tert-Butyl-[2-((2R,3S,6S)-9-butyl-3-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-8-en-2-yl)-ethoxy]-dimethyl-silane | 187218-78-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: tert-Butyl-[2-((2R,3S,6S)-9-butyl-3-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-8-en-2-yl)-ethoxy]-dimethyl-silane
• 英文别名: tert-butyl-[2-[(2R,3S,6S)-9-butyl-3-methyl-1,7-dioxaspiro[5.5]undec-8-en-2-yl]ethoxy]-dimethylsilane
• CAS: 187218-78-6
• 化学式: C₂₂H₄₂O₃Si
• 分子量: 382.659
• InChiKey: OKGPVSXLTSXXEJ-CZTZKLFOSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.79
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tert-Butyl-[2-((2R,3S,6S)-9-butyl-3-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-8-en-2-yl)-ethoxy]-dimethyl-silane 在 正丁基锂 、 camphor-10-sulfonic acid 、 二甲基二环氧乙烷 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二氯甲烷 、 丙酮 为溶剂， 反应 0.75h， 生成 (R)-1-{(2R,5S,7R,8S)-2-Butyl-7-[2-(tert-butyl-dimethyl-silanyloxy)-ethyl]-8-methyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl}-3-trimethylsilanyl-prop-2-yn-1-ol
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c
• 作为产物：
  描述：

  (E)-(4S,5R)-7-(tert-Butyl-dimethyl-silanyloxy)-5-hydroxy-4-methyl-hept-2-enoic acid methyl ester 在 5 percent Pd/C 氢气 、 4-甲基苯磺酸吡啶 、 potassium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙酸乙酯 、 甲苯 为溶剂， 反应 92.0h， 生成 tert-Butyl-[2-((2R,3S,6S)-9-butyl-3-methyl-1,7-dioxa-spiro[5.5]undec-8-en-2-yl)-ethoxy]-dimethyl-silane
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c

文献信息

• Total Synthesis of (−)-Reveromycin B
  作者：Anthony N. Cuzzupe、Craig A. Hutton、Michael J. Lilly、Robert K. Mann、Mark A. Rizzacasa、Steven C. Zammit

  DOI：10.1021/ol991281m

  日期：2000.1.1

  The total synthesis of the epidermal growth factor inhibitor reveromycin B (2) is described. A novel, convergent, and stereoselective reaction sequence was utilized to construct the 5,6-spiroketal system 10 which was converted into the natural product 2 by a 16-step sequence.
• Synthetic Studies toward the Reveromycins:  Asymmetric Synthesis of the Spiroketal Segment of Reveromycin B
  作者：Kenneth J. McRae、Mark A. Rizzacasa

  DOI：10.1021/jo962316o

  日期：1997.3.1
• Total Synthesis of the Epidermal Growth Factor Inhibitor (−)-Reveromycin B
  作者：Anthony N. Cuzzupe、Craig A. Hutton、Michael J. Lilly、Robert K. Mann、Kenneth J. McRae、Steven C. Zammit、Mark A. Rizzacasa

  DOI：10.1021/jo001646c

  日期：2001.4.1

  The total synthesis of the epidermal growth factor inhibitor reveromycin B (2) in 25 linear steps from chiral methylene pyran 13 is described. The key steps involved an inverse electron demand hetero-Diels-Alder reaction between dienophile 13 and diene 12 to construct the 6,6-spiroketal 11 which upon oxidation with dimethyldioxirane and acid catalyzed rearrangement gave the 5,6-spiroketal aldehyde

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。