2,3-epoxy-decahydro-1,4;5,8-dimethano-naphthalene | 134002-23-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 2,3-epoxy-decahydro-1,4;5,8-dimethano-naphthalene
• 英文别名: 10-Oxapentacyclo[6.3.1.13,6.02,7.09,11]tridecane
• CAS: 134002-23-6
• 化学式: C₁₂H₁₆O
• 分子量: 176.258
• InChiKey: JLXBGRFSGLTNSX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  277.8±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.209±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3-epoxy-decahydro-1,4;5,8-dimethano-naphthalene 在 盐酸 、 水 作用下， 以2.07 g的产率得到tetracyclo[4.4.0.12,5.17,10]dodecane-4,12-diol
  参考文献：
  名称：

  JP2023/32408

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  tetracyclododecene 在 过氧乙酸 、 sodium carbonate 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 2.0h， 以97%的产率得到2,3-epoxy-decahydro-1,4;5,8-dimethano-naphthalene
  参考文献：
  名称：

  用于涂料的丙烯酸酯类化合物、制备方法和包 含其的涂料及用途

  摘要：

  本发明涉及一种用于涂料的丙烯酸酯类化合物，所述化合物具有式(I)的结构。本发明提供的用于涂料的丙烯酸酯类化合物同时具有亲油性的多环脂基和亲水性的羟基，及较高的聚合反应活性，用于溶剂型丙烯酸涂料，涂层表现出优异的耐侯性、耐磨性、高光泽度及丰满度等；用于水性丙烯酸涂料，该化合物的亲水性羟基基团及亲油性的脂环基团在乳化体系中表现出良好的相溶性，聚合活性高，单体残留量低，成膜后涂层表现出优异的耐侯性、耐水耐油性、抗冲击性及高光泽度等性质。且制备方法工艺过程简单，条件易控，且副反应少，反应原料转化率高，产品纯度高。

  公开号：

  CN109956867B

文献信息

• (Meth)acrylate derivative, polymer and photoresist composition having lactone structure, and method for forming pattern by using it
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20070218403A1

  公开（公告）日：2007-09-20

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本文披露了一种光刻用220纳米或以下光的光阻材料，包括至少一种由以下式子（2）表示的聚合物和用于曝光生成酸的光酸发生剂： 其中，R1、R2、R3和R5分别是氢原子或甲基基团；R4是酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团、具有酸敏感基团的7至13个碳原子的脂环烃基团、具有3至13个碳原子的环烃基团、具有环氧基团；R6是氢原子、具有1至12个碳原子的碳氢基团或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，具有羧基；x、y和z是可选值，满足x+y+z=1，0
• (METH)ACRYLATE DERIVATIVE, POLYMER AND PHOTORESIST COMPOSITION HAVING LACTONE STRUCTURE, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING IT
  申请人：Maeda Katsumi

  公开号：US20110196122A1

  公开（公告）日：2011-08-11

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本文披露了一种光刻用于220nm或更低波长的光的光阻材料，其包括至少由以下化学式(2)表示的聚合物和用于曝光后生成酸的光酸发生剂：其中，R1、R2、R3和R5分别为氢原子或甲基基团；R4为酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有酸敏感基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基基团，或具有3至13个碳原子的碳氢基团，其具有环氧基团；R6为氢原子、具有1至12个碳原子的碳氢基团，或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基基团；x、y和z是可选值，满足x+y+z=1，0
• SEMICONDUCTOR ELEMENT AND INSULATING-LAYER-FORMING COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP3125277A1

  公开（公告）日：2017-02-01

  Provided is a semiconductor element having a semiconductor layer and an insulating layer adjacent to the semiconductor layer, in which the insulating layer is formed of a crosslinked product of a polymer compound having a repeating unit (IA) represented by the following General Formula (IA) and a repeating unit (IB) represented by the following General Formula (IB). In General Formula (IA), R1a represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group. L1a and L2a each independently represent a single bond or a linking group. X represents a crosslinkable group. m2a represents an integer of 1 to 5, and in a case where m2a is 2 or more, m2a number of X's may be the same or different from each other. m1a represents an integer of 1 to 5, and in a case where m1a is 2 or more, m1a number of (-L2a-(X)m2a)'s may be the same or different from each other. In General Formula (IB),' R1b represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group. L1b represents a single bond or a linking group, and Ar1b represents an aromatic ring. m1b represents an integer of 1 to 5.

  本发明提供了一种半导体元件，该元件具有半导体层和与半导体层相邻的绝缘层，其中绝缘层由聚合物化合物的交联产物形成，该聚合物化合物具有如下通式(IA)表示的重复单元(IA)和如下通式(IB)表示的重复单元(IB)。 通式（IA）中，R1a 代表氢原子、卤素原子或烷基。L1a 和 L2a 各自独立地代表单键或连接基团。X 代表可交联基团。m2a 代表 1 至 5 的整数，在 m2a 为 2 或 2 以上的情况下，m2a 中 X 的数目可以相同或不同。m1a 代表 1 至 5 的整数，在 m1a 为 2 或 2 以上的情况下，m1a 中 (-L2a-(X)m2a) 的数目可以相同或不同。通式（IB）中，' R1b 代表氢原子、卤素原子或烷基。L1b 代表单键或连接基团，Ar1b 代表芳香环。
• TAKAI, TOSHIHIRO;YAMADA, TOHRU;MUKAIYAMA, TERUAKI, CHEM. LETT.,(1990) N, C. 1657-1660
  作者：TAKAI, TOSHIHIRO、YAMADA, TOHRU、MUKAIYAMA, TERUAKI

  DOI：——

  日期：——
• MUKAIYAMA, TERUAKI;TAKAI, TOSHIHIRO;YAMADA, TOHRU;RHODE, OLIVER, CHEM. LETT.,(1990) N, C. 1661-1664
  作者：MUKAIYAMA, TERUAKI、TAKAI, TOSHIHIRO、YAMADA, TOHRU、RHODE, OLIVER

  DOI：——

  日期：——