Copper Methanesulfonate | 54253-62-2

• 物质功能分类: 有机原料 - 有机金属盐
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: Copper Methanesulfonate
• 英文别名: copper;methanesulfonate
• CAS: 54253-62-2
• 化学式: C2H6CuO6S2
• 分子量: 253.7
• InChiKey: BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L

物化性质

• 密度：
  1.88[at 20℃]
• LogP：
  -3 at 21℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.68
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  131
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 危险品标志：
  N,Xn
• 安全说明：
  S26,S36/37/39,S60,S61
• 危险类别码：
  R22

制备方法与用途

用途：适用于电镀及电子行业。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  甲烷磺酸 、 氢氧化铜 以 乙醇 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 Copper Methanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  NEAR-INFRARED-RAY-ABSORBING COMPOSITION, NEAR-INFRARED-RAY CUT FILTER USING SAME, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, CAMERA MODULE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR

  摘要：

  提供了一种近红外光吸收组合物，当产生固化膜时具有强大的近红外屏蔽性能，以及一种近红外光切割滤光片、其制造方法、相机模块以及其制造方法。该近红外光吸收组合物包括通过将至少具有两个配位位点的化合物（A）与铜组分反应而获得的铜配合物。

  公开号：

  US20160037034A1

文献信息

• COPPER ELECTROPLATING COMPOSITION
  申请人：Lai Chien-Hsun

  公开号：US20120175744A1

  公开（公告）日：2012-07-12

  The present invention relates to a copper electroplating composition comprising a copper alkanesulfonate salt, a free alkanesulfonic acid, and one or more organic compounds selected from the group consisting of suppressors, accelerators, levelers, and mixtures thereof, in which the concentration of free acid is from 0 M to about 0.25 M and the composition is free of halide ions. The present invention also relates to a process of metalizing micro-sized trenches or vias in a substrate using the composition.

  本发明涉及一种铜电镀组合物，包括铜烷基磺酸盐、自由烷基磺酸和从抑制剂、加速剂、平整剂和其混合物中选择的一种或多种有机化合物，其中自由酸的浓度从0 M到约0.25 M，且该组合物不含卤化物离子。本发明还涉及使用该组合物金属化基板中微小沟槽或孔道的过程。
• HIGH-PURITY AQUEOUS COPPER SULFONATE SOLUTION AND METHOD OF PRODUCING SAME
  申请人：Sekiguchi Junnosuke

  公开号：US20120174827A1

  公开（公告）日：2012-07-12

  An object of the present invention is to provide a high-purity aqueous copper sulfonate solution and a simplified method of producing this solution. The aqueous copper sulfonate solution of the present invention is characterized in that the copper concentration therein is at least 90 g/L, the content of metal impurities is less than 10 mg/L as metal for each metal impurity, the content of chlorine is less than 10 mg/L, and the sulfonic acid is a sulfonic acid represented by the following general formula R—(SO 3 H) n (in the formula, R represents a lower alkyl group, lower alkylidene group, lower alkylene group, or hydroxyalkyl group and n represents 1 or 2).

  本发明的目的是提供一种高纯度的水溶性苯磺酸铜溶液及其简化的制备方法。本发明的水溶性苯磺酸铜溶液的特点在于其中铜的浓度至少为90 g/L，金属杂质的含量小于每种金属的10 mg/L，氯的含量小于10 mg/L，且磺酸是由下列通式表示的磺酸R—(SO3H)n（在式中，R代表低碳基、低碳基烯基、低碳基烷基或羟基烷基，n代表1或2）。
• High-purity aqueous copper sulfonate solution and method of producing same
  申请人：JX Nippon Mining & Metals Corporation

  公开号：US08333834B2

  公开（公告）日：2012-12-18

  An object of the present invention is to provide a high-purity aqueous copper sulfonate solution and a simplified method of producing this solution. The aqueous copper sulfonate solution of the present invention is characterized in that the copper concentration therein is at least 90 g/L, the content of metal impurities is less than 10 mg/L as metal for each metal impurity, the content of chlorine is less than 10 mg/L, and the sulfonic acid is a sulfonic acid represented by the following general formula R—(SO3H)n (in the formula, R represents a lower alkyl group, lower alkylidene group, lower alkylene group, or hydroxyalkyl group and n represents 1 or 2).

  本发明的目的是提供一种高纯度的水合硫酸铜溶液和一种简化的生产该溶液的方法。本发明的水合硫酸铜溶液的特点在于其中的铜浓度至少为90克/升，金属杂质的含量每种金属不超过10毫克/升，氯的含量小于10毫克/升，且磺酸是由以下通式表示的磺酸R—(SO3H)n（在该式中，R表示较低的烷基、较低的烷基亚甲基、较低的烷基亚基、或羟基烷基，n表示1或2）。