p-Acetophenyl-p-bromphenyl-sulfonat | 64101-69-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: p-Acetophenyl-p-bromphenyl-sulfonat
• 英文别名: 4-acetylphenyl 4-bromobenzenesulfonate；(4-Acetylphenyl) 4-bromobenzenesulfonate
• CAS: 64101-69-5
• 化学式: C₁₄H₁₁BrO₄S
• 分子量: 355.209
• InChiKey: DOAFUKHBWMOCTA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  68.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  p-Acetophenyl-p-bromphenyl-sulfonat 在 盐酸 、 tris-(dibenzylideneacetone)dipalladium(0) 、 1,1'-双(二苯膦基)二茂铁二氯化钯(II)二氯甲烷复合物 、 三（1-金刚烷基）膦 、 水 、 potassium acetate 、 caesium carbonate 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 四氯化碳 、 水 为溶剂， 反应 20.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  邻苯二甲醛衍生物的模块化合成，使获得具有下一代光刻特性的光致产酸剂结合的自焚聚合物抗蚀剂成为可能

  摘要：

  分辨率、线边缘粗糙度和灵敏度 (RLS) 的权衡从根本上限制了化学放大抗蚀剂的光刻性能。使用极紫外 (EUV) 光刻技术生产下一代晶体管取决于该问题的解决方案。一种同时增加其光生酸的有效反应半径同时限制其扩散半径的抗蚀剂应该为 RLS 屏障提供一个优雅的解决方案。在这里，我们描述了一种使用硫 (VI) 氟化物交换点击化学合成苯二甲醛衍生物的通用方法，该方法通过使几乎任何非离子光致产酸剂 (PAG) 与苯二甲醛结合，显着扩展了可用的化学空间。由此产生的聚合物代表了有史以来第一个在 EUV 曝光下同时显示高对比度、非凡灵敏度和低粗糙度的架构中的 PAG 系链自焚抗蚀剂。我们相信这类抗蚀剂最终将使研究人员能够克服 RLS 权衡。

  DOI：

  10.1021/jacs.2c08202
• 作为产物：
  描述：

  4-溴苯磺酰氯 、 对羟基苯乙酮 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以95%的产率得到p-Acetophenyl-p-bromphenyl-sulfonat
  参考文献：
  名称：

  邻苯二甲醛衍生物的模块化合成，使获得具有下一代光刻特性的光致产酸剂结合的自焚聚合物抗蚀剂成为可能

  摘要：

  分辨率、线边缘粗糙度和灵敏度 (RLS) 的权衡从根本上限制了化学放大抗蚀剂的光刻性能。使用极紫外 (EUV) 光刻技术生产下一代晶体管取决于该问题的解决方案。一种同时增加其光生酸的有效反应半径同时限制其扩散半径的抗蚀剂应该为 RLS 屏障提供一个优雅的解决方案。在这里，我们描述了一种使用硫 (VI) 氟化物交换点击化学合成苯二甲醛衍生物的通用方法，该方法通过使几乎任何非离子光致产酸剂 (PAG) 与苯二甲醛结合，显着扩展了可用的化学空间。由此产生的聚合物代表了有史以来第一个在 EUV 曝光下同时显示高对比度、非凡灵敏度和低粗糙度的架构中的 PAG 系链自焚抗蚀剂。我们相信这类抗蚀剂最终将使研究人员能够克服 RLS 权衡。

  DOI：

  10.1021/jacs.2c08202

文献信息

• [EN] MYOSIN LIGHT CHAIN PHOSPHATASE INHIBITORS<br/>[FR] INHIBITEURS DE PHOSPHATASE DE CHAÎNE LÉGÈRE DE MYOSINE
  申请人：UNIV GEORGETOWN

  公开号：WO2009146013A1

  公开（公告）日：2009-12-03

  Novel myosin light chain phosphatase inhibitors, compositions containing them, methods of making and using them, and methods of using fluorescent myosin light chain phosphatase inhibitors are described.

  新型肌球蛋白轻链磷酸酶抑制剂，含有它们的组合物，制备和使用它们的方法，以及使用荧光肌球蛋白轻链磷酸酶抑制剂的方法被描述。
• Modular Synthesis of Phthalaldehyde Derivatives Enabling Access to Photoacid Generator-Bound Self-Immolative Polymer Resists with Next-Generation Photolithographic Properties
  作者：Jingyuan Deng、Sean Bailey、Shaoyi Jiang、Christopher K. Ober

  DOI：10.1021/jacs.2c08202

  日期：2022.10.26

  The resolution, line edge roughness, and sensitivity (RLS) trade-off has fundamentally limited the lithographic performance of chemically amplified resists. Production of next-generation transistors using extreme ultraviolet (EUV) lithography depends on a solution to this problem. A resist that simultaneously increases the effective reaction radius of its photogenerated acids while limiting their diffusion

  分辨率、线边缘粗糙度和灵敏度 (RLS) 的权衡从根本上限制了化学放大抗蚀剂的光刻性能。使用极紫外 (EUV) 光刻技术生产下一代晶体管取决于该问题的解决方案。一种同时增加其光生酸的有效反应半径同时限制其扩散半径的抗蚀剂应该为 RLS 屏障提供一个优雅的解决方案。在这里，我们描述了一种使用硫 (VI) 氟化物交换点击化学合成苯二甲醛衍生物的通用方法，该方法通过使几乎任何非离子光致产酸剂 (PAG) 与苯二甲醛结合，显着扩展了可用的化学空间。由此产生的聚合物代表了有史以来第一个在 EUV 曝光下同时显示高对比度、非凡灵敏度和低粗糙度的架构中的 PAG 系链自焚抗蚀剂。我们相信这类抗蚀剂最终将使研究人员能够克服 RLS 权衡。