2-Butyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]decane-2-carbaldehyde | 335355-69-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 2-Butyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]decane-2-carbaldehyde
• CAS: 335355-69-6
• 化学式: C₁₃H₂₂O₃
• 分子量: 226.316
• InChiKey: MTWWURZYNQSERJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.82
• 重原子数：
  16.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  35.53
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  3.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Butyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]decane-2-carbaldehyde 在 正丁基锂 、 potassium carbonate 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 正己烷 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 (R)-1-((R)-2-Butyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]dec-2-yl)-prop-2-yn-1-ol
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c
• 作为产物：
  描述：

  2-methylidenetetrahydropyran 在 二甲基二环氧乙烷 、 4-甲基苯磺酸吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 丙酮 为溶剂， 反应 49.0h， 生成 2-Butyl-1,6-dioxa-spiro[4.5]decane-2-carbaldehyde
  参考文献：
  名称：

  表皮生长因子抑制剂（-）-reveromycin B的全合成。

  摘要：

  描述了由手性亚甲基吡喃13在25个线性步骤中表皮生长因子抑制剂reveromycin B（2）的总合成。关键步骤涉及亲二烯体13和二烯12之间的逆电子需求异Diels-Alder反应，以构建6,6-螺酮11，在被二甲基二环氧乙烷氧化和酸催化的重排后，得到5,6-螺酮醛9。乙炔化锂加入后再进行氧化/还原和保护基操作，提供了白霉素B螺环酮核心8，将其转化为白霉素A（1）衍生物6以确认螺环酮区段的立体化学。C1-C10侧链的引入始于连续的Wittig反应，以形成C8-C9和C7-C6键，锡介导的不对称羟醛反应安装了C4和C5立体中心。靶分子2的最终关键步骤涉及Stille偶联以引入C21-C22键，琥珀酰化，选择性脱保护，氧化和Wittig缩合以形成最终的C2-C3键。通过在DMF中的TBAF进行脱保护，以72％的收率得到Reveromycin B（2）。

  DOI：

  10.1021/jo001646c