4-methyl-3-(1-methylethyl)pentanal | 261356-87-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-methyl-3-(1-methylethyl)pentanal
• 英文别名: 4-methyl-3-(methylethyl)pentanal；3-isopropyl-4-methylpentan-1-al；3,3-diisopropylpropionaldehyde；3-isopropyl-4-methylpentanal；3,3-diisopropylpropanal；4-methyl-3-(methylethyl)pentan-1-one；Pentanal, 4-methyl-3-(1-methylethyl)-；4-methyl-3-propan-2-ylpentanal
• CAS: 261356-87-0
• 化学式: C₉H₁₈O
• 分子量: 142.241
• InChiKey: JNGTVGAUNWOLHE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  172.0±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.810±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-methyl-3-(1-methylethyl)pentanal 在 吡啶 、 氢氟酸 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 三乙胺 、 lithium diisopropyl amide 作用下， 以 四氢呋喃 、 正庚烷 、 二氯甲烷 、 乙基苯 为溶剂， 反应 8.5h， 生成 (E)-5,5-bis(hydroxymethyl)-3-[4-methyl-3-(methylethyl)pentylidene]-4,5-dihydrofuran-2-one
  参考文献：
  名称：

  构象受限的二酰基甘油（DAG）类似物。16.识别和对蛋白激酶C的高结合亲和力需要多少结构复杂性？

  摘要：

  具有低纳摩尔结合亲和力的有效蛋白激酶C（PK-C）配体的设计是通过结合使用基于生理酶激活剂二酰基甘油（DAG）的药效基团和受体指导的方法来完成的。以前使用基于DAG和佛波酯酯药效基团的结构等效性的方法，确定了用于构建半刚性“识别域”的固定模板，该模板包含受限制在内酯环（DAG）中的DAG的三个主要药效基团。 -内酯）。在目前的工作中，基于与佛波醇13-O-乙酸酯复合的PK-Cdelta C1b结构域的X射线结构，将药效团引导的方法改进到了更高的水平。一个系统的搜索，涉及用线性或支链酰基和α-亚烷基链的组合修饰DAG-内酯模板，它们起可变的疏水“亲和结构域”的作用，帮助鉴定了优化与一组保守的疏水氨基酸的疏水接触的化合物位于佛波结合的C1域的上半部分。分子的亲水/疏水平衡通过根据基于片段的方法计算出的辛醇/水分配系数（log P）进行估算。支链α-亚烷基或酰基链的存在对于达到PK-C的低纳摩尔

  DOI：

  10.1021/jm9904607
• 作为产物：
  描述：

  3-异丙基-4-甲基-1-炔基-3-戊醇 在 甲酸 、 乙醚 、 钯 作用下， 生成 4-methyl-3-(1-methylethyl)pentanal
  参考文献：
  名称：

  3,4-二甲基-1-戊炔-3-醇和3-异丙基-4-甲基-1-戊炔-3-醇的甲酸重排

  摘要：

  研究了 3,4-二甲基-1-戊炔-3-醇 (II) 和 3-异丙基-4-甲基-1-戊炔-3-醇 (III) 对甲酸的行为。与之前的报告一样，甲醇被选为模型，其中叔碳原子与携带羟基的碳原子相邻。两种甲醇都产生大量相应的醛。这些醛很容易通过简单的蒸馏分离出来。II 以 45% 的产率得到 3,4-二甲基-3-戊烯-2-酮 (IIa)，以 5% 的产率得到 3,4-二甲基-2-戊烯醛 (lib)，一种新的醛。III以55％的产率得到3-异丙基-4-甲基-3-戊烯-2-酮(IIIa)和以6％的产率得到3-异丙基-4-甲基-2-戊烯醛(IIIb)。表征了这些羰基化合物。IIIb被氢化得到3-异丙基-4-甲基戊醛(IV)，为2,4-二硝基苯腙。

  DOI：

  10.1246/bcsj.32.547

文献信息

• Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10017664B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  Resist underlayer film-forming composition for forming resist underlayer film with high dry etching resistance, wiggling resistance and exerts good flattening property and embedding property for uneven parts, including resin obtained by reacting organic compound A including aromatic ring and aldehyde B having at least two aromatic hydrocarbon ring groups having phenolic hydroxy group and having structure wherein the aromatic hydrocarbon ring groups are bonded through tertiary carbon atom. The aldehyde B may be compound of Formula (1): The obtained resin may have a unit structure of Formula (2): Ar1 and Ar2 each are C6-40 aryl group. The organic compound A including aromatic ring may be aromatic amine or phenolic hydroxy group-containing compound. The composition may contain further solvent, acid and/or acid generator, or crosslinking agent. Forming resist pattern used for semiconductor production, including forming resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto semiconductor substrate and baking it.

