降冰片烷-2-基丙-2-烯酸酯 | 10027-06-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 降冰片烷-2-基丙-2-烯酸酯
• 英文名称: norbornyl acrylate
• 英文别名: Acrylic acid, 2-norbornyl ester；2-bicyclo[2.2.1]heptanyl prop-2-enoate
• CAS: 10027-06-2
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• 分子量: 166.22
• InChiKey: IQYMRQZTDOLQHC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  237.58°C (rough estimate)
• 密度：
  1.0182 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险品标志：
  Xn
• 危险类别码：
  R43,R21,R38
• 海关编码：
  2916129000

上下游信息

• 上游原料

  中文名称	英文名称	CAS号	化学式	分子量
  6-双环[2.2.1]庚基乙酸酯	2-Norbonylacetat	34640-76-1	C9H14O2	154.209

• 下游产品

  中文名称	英文名称	CAS号	化学式	分子量
  ——	2-Bicyclo[2.2.1]heptanyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate	——	C15H20O2	232.323

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二聚环戊二烯 、 降冰片烷-2-基丙-2-烯酸酯 在 吩噻嗪 作用下， 170.0 ℃ 、100.0 kPa 条件下， 反应 1.0h， 生成 2-Bicyclo[2.2.1]heptanyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  一种环烯烃化合物及其制备方法和应用

  摘要：

  本发明涉及一种环烯烃化合物及其制备方法和应用，所述环烯烃化合物的结构如式(Ⅰ)所示，其中，R1、R2、R3独立地选自H或CH3；k选自0或1。本发明所涉及的上述环烯烃单体是一种含单桥或者双桥环酯基的降冰片烯衍生物，其取代基为具有单桥或者双桥环的酯基，其特殊的结构赋予单体较强的刚性及空间位阻；与常见的环烯烃化合物如降冰片烯、双环戊二烯相比，具有更大体积的取代基，与乙烯共聚后，在相同环烯烃单体的嵌入率下，共聚物将表现出更高的玻璃化转变温度，更好的耐热性。

  公开号：

  CN112661640A
• 作为产物：
  描述：

  6-双环[2.2.1]庚基乙酸酯 在 甲醇 、 水 、 potassium thioacyanate 、 4-甲氧基苯酚 、 potassium hydroxide 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 7.5h， 生成 降冰片烷-2-基丙-2-烯酸酯
  参考文献：
  名称：

  一种带桥环结构（甲基）丙烯酸酯的制备方法

  摘要：

  本发明涉及一种带桥环结构（甲基）丙烯酸酯的制备方法，通过三步反应合成，首先利用饱和脂肪酸与桥环烯烃或其衍生物进行直接加成，精馏提纯，去除桥环烯烃自聚产生的副产物；然后进行水解，得到对应的桥环醇或其衍生物；最后利用（甲基）丙烯酸甲酯与之进行酯交换反应得到带桥环结构（甲基）丙烯酸酯。本发明制备方法简单，步骤易于操作，通过三步反应得到目标产物且收率高，克服了直接酯化工艺精馏过程要求高、收率低的缺点，产品残留环烯烃单体含量低，应用于树脂合成时，可明显改善树脂黄变以及粘度增加的缺点。

  公开号：

  CN108299194A

文献信息

• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2016124493A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).

  化合物的化学式（I）和（IA），其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素环的第7位，为OR8；R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基；R4为氢；R8为C1-C6烷基，适用于作为感光酸给体，用于制备光刻胶组合物，例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器（LCD）的制备。
• [EN] SULFONIUM DERIVATIVES AND THE USE THEROF AS LATENT ACIDS<br/>[FR] DÉRIVÉS DE SULFONIUM ET LEUR UTILISATION EN TANT QU'ACIDES LATENTS
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2010046240A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  Compounds of the formula (I), wherein Ar1 is for example phenylene or biphenylene both unsubstituted or substituted; Ar2 and Ar3 are for example independently of each other phenyl, naphthyl, biphenylylyl or heteroaryl, all optionally substituted; or Ar1 and Ar2 for example together with a direct bond, O, S or (CO), form a fused ring system; R is for example hydrogen, C3-C30cycloalkyl or C1-C18alkyl; and R1, R2 and R3 independently of each other are for example C1-C10haloalkyl; are effective photoacid generators (PAG).

