1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇 | 923018-85-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
• 中文别名: 1-环已基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
• 英文名称: 1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butane-l,3-diol
• 英文别名: 1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butane-1,3-diol
• CAS: 923018-85-3
• 化学式: C₁₁H₁₆F₆O₂
• 分子量: 294.237
• InChiKey: MQSXWPKOXBDISN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇 、 甲基丙烯酸酐 在 三氟甲磺酸 、 2-甲氧基酚噻嗪 作用下， 反应 3.0h， 以90%的产率得到1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butyl 2-methylacrylate
  参考文献：
  名称：

  Process for producing fluorine-containing diol and its derivatives

  摘要：

  一种制备含氟二元醇的方法，其化学式为[2]，包括在钌催化剂的存在下，通过氢气还原化学式为[1]的羟基酮。钌催化剂可以是固相催化剂，其中钌负载在活性炭、氧化铝或二氧化硅上。

  公开号：

  US20070032684A1
• 作为产物：
  描述：

  4,4,4-三氟-3-羟基-1-苯基-3-(三氟甲基)-1-丁酮 在 5% activated charcoal-supported ruthenium catalyst 氢气 作用下， 以 异丙醚 为溶剂， 50.0 ℃ 、2.6 MPa 条件下， 反应 16.0h， 以91%的产率得到1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
  参考文献：
  名称：

  Process for producing fluorine-containing diol and its derivatives

  摘要：

  一种制备含氟二元醇的方法，其化学式为[2]，包括在钌催化剂的存在下，通过氢气还原化学式为[1]的羟基酮。钌催化剂可以是固相催化剂，其中钌负载在活性炭、氧化铝或二氧化硅上。

  公开号：

  US20070032684A1

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer Compound, Resist Composition, Top Coat Composition And Pattern Formation Method
  申请人：Mori Kazunori

  公开号：US20120077126A1

  公开（公告）日：2012-03-29

  A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R 1 represents a polymerizable double bond-containing group; R 2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W 1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

  本发明的含氟聚合物包含通式（2）的重复单元（a），其具有1,000至1,000,000的质量平均分子量。该聚合物适用于抗高能辐射（波长小于或等于300nm的高能射线辐射或电子束辐射）的光阻组合物，或用于液体浸没光刻的面涂层组合物，并具有高水珠性，尤其是高后退接触角。在公式中，R1表示可聚合的双键含有的基团；R2表示氟原子或含氟烷基；R8表示取代或未取代的烷基或类似物；W1表示单键，取代或未取代的亚甲基或类似物。
• US7385091B2
  申请人：——

  公开号：US7385091B2

  公开（公告）日：2008-06-10
• US8735044B2
  申请人：——

  公开号：US8735044B2

  公开（公告）日：2014-05-27
• [EN] FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION, TOP COAT COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD<br/>[FR] COMPOSÉ FLUORÉ, COMPOSÉ DE POLYMÈRE FLUORÉ, COMPOSITION DE RÉSERVE, COMPOSITION DE REVÊTEMENT SUPÉRIEUR ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2010140483A1

  公开（公告）日：2010-12-09

  　本発明の含フッ素高分子化合物は、一般式（２）で表される繰り返し単位（ａ）を含み、質量平均分子量１，０００～１，０００，０００の樹脂である。該樹脂は、３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、及び液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に好適に使用でき、撥水性、特に後退接触角が大きいことを特徴とする。 （式中、Ｒ1は重合性二重結合含有基を示し、Ｒ2はフッ素原子又は含フッ素アルキル基を示し、Ｒ8は置換もしくは非置換のアルキル基などを示し、Ｗ1は単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを示す。）