  用于形成具有高干法蚀刻抗性、抗扭曲性并具有良好的平整性和嵌入性能的抗蚀底层膜形成组合物，包括通过使含有芳香环的有机化合物A和至少具有两个含酚羟基的芳香烃环团的醛B反应而获得的树脂，并具有芳香烃环团通过三级碳原子键合的结构。醛B可以是化合物的化学式（1）： 所得的树脂可能具有化学式（2）的单元结构： Ar1和Ar2各自是C6-40芳基团。含有芳香环的有机化合物A可能是芳香胺或含酚羟基的化合物。该组合物可能进一步含有溶剂、酸和/或酸发生剂，或交联剂。用于半导体生产的形成抗蚀图案，包括通过将抗蚀底层膜形成组合物涂覆在半导体衬底上并对其进行烘烤来形成抗蚀底层膜。
• Conformationally Constrained Analogues of Diacylglycerol. 18. The Incorporation of a Hydroxamate Moiety into Diacylglycerol-Lactones Reduces Lipophilicity and Helps Discriminate between <i>sn-1</i> and <i>sn-2</i> Binding Modes to Protein Kinase C (PK-C). Implications for Isozyme Specificity
  作者：Jeewoo Lee、Kee-Chung Han、Ji-Hye Kang、Larry L. Pearce、Nancy E. Lewin、Shunqi Yan、Samira Benzaria、Marc C. Nicklaus、Peter M. Blumberg、Victor E. Marquez

  DOI：10.1021/jm0103965

  日期：2001.12.1

  approach to reduce the log P in a series of diacylglycerol (DAG)-lactones known for their high binding affinity for protein kinase C (PK-C) is presented. Branched alkyl groups with reduced lipophilicity were selected and combined with the replacement of the ester or lactone oxygens by NH or NOH groups. Compound 6a with an isosteric N-hydroxyl amide arm represents the most potent and least lipophilic DAG analogue

  提出了一种减少一系列二酰基甘油（DAG）-内酯中的log P的方法，这些内酯对蛋白激酶C（PK-C）具有高结合亲和力。选择具有降低的亲脂性的支链烷基，并结合用NH或NOH基团取代酯或内酯氧。具有等排N-羟基酰胺基臂的化合物6a代表迄今为止已知的最有效和最不亲脂的DAG类似物。
• A General Catalyst for Site-Selective C(sp³)–H Bond Amination of Activated Secondary over Tertiary Alkyl C(sp³)–H Bonds
  作者：Ryan J. Scamp、James G. Jirak、Nicholas S. Dolan、Ilia A. Guzei、Jennifer M. Schomaker

  DOI：10.1021/acs.orglett.6b01392

  日期：2016.6.17

  catalyst-controlled and selective carbon–hydrogen (C–H) bond amination of activated secondary C–H bonds over tertiary alkyl C(sp3)–H bonds is challenging, as substrate control often dominates when reactive nitrene intermediates are involved. In this letter, we report the design of a new silver complex, [(Py5Me2)AgOTf]2, that displays general and good-to-excellent selectivity for nitrene insertion into

  作为底物控制，发现能够促进活化的二级 C-H 键在叔烷基 C(sp 3 )-H 键上的一般、催化剂控制和选择性碳-氢 (C-H) 键胺化的过渡金属配合物的发现具有挑战性当涉及反应性氮烯中间体时，通常占主导地位。在这封信中，我们报告了一种新的银配合物 [(Py 5 Me 2 )AgOTf] 2的设计，该配合物在将氮烯插入炔丙基、苄基和烯丙基 C-H 键时表现出普遍和良好的选择性。叔烷基 C(sp 3 )-H 键。
• NOVOLAC RESIN-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION USING BISPHENOL ALDEHYDE
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20160068709A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  Resist underlayer film-forming composition for forming resist underlayer film with high dry etching resistance, wiggling resistance and exerts good flattening property and embedding property for uneven parts, including resin obtained by reacting organic compound A including aromatic ring and aldehyde B having at least two aromatic hydrocarbon ring groups having phenolic hydroxy group and having structure wherein the aromatic hydrocarbon ring groups are bonded through tertiary carbon atom. The aldehyde B may be compound of Formula (1): The obtained resin may have a unit structure of Formula (2): Ar 1 and Ar 2 each are C 6-40 aryl group. The organic compound A including aromatic ring may be aromatic amine or phenolic hydroxy group-containing compound. The composition may contain further solvent, acid and/or acid generator, or crosslinking agent. Forming resist pattern used for semiconductor production, including forming resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto semiconductor substrate and baking it.

  高干法蚀刻抗性、抗扭曲性、并对不平整部分表现出良好的平整和嵌入性的抗阻层薄膜形成组合物，包括通过反应含芳香环的有机化合物A和至少有两个芳香族碳环环团且具有酚羟基的醛B所获得的树脂，并具有芳香族碳环环团通过三级碳原子键合的结构。醛B可以是化合物式（1）的化合物：所获得的树脂可以具有式（2）的单元结构：其中Ar1和Ar2各自是C6-40芳基团。含芳香环的有机化合物A可以是芳香胺或含酚羟基的化合物。该组合物还可以含有溶剂、酸和/或酸发生剂，或交联剂。用于半导体生产的形成光刻图形，包括将抗阻层薄膜形成组合物涂覆在半导体基板上并烘烤以形成抗阻层薄膜。
• Ligand-Controlled, Tunable Silver-Catalyzed C–H Amination
  作者：Juliet M. Alderson、Alicia M. Phelps、Ryan J. Scamp、Nicholas S. Dolan、Jennifer M. Schomaker

  DOI：10.1021/ja5094309

  日期：2014.12.3

  The development of readily tunable and regioselective C-H functionalization reactions that operate solely through catalyst control remains a challenge in modern organic synthesis. Herein, we report that simple silver catalysts supported by common nitrogenated ligands can be used to tune a nitrene transfer reaction between two different types of C-H bonds. The results reported herein represent the first example of ligand-controlled and site-selective silver-promoted C-H amination.