5-Methanesulfonylmethyl-isoxazole-3-carboxylic acid | 84654-31-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 5-Methanesulfonylmethyl-isoxazole-3-carboxylic acid
• 英文别名: 5-((Methylsulfonyl)methyl)isoxazole-3-carboxylic acid；5-(methylsulfonylmethyl)-1,2-oxazole-3-carboxylic acid
• CAS: 84654-31-9
• 化学式: C₆H₇NO₅S
• 分子量: 205.191
• InChiKey: JYZYBISLHGKOKG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  184-186 °C
• 沸点：
  572.8±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.556±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.5
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  106
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-甲基异恶唑-3-甲酸 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 硫酸 、 水 、 间氯过氧苯甲酸 、 lithium hydroxide 、 过氧化苯甲酰 作用下， 以 四氢呋喃 、 四氯化碳 、 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 19.75h， 生成 5-Methanesulfonylmethyl-isoxazole-3-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  SMALL MOLECULES AND METHODS OF REDUCING INJURIES CAUSED BY RADIATION OR CHEMICALS

  摘要：

  一系列基于一般式(I)的化合物或其药学上可接受的盐的小分子放射防护剂，其中n为1或2，而独立的R为Br、Cl、H-O、H3C-S，以及使用这些化合物来保护受试者的健康组织/器官，以减少放射线或化学物质引起的损伤。

  公开号：

  US20210087153A1

文献信息

• Small molecules and methods of reducing injuries caused by radiation or chemicals
  申请人：Shaw Jiajiu

  公开号：US11236056B2

  公开（公告）日：2022-02-01

  A series of small molecule, radioprotective agents based on a compound of the general formula (I): or pharmaceutically acceptable salts thereof, wherein n is 1 or 2, and, independently, R is Br, Cl, H—O, H3C—S, and use of the compounds to protect healthy tissue/organs of subjects to reduce the injuries caused by radiation or chemicals.

  基于通式(I)化合物的一系列小分子辐射防护剂： 或其药学上可接受的盐类，其中 n 为 1 或 2，R 分别为 Br、Cl、H-O、H3C-S、 并利用这些化合物保护受试者的健康组织/器官，以减少辐射或化学品造成的伤害。
• Micetich, Ronald G.; Shaw, Chia C.; Hall, Tse W., Heterocycles, 1985, vol. 23, # 3, p. 571 - 583
  作者：Micetich, Ronald G.、Shaw, Chia C.、Hall, Tse W.、Spevak, Paul、Fortier, Robert A.、et al.

  DOI：——

  日期：——
• MICETICH, R. G.;SHAW, CHIA, C.;HALL, T. M.;SNEVAK, P.;FORTIER, R. A.;WOLF+, HETEROCYCLES, 1985, 23, N 3, 571-583
  作者：MICETICH, R. G.、SHAW, CHIA, C.、HALL, T. M.、SNEVAK, P.、FORTIER, R. A.、WOLF+

  DOI：——

  日期：——