[EN] NORBORNENE-BASED SILSESQUIOXANE COPOLYMERS, NORBORNENE-BASED SILANE DERIVATIVE USED FOR PREPARATION OF THE SAME AND METHOD OF PREPARING LOW DIELECTRIC INSULATING FILM COMPRISING THE SAME<br/>[FR] COPOLYMERES DE SILSESQUIOXANE A BASE DE NORBORNENE, DERIVE DE SILANE A BASE DE NORBORNENE UTILISE DANS LA PREPARATION DE CES COPOLYMERES ET PROCEDE DE PREPARATION D'UN FILM ISOLANT A FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE CONTENANT CES COPOLYMERES
申请人:SAMYANG CORP
公开号:WO2008082128A1
公开(公告)日:2008-07-10
[EN] The present invention relates to norbornene-based polysilsesquioxane copolymers, norbornene-based silane derivatives used for preparation of the same and a method of preparing an insulating film of a semiconductor device. The norbornene-based polysilsesquioxane copolymers of the present invention are prepared by hydrolyzing and condensation-polymerizing a kind of cyclic olefin, i.e. a predetermined norbornene-based silane derivative and a predetermined polysilsesquioxane precursor used as monomers in an organic solvent in the presence of an acid or base catalyst and water. The norbornene-based silane derivatives of the present invention have high reactivity and the norbornene-based polysilsesquioxane copolymers of the present invention prepared using the same, have excellent mechanical properties, thermal stability and crack resistance and a low dielectric constant, and thus can be effectively used as a material for an interlayer insulating film of a semiconductor device with a low dielectric constant.
[FR] L'invention concerne des copolymères de polysilsesquioxane à base de norbornène, des dérivés de silane à base de norbornène utilisés dans la préparation de ces copolymères, ainsi qu'un procédé de préparation d'un film isolant de dispositif semiconducteur. Les copolymères selon l'invention sont obtenus par hydrolyse et polymérisation par condensation d'un type de cyclooléfine, à savoir un dérivé de silane à base de norbornène prédéterminé et un précurseur de polysilsesquioxane prédéterminé utilisés comme monomères dans un solvant organique en présence d'un catalyser acide ou basique et d'eau. Les dérivés de silane à base de norbornène selon l'invention présentent une réactivité élevée et les copolymères selon l'invention préparés au moyen desdits dérivés présentent des propriétés mécaniques, une stabilité thermique et une résistance au craquelage excellentes ainsi qu'une faible constante diélectrique, ce qui permet de les utiliser efficacement comme matériau de film isolant intercouche d'un dispositif semiconducteur présentant une faible constante diélectrique.