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DL-亮氨酰-甘氨酰-甘氨酸 | 1187-50-4

中文名称
DL-亮氨酰-甘氨酰-甘氨酸
中文别名
DL-亮氨酰甘氨酰甘氨酸
英文名称
Leucyl-glycyl-glycin
英文别名
DL-Leu-Gly-Gly;2-[[2-[(2-azaniumyl-4-methylpentanoyl)amino]acetyl]amino]acetate
DL-亮氨酰-甘氨酰-甘氨酸化学式
CAS
1187-50-4
化学式
C10H19N3O4
mdl
MFCD00064990
分子量
245.279
InChiKey
VWHGTYCRDRBSFI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    ~220 °C (dec.)
  • 沸点:
    573.7±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.199±0.06 g/cm3(Predicted)
  • 稳定性/保质期:

    如果按照规范使用和存储,则不会发生分解,目前没有已知的危险反应,应避免与氧化物接触。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -3
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.7
  • 拓扑面积:
    122
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    5

安全信息

  • WGK Germany:
    3
  • 海关编码:
    2924199090
  • 储存条件:
    密封,在-20°C下保存

SDS

SDS:86d2098a29528af6700411316abee4d1
查看
1.1 产品标识符
: Leu-Gly-Gly
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
L-Leucyl-glycyl-glycine
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途,不作为药物、家庭备用药或其它用途。

模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
根据化学品全球统一分类与标签制度(GHS)的规定,不是危险物质或混合物。
2.3 其它危害物 - 无

模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: L-Leucyl-glycyl-glycine
别名
: C10H19N3O4
分子式
: 245.28 g/mol
分子量


模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。
皮肤接触
用肥皂和大量的冲洗。
眼睛接触
冲洗眼睛作为预防措施。
食入
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用漱口。
4.2 主要症状和影响,急性和迟发效应
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。
6.2 环境保护措施
不要让产物进入下道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
扫掉和铲掉。 存放进适当的闭口容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭,储存在干燥通风处。
建议的贮存温度: -20 °C
保存在干燥处。
7.3 特定用途
无数据资料

模块 8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
常规的工业卫生操作。
个体防护设备
眼/面保护
请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
身体保护
根据危险物质的类型,浓度和量,以及特定的工作场所来选择人体保护措施。,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
不需要保护呼吸。如需防护粉尘损害,请使用N95型(US)或P1型(EN 143)防尘面具。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH(US)或CEN(EU)的呼吸器和零件。

模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 粉末
颜色: 白色
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
220 °C - 加热时分解。
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸汽压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 溶性
无数据资料
o) n-辛醇/分配系数
辛醇--的分配系数的对数值: -2.065
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(一次接触)
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(反复接触)
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛 可能引起眼睛刺激。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

模块 12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物蓄积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。
受污染的容器和包装
作为未用过的产品弃置。

模块 14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国(UN)规定的名称
欧洲陆运危规: 非危险货物
国际海运危规: 非危险货物
国际空运危规: 非危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别提醒
无数据资料


