hexahydro-4,7-methano-isobenzofuran-1-one | 5963-26-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 英文名称: hexahydro-4,7-methano-isobenzofuran-1-one
• 英文别名: hexahydro-4,7-methano-isobenzofuran-1(3H)-one；3-Hydroxymethyl-bicyclo<2.2.1>-heptan-carbonsaeure-(2)-lacton；Hexahydro-4,7-methylen-phthalid；hexahydro-4,7-methano-iso-benzofuran-1(3H)-one；4-oxatricyclo[5.2.1.02,6]decan-3-one
• CAS: 5963-26-8
• 化学式: C₉H₁₂O₂
• 分子量: 152.193
• InChiKey: DGTBPTXOXUGLAH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  145 °C
• 沸点：
  289.5±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.198±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲醇 、 hexahydro-4,7-methano-isobenzofuran-1-one 、 红铝 以 甲苯 为溶剂， 以98%的产率得到1-Hydroxy-octahydro-4,7-methano-iso-benzofuran
  参考文献：
  名称：

  Novel norbornane- and norbornene-carboxylic acid amides thromboxan

  摘要：

  分子式为##STR1##的诺博南酸和诺博烯酸酰胺，其中##STR2##表示部分结构##STR3##，A表示##STR4##或--CH.sub.2 --CH.sub.2 --基团，R.sup.1和R.sup.2各自独立地表示氢或具有1-6个碳原子的烷基基团，R.sup.3表示具有1-8个碳原子的烷基或烯基，可选择地被卤素或具有1或2个碳原子的烷基，环烷基或环烯基取代，或者是具有6或10个碳原子的芳基，可选择地被卤素，具有1或2个碳原子的烷基或具有1或2个碳原子的卤代烷基取代，或者是一个五元或六元杂芳基，R.sup.4表示氢或羟基，R.sup.5和R.sup.6各自独立地表示氢或具有1至4个碳原子的烷基，n是2至6的数字，如果R.sup.1是氢，则也包括生理上可接受的盐。它们具有血栓素拮抗剂的作用。

  公开号：

  US04622339A1
• 作为产物：
  描述：

  二环[2.2.1]庚烷-2,3-二甲醇 在 C₂₆H₂₈ClIrN₄O 、 potassium hydroxide 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 12.0h， 以70%的产率得到hexahydro-4,7-methano-isobenzofuran-1-one
  参考文献：
  名称：

  用于酮和仲醇烷基化的 Ir 络合物质子响应性吡啶基（苯甲酰胺）功能化 NHC 配体

  摘要：

  甲的Cp *铱（III）配合物（1新设计的配位体L）的1设有附加在N个质子响应吡啶基（苯甲酰氨基）-杂环卡宾（NHC）已被合成。的分子结构1揭示了配体的脱芳构化形式。1与 HBF 4在四氢呋喃中的质子化得到相应的芳构化配合物 [Cp*Ir(L 1 H)Cl]BF 4 ( 2 )。两种化合物均通过光谱学和 X 射线晶体学表征。1与酸的质子化通过1 H NMR 和 UV-vis 光谱检查。质子响应特性1用于以伯醇为烷基化剂通过借氢方法催化酮的α-烷基化和仲醇的β-烷基化。化合物1是这些反应的有效催化剂，与缺乏质子响应侧链酰胺部分的结构相似的铱配合物 [Cp*Ir(L 2 )Cl]PF 6 ( 3 )相比，表现出优异的活性。催化烷基化的特点是底物范围广、催化剂和碱负载量低、反应时间短。催化效能1还证明了通过无受体脱氢和两种类固醇（孕烯醇酮和睾酮）的选择性烷基化合成喹啉和内酯衍生物。详细的机理研究和

  DOI：

  10.1002/chem.202101360

文献信息

• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：NISHI Tsunehiro

  公开号：US20100062374A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising recurring units containing a non-leaving hydroxyl group represented by formula (1) wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, X is a single bond or methylene, m is 1 or 2, and the hydroxyl group attaches to a secondary carbon atom. The composition is improved in resolution when processed by lithography.

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120237875A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R 1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O— # or —SO 2 —O— ## , wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” indicates a bonding hand bonded to R 1 . -A-R 1 (x)

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括酸敏感基团，酸发生剂用于在辐射照射后生成酸，以及第二聚合物，其中包括氟原子和由通用公式（x）表示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱性易裂解基团。A代表氧原子，-NR′—，-CO—O—#或-SO2—O—##，其中A代表的氧原子不是直接与芳香环、酰基或亚砜基结合的氧原子，R′代表氢原子或碱性易裂解基团，“#”和“##”表示与R1结合的键合手。-A-R1(x)
• RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING PROCESS, POLYMER, AND MONOMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170184967A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  A polymer comprising recurring units containing a specific lactone ring and having an alkyl group on γ-butyrolactone skeleton of fused ring lactone and an alkyl ester substituent group intervening between the lactone structure and the polymer backbone is provided. A resist composition comprising the polymer as base resin is improved in such properties as DOF margin and MEF and quite effective for precise micropatterning.

  提供一种聚合物，其中包含含有特定内酯环的重复单元，并且在融合环内酯的γ-丁内酯骨架上具有烷基基团，以及在内酯结构和聚合物主链之间具有烷基酯取代基团。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物在DOF边缘和MEF等性能方面得到改善，并且非常有效用于精确微图案化。