDS

SDS:f3c7844054443cfd924316dcb4fd4c94
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    Methyl 16-heptadecenoate 在 lithium aluminium tetrahydride 、 偶氮二异丁腈三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃正己烷 为溶剂, 反应 16.0h, 生成
    参考文献:
    名称:
    金和银基底上半氟化链烷硫醇自组装单分子层的结构
    摘要:
    由半氟化链烷硫醇(SFAT)CF 3(CF 2)9(CH 2)n形成的自组装单分子层(SAMs)通过X射线光电子能谱,红外反射吸收光谱和近边缘X射线吸收精细结构光谱对多晶Au和Ag上的SH(F10HnSH:n = 2、11和17)进行了表征。发现SFAT在两种基材上均形成高度有序且密堆积的SAM。分子以与常规链烷硫醇(AT)SAM相同的方式,通过其硫头基团牢固地键合到基质上。吸附的SFAT的碳氢化合物(n = 2除外)和碳氟化合物部分保留了预期的各个散装材料的平面之字形和螺旋形构象。碳氟化合物链的方向不取决于基材。这些实体在F10H2S / Au和F10H2S / Ag中几乎垂直于底物,并且在具有更长烃基的SFAT SAM中变得稍微倾斜一些。然而,尽管与常规AT SAM相比,SFAT膜的堆积密度降低,但SFAT膜的烷基部分仍具有与Ag和Au基底上的常规链烷硫醇膜相似的倾斜角和扭曲角。我们建
    DOI:
    10.1560/0k18-2rla-gaqd-nhru
  • 作为产物:
    描述:
    16-羟基棕榈酸 在 dimsylsodium 、 对甲苯磺酸pyridinium chlorochromate 作用下, 以 甲醇二氯甲烷二甲基亚砜 为溶剂, 20.0~40.0 ℃ 、2.67 kPa 条件下, 反应 21.5h, 生成 Methyl 16-heptadecenoate
    参考文献:
    名称:
    金和银基底上半氟化链烷硫醇自组装单分子层的结构
    摘要:
    由半氟化链烷硫醇(SFAT)CF 3(CF 2)9(CH 2)n形成的自组装单分子层(SAMs)通过X射线光电子能谱,红外反射吸收光谱和近边缘X射线吸收精细结构光谱对多晶Au和Ag上的SH(F10HnSH:n = 2、11和17)进行了表征。发现SFAT在两种基材上均形成高度有序且密堆积的SAM。分子以与常规链烷硫醇(AT)SAM相同的方式,通过其硫头基团牢固地键合到基质上。吸附的SFAT的碳氢化合物(n = 2除外)和碳氟化合物部分保留了预期的各个散装材料的平面之字形和螺旋形构象。碳氟化合物链的方向不取决于基材。这些实体在F10H2S / Au和F10H2S / Ag中几乎垂直于底物,并且在具有更长烃基的SFAT SAM中变得稍微倾斜一些。然而,尽管与常规AT SAM相比,SFAT膜的堆积密度降低,但SFAT膜的烷基部分仍具有与Ag和Au基底上的常规链烷硫醇膜相似的倾斜角和扭曲角。我们建
    DOI:
    10.1560/0k18-2rla-gaqd-nhru
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文献信息

  • Interfacial chemistry on carboxylate‐functionalized monolayer assemblies
    作者:Olga Gershevitz、Alina Osnis、Chaim N. Sukenik
    DOI:10.1560/98pr-ajy7-7jle-63yq
    日期:2005.6
    trichlorosilanes with ester groups at their remote termini provides a convenient entry to carboxylic acid-bearing siloxane-anchored self-assembled monolayers. The de-esterification of these esters has been optimized to minimize monolayer damage, and their quantitative re-esterification provides clear evidence for the stability of these systems. Both the structure of the ester-terminated monolayer and its de-
    在其远端具有酯基的三氯硅烷的沉积为进入含羧酸的硅氧烷锚定的自组装单层提供了便利。这些酯的去酯化已进行了优化,以最大程度地减少单层损坏,并且它们的定量再酯化为这些系统的稳定性提供了明确的证据。酯封端的单分子层的结构及其去酯化/酯化化学反应均可通过FTIR-ATR测量轻松监控。该光谱仪与可在水性环境中测量IR光谱的液体池一起,可对含羧酸的硅氧烷锚定的自组装单分子层进行详细的结构分析,并评估其酸/碱行为(通过原位滴定)。使用D 2原位滴定实验中用O代替H 2 O也可以改善可用的IR窗口。可以看到单体和二聚/低聚酸基团,并且可以直接监测这些不同种类的去质子化的相对容易性。仅氢键合至周围水分子的烷基羧酸单体的ap K a = 4.9,而聚集分子的p K a为9.3。对于表面结合的苯甲酸,观察到类似的行为,其中两个p K a值为4.7和9.0。温度对这些结构及其化学性质的影响也已在有限的范围内进行了研究。当烷基羧酸体系冷却至10°C时,p
  • Dolgopalets; Volkov; Kisel', Russian Journal of Organic Chemistry, 1999, vol. 35, # 10, p. 1436 - 1438
    作者:Dolgopalets、Volkov、Kisel'、Kozhevko、Kulinkovich
    DOI:——
    日期:——
  • In Situ FTIR-ATR Analysis and Titration of Carboxylic Acid-Terminated SAMs
    作者:Olga Gershevitz、Chaim N. Sukenik
    DOI:10.1021/ja037610u
    日期:2004.1.1
    FTIR-ATR measurements permit detailed structural analysis and in situ titration of carboxylate-terminated self-assembled monolayers. Both monomeric and dimeric/oligomeric acid groups are seen, and their acid-base behavior is directly monitored. Monomers that are hydrogen bonded only to surrounding water molecules have a pKa = 4.9, while the pKa for the aggregated molecules is 9.3.
  • BOULOUSSA, O.;DENHEZ, J. P.;DIZABO, P., J. LABELLED COMPOUNDS AND RADIOPHARM, 1986, 23, N 2, 127-135
    作者:BOULOUSSA, O.、DENHEZ, J. P.、DIZABO, P.
    DOI:——
    日期:——
  • シラン化合物
    申请人:ダイキン工業株式会社
    公开号:JP2024025757A
    公开(公告)日:2024-02-26
    【課題】摩擦耐久性と指紋拭き取り性の両方をバランスよく備えた表面処理層を形成することができる化合物の提供。【解決手段】下記式(1)[式中:R1は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないSi原子を1つ以上含む1価の基であり、X1は、炭素数11以上のアルキレン基を含む2価の有機基であり、RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。]で表される化合物。 TIFF 2024025757000073.tif 13 58 【選択図】なし
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