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9-methacryloyltetracyclododecane-4-carboxylic acid | 872175-47-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
9-methacryloyltetracyclododecane-4-carboxylic acid
英文别名
10-(2-Methylprop-2-enoyloxy)tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodecane-4-carboxylic acid
9-methacryloyltetracyclododecane-4-carboxylic acid化学式
CAS
872175-47-8
化学式
C17H22O4
mdl
——
分子量
290.359
InChiKey
KQRUXNLAOKNBFI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.76
  • 拓扑面积:
    63.6
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    9-methacryloyltetracyclododecane-4-carboxylic acid氯甲基环己基醚三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 12.0h, 生成 Cyclohexyloxymethyl 10-(2-methylprop-2-enoyloxy)tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodecane-4-carboxylate
    参考文献:
    名称:
    [EN] COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
    [FR] COMPOSÉ; COMPOSÉ POLYMÈRE; COMPOSITION RÉSISTANTE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MODÈLE RÉSISTANT
    摘要:
    本发明涉及一种具有优异分辨率的正型光刻胶组合物,即使使用生成弱酸的酸发生剂,也能形成良好的光刻胶图案。该正型光刻胶组合物包含具有由下式(II)表示的构成单元(a1)的聚合物化合物和在光照下生成酸的酸发生剂组分(B)。[在式中,R1表示氢原子或低碳基;R3表示具有1-15个碳原子的烷基或脂环族基,并且可以具有从醚键,羟基,羰基,酯基和氨基组成的一种或多种取代基;n2表示0或1-3的整数。]
    公开号:
    WO2005123655A1
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文献信息

  • [EN] COMPOUND, POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN<br/>[FR] COMPOSÉ; COMPOSÉ POLYMÈRE; COMPOSITION RÉSISTANTE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MODÈLE RÉSISTANT
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
    公开号:WO2005123655A1
    公开(公告)日:2005-12-29
    Disclosed is a positive resist composition with excellent resolution which enables to form a good resist pattern even when there is used an acid generator which generates a weak acid. Such a positive resist composition contains a polymer compound having a constitutional unit (a1) represented by the general formula (II) below and an acid generator component (B) which generates an acid when exposed to light. (II) [In the formula, R1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; R3 represents an alkyl group having 1-15 carbon atoms or an alicyclic group, and may have one or more substituents selected from the group consisting of ether bonds, hydroxyl group, carbonyl groups, ester groups and amino group; and n2 represents 0 or an integer of 1-3.]
    本发明涉及一种具有优异分辨率的正型光刻胶组合物,即使使用生成弱酸的酸发生剂,也能形成良好的光刻胶图案。该正型光刻胶组合物包含具有由下式(II)表示的构成单元(a1)的聚合物化合物和在光照下生成酸的酸发生剂组分(B)。[在式中,R1表示氢原子或低碳基;R3表示具有1-15个碳原子的烷基或脂环族基,并且可以具有从醚键,羟基,羰基,酯基和氨基组成的一种或多种取代基;n2表示0或1-3的整数。]
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