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2-Adamantyloxymethyl chloride | 177609-29-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-Adamantyloxymethyl chloride
英文别名
2-adamantyl chloromethyl ether;2-chloromethoxy-adamantane;2-chloromethoxyadamantane;2-(chloromethoxy)adamantane
2-Adamantyloxymethyl chloride化学式
CAS
177609-29-9
化学式
C11H17ClO
mdl
——
分子量
200.708
InChiKey
FXAYRZRJXCEBMC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    272.3±13.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.14±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.2
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Synthesis of Nπ-2-adamantyloxymethylhistidine, his(Nπ-2-adom), and its evaluation for peptide synthesis
    摘要:
    N-pi-2-Adamantyloxymethylhistidine, His(N pi-2-Adom), is prepared and successfully applied to the synthesis of thyrotropin-releasing hormone (TRH) in combination with tert-butyloxycarbonyl (Boc) as the N-alpha-protecting group. This new protecting group suppressed racemization during peptide synthesis and exhibited high solubility in organic solvents.
    DOI:
    10.1039/p19960000753
  • 作为产物:
    描述:
    2-金刚烷醇磺酰氯乙酸酐溶剂黄146 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 53.33h, 生成 2-Adamantyloxymethyl chloride
    参考文献:
    名称:
    Amino Acids and Peptides. L. Development of a Novel N.PI.-Protecting Group for Histidine, N.PI.-2-Adamantyloxymethylhistidine, and Its Application to Peptide Synthesis.
    摘要:
    Nα-tert-Butyloxycarbonyl-Nπ-2-adamantyloxymethylhistidine, Boc-His(Nπ-2-Adom)-OH, 是由 Boc-His (Nτ-Boc)-OMe 与 2-adamantyloxymethyl chloride (2-Adom-Cl) 反应,然后皂化制备的。2-Adom 基团对三氟乙酸 (TFA)、1 N NaOH 和 20% 的哌啶/DMF 很稳定,并且很容易被 1 M 三氟甲磺酸-硫代苯甲醚/TFA 和氢氟酸去除。这种新的保护基团可抑制多肽合成过程中的析出,并在有机溶剂中具有高溶解性。研究人员采用溶液法和固相法将其用于合成促甲状腺激素释放激素(TRH)。在溶液法和固相法中,Nπ-2-Adom 基团可与叔丁氧羰基作为 Nd 保护基团结合用于多肽合成。
    DOI:
    10.1248/cpb.45.452
  • 作为试剂:
    描述:
    聚合甲醛2-金刚烷醇盐酸2-Adamantyloxymethyl chloride 作用下, 反应 12.0h, 以to obtain 2-adamantyl chloromethyl ether (compound 2)的产率得到2-Adamantyloxymethyl chloride
    参考文献:
    名称:
    Polymer Compound, Photoresist Composition Including the Polymer Compound, and Resist Pattern Formation Method
    摘要:
    本发明提供了一种聚合物化合物,该化合物可以构成一种光刻胶组合物,该组合物能够具有优异的分辨率,形成具有良好矩形度的精细图案,即使从酸发生器生成的酸的强度较弱,也能获得良好的抗性特性,并具有良好的灵敏度;包括该聚合物化合物的光刻胶组合物;以及使用该光刻胶组合物的抗性图案形成方法。该光刻胶组合物和抗性图案形成方法使用包括碱溶性基团(i)的聚合物化合物,其中碱溶性基团(i)是从醇羟基、羧基或酚羟基中至少选择一个取代基团,并且该取代基团由一种酸解离、抑制溶解的基团(ii)保护,该基团由通式(1)表示:—CH2—OCH2nR1(1)(其中R1表示不含有超过20个碳原子的环烷基团,可能含有氧原子、氮原子、硫原子或卤素原子,n表示0或1到5的整数)。
    公开号:
    US20080166655A1
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文献信息

  • Fluorinated compound, fluoropolymer and method for producing the compound
    申请人:Asahi Glass Company, Limited
    公开号:US07825275B2
    公开(公告)日:2010-11-02
    To provide a novel fluorinated compound, a fluoropolymer and a method for producing the compound. A compound represented by the formula CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR (wherein X is a hydrogen atom, a cyano group or a group represented by the formula —C(O)OZ, Z is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group, n is 0, 1, or 2, and R is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group), a method for producing it, and a fluoropolymer obtained by polymerizing the compound.