  化合物的公式（I），其中Ar1例如是未取代或取代的苯基或联苯基; Ar2和Ar3例如是独立的苯基，萘基，联苯基或杂环基，均可选取代; 或者例如Ar1和Ar2与直接键，O，S或（CO）一起形成融合的环系统; R例如是氢，C3-C30环烷基或C1-C18烷基; R1，R2和R3独立地例如是C1-C10卤代烷基; 是有效的光酸发生剂（PAG）。
• Latent acids and their use
  申请人：Yamato Hitoshi

  公开号：US20110217654A1

  公开（公告）日：2011-09-08

  The invention pertains to a compound generating an acid of the formula I or II, for instance corresponding sulfonium and iodonium salts, as well as corresponding sulfonyloximes wherein X is CH 2 or CO; Y is O, NR 4 , S, O(CO), O(CO)O, O(CO)NR 4 , OSO 2 , O(CS), or O(CS)NR 4 ; R 1 is for example C 1 -C 18 alkyl, C 1 -C 10 haloalkyl, C 2 -C 12 alkenyl, C 4 -C 30 cycloalkenyl, phenyl-C 1 -C 3 -alkyl, C 3 -C 30 cycloalkyl, C 3 -C 30 cycloalkyl-C 1 -C 18 alkyl, interrupted C 2 -C 18 alkyl, interrupted C 3 -C 30 cycloalkyl, interrupted C 3 -C 30 cycloalkyl-C 1 -C 18 alkyl, interrupted C 4 -C 30 cycloalkenyl, phenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, biphenylyl, fluorenyl or heteroaryl, all unsubstituted or are substituted; or R 1 is NR 12 R 13 ; R 2 and R 3 are for example C 3 -C 30 cycloalkylene, C 3 -C 30 cycloalkyl-C 1 -C 18 alkylene, C 1 -C 18 alkylene, C 1 -C 10 haloalkylene, C 2 -C 12 alkenylene, C 4 -C 30 cycloalkenylene, phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, biphenylene or heteroarylene; all unsubstituted or substituted; R 4 is for example C 3 -C 30 cycloalkyl, C 3 -C 30 cycloalkyl-C 1 -C 18 alkyl, C 1 -C 18 alkyl, C 1 -C 10 haloalkyl, C 2 -C 12 alkenyl, C 4 -C 30 cycloalkenyl, phenyl-C 1 -C 3 -alkyl; R 12 and R 13 are for example C 3 -C 30 cycloalkyl, C 3 -C 30 cycloalkyl-C 1 -C 18 alkyl, C 1 -C 18 alkyl, C 1 -C 10 haloalkyl, C 2 -C 12 alkenyl, C 4 -C 30 cycloalkenyl, phenyl-C 1 -C 3 -alkyl, Ar, (CO)R 15 , (CO)OR 15 or SO 2 R 15 ; and Ar is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl or heteroaryl, all unsubstituted or substituted.

  本发明涉及一种生成公式I或II的酸的化合物，例如对应的磺鎓盐和碘鎓盐，以及对应的磺酰氧肟，其中X为CH2或CO；Y为O、NR4、S、O（CO）、O（CO）O、O（CO）NR4、OSO2、O（CS）或O（CS）NR4；R1例如为C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3-烷基、C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C2-C18烷基、中断的C3-C30环烷基、中断的C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C4-C30环烯基、苯基、萘基、蒽基、菲基、苯并二氢呋喃基或杂环基，全部未取代或被取代；或R1为NR12R13；R2和R3例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯基、苯基、萘基、蒽基、菲基、苯并二氢呋喃基或杂环基，全部未取代或被取代；R4例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3-烷基；R12和R13例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3-烷基、Ar、（CO）R15、（CO）OR15或SO2R15；Ar为苯基、苯并二氢呋喃基、菲基、萘基、蒽基、苯并蒽基或杂环基，全部未取代或被取代。
• Chemical amplifying type positive resist composition
  申请人：——