模块 15 - 法规信息
N/A


模块16 - 其他信息
N/A

制备方法与用途

(S)-2-(2-(2-基-4-甲基戊酰胺)乙酰胺)乙酸是甘酸(HY-Y0966)的衍生物[1]。

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • [EN] N-ALKYLATED AMINO ACIDS AND OLIGOPEPTIDES, USES THEREOF AND METHODS FOR PROVIDING THEM.<br/>[FR] ACIDES AMINÉS N-ALKYLÉS ET OLIGOPEPTIDES, LEURS UTILISATIONS ET LEURS PROCÉDÉS DE PRODUCTION
    申请人:UNIV GRONINGEN
    公开号:WO2018178397A1
    公开(公告)日:2018-10-04
    The invention relates to the synthesis of amphiphilic amino acid derivatives, in particular to a method for the N-alkylation of an unprotected amino acid or the N-terminus of an oligopeptide substrate, comprising reacting said unprotected amino acid or oligopeptide substrate with an alcohol, e.g. a fatty alcohol, in the presence of a homogeneous transition metal catalyst.
    该发明涉及两性氨基酸生物的合成,特别涉及一种用于对未保护的氨基酸或寡肽底物的N-烷基化的方法,包括将所述未保护的氨基酸或寡肽底物与醇(例如脂肪醇)在均相过渡属催化剂的存在下反应。
  • Tripeptidase
    申请人:PROBICOM RESEARCH B.V.
    公开号:EP0440303A1
    公开(公告)日:1991-08-07
    The present invention relates to a tripeptidase of lactic acid bacteria in isolated form as well as to uses thereof, e.g., in the preparation of foods such as cheese, whippable products and meat products, or for preparing antibodies against the tripeptidase. The invention also relates to recombinant genetic information coding for the tripeptidase and transformed organisms expressing the tripeptidase. The tripeptidase can be isolated from Lactococcus lactis subsp. cremoris Wg2 and specifically separates the N-terminal amino acid from tripeptides. The hydrolysis activity has a temperature optimum at about 55°C and a pH optimum at about 7.5. The molecular weight is about 105 kD and the isoelectric point about 3.7. The tripeptidase is sensitive to EDTA, dithiothreitol and β-mercaptoethanol.
    本发明涉及一种分离形式的乳酸菌三肽酶及其用途,例如用于制备奶酪、可打发产品和肉制品等食品,或制备针对三肽酶的抗体。本发明还涉及编码三肽酶的重组遗传信息和表达三肽酶的转化生物。三肽酶可从乳球菌 Lactococcus lactis subsp. cremoris Wg2 中分离出来,能特异性地从三肽中分离出 N 端氨基酸解活性的最佳温度约为 55°C,最佳 pH 值约为 7.5。分子量约为 105 kD,等电点约为 3.7。该三肽酶对乙二胺四乙酸、二苏糖醇和 β-巯基乙醇敏感。
  • Leucine aminopeptidase gene, recombinant dna, and process for producing leucine aminopeptidase
    申请人:KIKKOMAN CORPORATION
    公开号:EP0967286A2
    公开(公告)日:1999-12-29
    The present invention relates to an Aspergillus sojae leucine aminopeptidase gene or variants thereof, a recombinant DNA including the gene or the variants, and a process for producing leucine aminopeptidase using the recombinant DNA.
    本发明涉及一种土曲霉亮肽酶基因或其变体,一种包括该基因或其变体的重组 DNA,以及一种利用该重组 DNA 生产亮肽酶的工艺。
  • A multiply transformed Aspergillus (koji) mold and a method of manufacturing a flavor enhancer using the same
    申请人:KIKKOMAN CORPORATION
    公开号:EP1132461A1
    公开(公告)日:2001-09-12
    The present invention provides a koji mold having increased protease activity and peptidase activity relative to a parent strain, a method of breeding the koji mold, and a method of manufacturing a flavor enhancer using the koji mold. More specifically, the present invention provides: (1) a koji mold having increased protease activity and peptidase activity relative to a parent strain obtained by transformation using a protease gene and a peptidase gene. (2) a method of breeding the above koji mold which comprises transforming a parent strain of koji mold using a protease gene and a peptidase gene, and then selecting a transformant having higher protease activity and peptidase activity relative to a parent strain. (3) a method of manufacturing a flavor enhancer which comprises allowing a culture product of the above koji mold to act on a protein.
    本发明提供了一种麴霉,其蛋白酶活性和肽酶活性相对于母株都有所提高,还提供了一种培育麴霉的方法,以及一种使用麴霉制造增味剂的方法。更具体地说,本发明提供了 (1) 一种麴霉,其蛋白酶活性和肽酶活性相对于通过使用蛋白酶基因和肽酶基因转化获得的亲本菌株有所提高。 (2) 繁殖上述麴霉的方法,包括利用蛋白酶基因和肽酶基因转化麴霉的亲本菌株,然后选择相对于亲本菌株具有更高的蛋白酶活性和肽酶活性的转化体。 (3) 一种增味剂的制造方法 其中包括使上述麴霉的培养产物作用于蛋白质。
  • POLISHING COMPOUND FOR SEMICONDUCTOR CONTAINING PEPTIDE
    申请人:Seimi Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP1235261A1
    公开(公告)日:2002-08-28
    A polishing compound and a polishing method are provided, whereby in a CMP process in a process for production of a semiconductor device, a metal layer and/or a barrier layer, etc., can be polished while suppressing excessive oxidation of the metal layer, and the polishing rate can be adjusted depending upon the application. A polishing compound comprising polishing abrasive grains and a peptide, a polishing compound slurry having such a polishing compound suspended in an aqueous medium, preferably together with an oxidizing agent and preferably at a pH of at least 7, and a method for polishing a metal layer of e.g. Cu and/or a barrier layer, formed on a semiconductor substrate, by polishing with an abrasive cloth of a CMP apparatus having such a polishing compound slurry supported thereon, are disclosed.
    本发明提供了一种抛光化合物和一种抛光方法,从而在半导体器件生产工艺中的CMP工序中,可以在抛光属层和/或阻挡层等的同时抑制属层的过度氧化,并且可以根据应用调整抛光速率。 本发明公开了一种由抛光磨粒和肽组成的抛光化合物、一种将这种抛光化合物悬浮于性介质(最好与氧化剂一起且 pH 值最好至少为 7)中的抛光化合物浆料,以及一种通过使用支撑有这种抛光化合物浆料的 CMP 设备的砂布对形成于半导体基板上的属层和/或阻挡层进行抛光的方法。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
hnmr
mass
cnmr
ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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同类化合物

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