    提供一种新型氟化合物、氟聚合物以及制备该化合物的方法。 一种由下式表示的化合物CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR(其中X为氢原子、氰基或由式—C(O)OZ表示的基团,Z为氢原子或C1-20单价有机基团,n为0、1或2,R为氢原子或C1-20单价有机基团),以及制备该化合物的方法,以及通过聚合该化合物获得的氟聚合物。
  • TETRAKIS(ETHER-SUBSTITUTED FORMYLPHENYL) AND NEW POLYNUCLEAR POLYPHENOL DERIVED FROM THE SAME
    申请人:Yoshitomo Akira
    公开号:US20110172457A1
    公开(公告)日:2011-07-14
    Disclosed are tetrakis(ether-substituted formylphenyl) expressed by General Formula (1), as well as polynuclear polyphenol derived from such tetrakis(ether-substituted formylphenyl): (In the formula, R 1 represents an alkyl group with 1 to 8 carbon atoms or alkoxyl group with 1 to 8 carbon atoms, or aromatic hydrocarbon group or saturated hydrocarbon group with 1 to 8 carbon atoms having an aromatic hydrocarbon group, n represents 0 or an integer of 1 to 3, R 2 represents a divalent monocyclic or fused-ring aromatic hydrocarbon group with 6 to 15 carbon atoms or divalent aliphatic hydrocarbon group with 1 to 8 carbon atoms that may have a monocyclic or fused-ring aromatic hydrocarbon group with 6 to 15 carbon atoms, R 3 represents a hydrogen atom or alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, A represents a tetravalent carbon atom group or tetravalent saturated hydrocarbon group with 2 or more carbon atoms, where, if A is a tetravalent saturated hydrocarbon group with 2 or more carbon atoms, the two carbon atoms in the A group are bonded with two phenyl groups, respectively.)
    通用公式(1)表示的四(醚取代甲酰基苯基)以及由此类四(醚取代甲酰基苯基)衍生的多核多酚已公开:(在公式中,R1代表具有1至8个碳原子的烷基基团或具有1至8个碳原子的烷氧基团,或具有具有芳香烃基的1至8个碳原子的芳香烃基或饱和碳氢基团,n代表0或1至3的整数,R2代表具有6至15个碳原子的二价单环或融合环芳香烃基团或具有1至8个碳原子的二价脂肪碳氢基团,该基团可能具有具有6至15个碳原子的单环或融合环芳香烃基团,R3代表氢原子或具有1至6个碳原子的烷基基团,A代表四价碳原子基团或具有2个或更多碳原子的四价饱和碳氢基团,如果A是具有2个或更多碳原子的四价饱和碳氢基团,则A基团中的两个碳原子分别与两个苯基团结合。)
  • CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE MATERIAL AND PHOTORESIST COMPOSITION
    申请人:Shibata Mitsuru
    公开号:US20100190107A1
    公开(公告)日:2010-07-29
    A cyclic compound shown by the following formula (I):
    一个由以下公式(I)所示的环状化合物:
  • SALT, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20120264060A1
    公开(公告)日:2012-10-18
    A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently each represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, L 2 and L 3 respectively represent a single bond or a C1-C6 divalent saturated alkyl group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, ring W 1 and ring W 2 respectively represent a C3-C36 hydrocarbon ring, R 1 and R 2 respectively represent a hydrogen atom or C1-C6 alkyl group, R 3 represents C1-C6 alkyl group, t represents an integer of 0 to 2 and Z + represents an organic counter ion
    一种由化学式(I)表示的盐:其中Q1和Q2分别代表氟原子或C1-C6全氟烷基基团,L1代表C1-C17的二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,L2和L3分别代表单键或C1-C6的二价饱和烷基基团,其中一个亚甲基基团可被氧原子或羰基取代,环W1和环W2分别代表C3-C36的碳氢环,R1和R2分别代表氢原子或C1-C6烷基基团,R3代表C1-C6烷基基团,t代表0到2之间的整数,Z+代表有机对离子。
  • COMPOUND, RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20120295201A1
    公开(公告)日:2012-11-22
    A compound represented by formula (I): wherein T 1 represents a single bond or a C6-C14 aromatic hydrocarbon group, L 1 represents a C1-C17 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, L 2 and L 3 each independently represent a single bond or a C1-C6 divalent saturated hydrocarbon group in which a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group, ring W 1 and ring W 2 each independently represent a C3-C36 hydrocarbon ring, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group, or C1-C6 alkyl group, R 5 represents a hydroxyl group or a methyl group, m represents 0 or 1, and t and u each independently represent an integer of 0 to 2.
    一个由化学式(I)表示的化合物:其中T1代表一个单键或一个C6-C14芳香烃基,L1代表一个C1-C17二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,L2和L3分别独立地代表一个单键或一个C1-C6二价饱和碳氢基团,其中一个亚甲基基团可以被氧原子或羰基所取代,环W1和环W2分别独立地代表一个C3-C36碳氢环,R1和R2分别独立地代表一个氢原子、一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R3和R4分别独立地代表一个羟基或一个C1-C6烷基基团,R5代表一个羟基或一个甲基基团,m代表0或1,t和u分别独立地代表0到2之间的整数。
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