8-hydroxymethyl-9-(2-vinyloxyethyl)oxymethyltricyclo[5.2.1.0^2,6]decane | 261160-10-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 8-hydroxymethyl-9-(2-vinyloxyethyl)oxymethyltricyclo[5.2.1.0^2,6]decane
• 英文别名: [9-(2-Ethenoxyethoxymethyl)-8-tricyclo[5.2.1.02,6]decanyl]methanol
• CAS: 261160-10-5
• 化学式: C₁₆H₂₆O₃
• 分子量: 266.381
• InChiKey: SQNFNVCNBYNATN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  38.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  8-hydroxymethyl-9-(2-vinyloxyethyl)oxymethyltricyclo[5.2.1.0^2,6]decane 、 2-氯乙基乙烯基醚 在 氢氧化钾 作用下， 以 水 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 6.0h， 以29%的产率得到8,9-bis[(2-vinyloxyethyl)oxymethyl]tricyclo[5.2.1.0^2,6]decane
  参考文献：
  名称：

  Alicyclic compound and curable resin composition

  摘要：

  以下是化学式中展示的十碳烷基化合物或十碳烯基化合物[1]，其中A1和A2分别独立地为氢或(meth)丙烯酰基团或2-乙烯氧基乙基团；虚线是单键或双键，但A1和A2不能同时为氢；以及含有该化合物的可固化树脂组合物。该化合物适用于光刻胶原材料的光敏单体，因为在短波长紫外光下具有高透明度、干法蚀刻抗性、对基底的粘附性和在碱性显影液中的高溶解性，除了高灵敏度和更高分辨率；适用于光学原材料和光盘覆盖层材料的单体，因为具有高透明度、低双折射率和低吸水率；适用于EB可固化涂料原材料等涂料原材料的单体，因为具有高反应性、高耐磨性和耐水性。

  公开号：

  US06365771B1
• 作为产物：
  描述：

  8,9-bis(hydroxymethyl)tricyclo[5.2.1.0^2,6]decane 、 2-氯乙基乙烯基醚 在 sodium hydride 作用下， 以 DMF (N,N-dimethyl-formamide) 为溶剂， 反应 21.0h， 以42.9%的产率得到8-hydroxymethyl-9-(2-vinyloxyethyl)oxymethyltricyclo[5.2.1.0^2,6]decane
  参考文献：
  名称：

  Alicyclic compound and curable resin composition

  摘要：

  以下是化学式中展示的十碳烷基化合物或十碳烯基化合物[1]，其中A1和A2分别独立地为氢或(meth)丙烯酰基团或2-乙烯氧基乙基团；虚线是单键或双键，但A1和A2不能同时为氢；以及含有该化合物的可固化树脂组合物。该化合物适用于光刻胶原材料的光敏单体，因为在短波长紫外光下具有高透明度、干法蚀刻抗性、对基底的粘附性和在碱性显影液中的高溶解性，除了高灵敏度和更高分辨率；适用于光学原材料和光盘覆盖层材料的单体，因为具有高透明度、低双折射率和低吸水率；适用于EB可固化涂料原材料等涂料原材料的单体，因为具有高反应性、高耐磨性和耐水性。

  公开号：

  US06365771B1

文献信息

• Alicyclic compound and curable resin composition
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US06365771B1

  公开（公告）日：2002-04-02

  Decane compound or decene compound shown in the formula [1] below wherein A1 and A2 are independently hydrogen or (meth)acryloyl group or 2-vinyloxyethyl group; and the dotted line is single bond or double bond with the proviso that A1 and A2 are not hydrogen at the same time; and curable resin composition containing said compound therein. The compound are suitable as the photo-monomer for resist raw materials because of high clarity at short wavelength ultraviolet light, dry etching resistance, adhesive property for the substrate and high solubility in alkaline developing solution in addition to high sensitivity and greater resolution; as the monomer for optic raw materials and disk overcoat materials because of high clarity, low birefringence and low water absorption rate; and as the monomer for the coating raw materials such as EB curable coating raw materials because of high reactivity, high wear characteristics and water resistance.

  以下是化学式中展示的十碳烷基化合物或十碳烯基化合物[1]，其中A1和A2分别独立地为氢或(meth)丙烯酰基团或2-乙烯氧基乙基团；虚线是单键或双键，但A1和A2不能同时为氢；以及含有该化合物的可固化树脂组合物。该化合物适用于光刻胶原材料的光敏单体，因为在短波长紫外光下具有高透明度、干法蚀刻抗性、对基底的粘附性和在碱性显影液中的高溶解性，除了高灵敏度和更高分辨率；适用于光学原材料和光盘覆盖层材料的单体，因为具有高透明度、低双折射率和低吸水率；适用于EB可固化涂料原材料等涂料原材料的单体，因为具有高反应性、高耐磨性和耐水性。