Bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarbonitrile | 108587-10-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: Bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarbonitrile
• CAS: 108587-10-6
• 化学式: C₉H₁₀N₂
• 分子量: 146.192
• InChiKey: BVUINRQJOVCWKW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  335.6±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.12±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  47.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarbonitrile 在 Na-sand 、 五氯化磷 、 氢气 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.33h， 生成 anti-1,2,3,4,5,6,7,8-octahydro-1,4-methanonaphthalene
  参考文献：
  名称：

  减少β-二氰基衍生物的多环烯烃的合成：-芝麻基冰片烯及其相关分子的简便制备方法-芝麻基冰片烯及相关分子的简便制备方法

  摘要：

  -Sesquinorbornene 1b，迄今未知的相关不饱和分子1a，a以及二烯13和14是可以通过还原消除各自容易得到的β-二氰基衍生物制备的内环烯烃。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)94271-0
• 作为产物：
  描述：

  butenedinitrile 、 环戊二烯 在 palladium on activated charcoal 氢气 作用下， 生成 Bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarbonitrile
  参考文献：
  名称：

  减少β-二氰基衍生物的多环烯烃的合成：-芝麻基冰片烯及其相关分子的简便制备方法-芝麻基冰片烯及相关分子的简便制备方法

  摘要：

  -Sesquinorbornene 1b，迄今未知的相关不饱和分子1a，a以及二烯13和14是可以通过还原消除各自容易得到的β-二氰基衍生物制备的内环烯烃。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)94271-0

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140045123A1

  公开（公告）日：2014-02-13

  A polymer comprising recurring units derived from a (meth)acrylate monomer of tertiary ester type having branched alkyl on alicycle is used to form a resist composition. When subjected to exposure, PEB and organic solvent development, the resist composition is improved in dissolution contrast.

  一种聚合物，包括由具有支链烷基的萜酸酯单体衍生的重复单元，用于形成抗蚀组合物。在经过曝光、PEB和有机溶剂显影处理后，抗蚀组合物在溶解对比度方面得到改善。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• ONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160320698A1

  公开（公告）日：2016-11-03

  An onium salt having an anion moiety of a specific structure is an effective photoacid generator. A resist composition comprising the onium salt has the advantages of compatibility and reduced acid diffusion and forms a pattern with a good balance of sensitivity and MEF, rectangularity, and minimal defects.

  具有特定结构的阴离子基团的醇盐是一种有效的光酸发生剂。包含该醇盐的抗蚀组合物具有兼容性和减少酸扩散的优点，并形成具有良好灵敏度和MEF、矩形度以及最小缺陷的图案。