  公开号：US20020168583A1

  公开（公告）日：2002-11-14

  A chemical amplifying type positive resist composition, excellent in balance of performance of resolution and sensitivity, having high dry etching resistance and comprising; a resin having a polymerization unit derived from a monomer represented by the following formula (I): 1 wherein R 1 and R 2 independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbons, and R 3 represents hydrogen or a methyl group, the resin being insoluble in alkali itself but becoming alkali-soluble due to the action of an acid; and an acid generating agent is provided.

  一种化学放大型正向光刻胶组合物，其在分辨率和灵敏度性能平衡方面表现出色，具有高干法蚀刻抗性，包括：具有由以下式（I）表示的单体衍生的聚合单元的树脂：1其中R1和R2独立地表示氢或具有1至4个碳的烷基，而R3表示氢或甲基，该树脂本身不溶于碱性物质，但由于酸的作用而变得碱性可溶性；并提供酸发生剂。
• Oxime sulfonates and the use thereof as latent acids
  申请人：Yamato Hitoshi

  公开号：US20100167178A1

  公开（公告）日：2010-07-01

  Compounds of the formula (I), (II) or (III), wherein R 1 is for example C 1 -C 18 alkylsulfonyl, C 1 -C 10 haloalkylsulfonyl, camphorylsulfonyl, phenyl-C 1 -C 3 alkylsulfonyl, phenylsulfonyl, naphthylsulfonyl, anthrylsulfonyl, phenanthrylsulfonyl or heteroarylsulfonyl, R′ 1 is for example phenylenedisulfonyl, R 2 is for example CN, C 1 -C 10 haloalkyl or C 1 -C 10 haloalkyl which is substituted by (IV); Ar 1 is for example phenyl optionally substituted by a group of formula (IV); Ar′ 1 is for example phenylene which optionally is substituted by a group of formula (IV); A 1 , A 2 and A 3 independently of each other are for example hydrogen, halogen, CN, or C 1 -C 18 alkyl; D 2 is for example a direct bond, O, (CO)O, (CO)S, SO 2 , OSO 2 or C 1 -C 18 alkylene; or A 3 and D 2 together form C 3 -C 30 cycloalkenyl; or A 2 and D 2 together with the carbon of the ethylenically unsaturated double bond to which they are attached form C 3 -C 30 cycloalkyl; D 3 and D 4 for example independently of each other are a direct bond, O, S, C 1 -C 18 alkylene or C 3 -C 30 cycloalkylene provided that at least one of the radicals R 2 , Ar 1 or Ar′ 1 comprises a group of the formula (IV); are suitable as photolatent acid donors and for the preparation of corresponding polymers to be employed in chemically amplified photoresists.

  化合物的公式为（I），（II）或（III），其中R1例如为C1-C18烷基磺酰基，C1-C10卤代烷基磺酰基，樟脑磺酰基，苯基-C1-C3烷基磺酰基，苯基磺酰基，萘基磺酰基，蒽基磺酰基，菲磺酰基或杂环芳基磺酰基，R'1例如为苯基二磺酰基，R2例如为CN，C1-C10卤代烷基或被（IV）取代的C1-C10卤代烷基；Ar1例如为苯基，可选地被公式（IV）的基团取代；Ar'1例如为苯基，可选地被公式（IV）的基团取代；A1，A2和A3独立地例如为氢，卤素，CN或C1-C18烷基；D2例如为直接键，O，（CO）O，（CO）S，SO2，OSO2或C1-C18烷基；或A3和D2一起形成C3-C30环烯基；或A2和D2与它们所附着的乙烯基双键的碳一起形成C3-C30环烷基；D3和D4例如独立地为直接键，O，S，C1-C18烷基或C3-C30环烷基，至少其中之一的基团R2，Ar1或Ar'1包含公式（IV）的基团，适用作光激发酸给体，并用于制备相应的聚合物，以用于化学增强型光刻胶。