5-methyl-octahydro-4,7-methano-inden-5-ol | 118798-26-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: 5-methyl-octahydro-4,7-methano-inden-5-ol
• 英文别名: 5-Methyloctahydro-1H-4,7-methanoinden-5-ol；8-methyltricyclo[5.2.1.02,6]decan-8-ol
• CAS: 118798-26-8
• 化学式: C₁₁H₁₈O
• 分子量: 166.263
• InChiKey: ZMNRHVQTCJLMAL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-methyl-octahydro-4,7-methano-inden-5-ol 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 8-methylenetricyclo<5.2.1.0^2,6>decane 、 5-methyl-2,3,3a,4,7,7a-hexahydro-1H-4,7-methano-indene
  参考文献：
  名称：

  OCTAHYDRO-1H-4,7-METHANO-INDENE-5-ALDEHYDES AND THEIR USE IN PERFUME COMPOSITIONS

  摘要：

  本发明涉及一种新型香气化合物，其为八氢-4,7-甲基-1H-茚烷-5-乙醛、八氢-6-甲基-4,7-甲基-1H-茚烷-5-羧醛或其混合物。

  公开号：

  US20130109761A1
• 作为产物：
  描述：

  三环[5,2,1,0(2,6)]癸-8-酮 、 甲基溴化镁 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 5-methyl-octahydro-4,7-methano-inden-5-ol
  参考文献：
  名称：

  OCTAHYDRO-1H-4,7-METHANO-INDENE-5-ALDEHYDES AND THEIR USE IN PERFUME COMPOSITIONS

  摘要：

  本发明涉及一种新型香气化合物，其为八氢-4,7-甲基-1H-茚烷-5-乙醛、八氢-6-甲基-4,7-甲基-1H-茚烷-5-羧醛或其混合物。

  公开号：

  US20130109761A1

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• Photosensitive polymer
  申请人：Everlight USA, Inc.

  公开号：US06441115B1

  公开（公告）日：2002-08-27

  The present invention provides a photosensitive polymer containing the following structure unit of formula (II): Wherein R is hydrogen or C1-C4 alkyl group; R′ is C1-C4 alkyl group; n is an integer of 2, 3, 4, 5 or 6. This photosensitive polymer also relates to chemical amplified photoresist composition. This chemical amplified photoresist composition can be applied to general lithography processes, especially in 193 nm lithography and the patterns formed from the photoresist composition exhibit excellent resolution and photosensitivity.

  本发明提供了一种含有以下结构单元的光敏聚合物，其化学式为（II）：其中，R为氢或C1-C4烷基；R′为C1-C4烷基；n为2、3、4、5或6的整数。该光敏聚合物还涉及化学放大光刻胶组合物。该化学放大光刻胶组合物可应用于一般的光刻工艺，特别是在193纳米光刻中，由光刻胶组合物形成的图案表现出优异的分辨率和光敏度。
• Photosensitive monomer
  申请人：Everlight USA, Inc.

  公开号：US06271412B1

  公开（公告）日：2001-08-07

  This invention provides a compound of the formula (I): wherein R is hydrogen or C1-C4 alkyl group; R′ is C1-C4 alkyl group; n is an integer of 2, 3, 4, 5 or 6. The compound of formula (I) can be polymerized or copolymerized to form a photosensitive polymer or copolymer.

  本发明提供了一种式子为（I）的化合物：其中R为氢或C1-C4烷基；R'为C1-C4烷基；n为2、3、4、5或6的整数。式（I）的化合物可以聚合或共聚形成光敏聚合物或共聚物。
• Chemical amplified photoresist composition
  申请人：Everlight USA, Inc.

  公开号：US06316159B1

  公开（公告）日：2001-11-13

  A chemical amplified photoresist composition comprising a photosensitive polymer containing the following structure unit of formula (II): Wherein R is hydrogen or C1-C4 alkyl group; R′ is C1-C4 alkyl group; n is an integer of 2, 3, 4, 5 or 6. This chemical amplified photoresist composition can be applied to general lithography processes, especially in 193 nm lithography and the patterns formed from the photoresist exhibit excellent resolution and photosensitivity.

  一种化学增感光阻组合物，包括下列结构单元为式（II）的光敏聚合物：其中，R是氢或C1-C4烷基；R'是C1-C4烷基；n为2、3、4、5或6的整数。这种化学增感光阻组合物可应用于一般光刻工艺中，特别是在193纳米光刻中，从光阻形成的图案表现出优异的分辨率和光敏性。
• Octahydro-1H-4,7-methano-indene-5-aldehydes and their use in perfume compositions
  申请人：INTERNATIONAL FLAVORS & FRAGRANCES INC.

  公开号：EP2589649B1

  公开（公告）日：2015-11-25