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N-环己基-N’-[2-(4-吗啉基)乙基]-硫脲 | 21545-54-0

中文名称
N-环己基-N’-[2-(4-吗啉基)乙基]-硫脲
中文别名
N-环己基-N'-[2-(4-吗啉基)乙基]-硫脲;1-环己基-3-(2-吗啉乙基)硫脲
英文名称
1-Cyclohexyl-3-(2-morpholinoethyl)-2-thiourea
英文别名
1-cyclohexyl-3-(2-morpholin-4-yl-ethyl)-thiourea;N-cyclohexyl-N'-(2-morpholino-ethyl)-thiourea;N-Cyclohexyl-N'-(2-morpholino-aethyl)-thioharnstoff;1-cyclohexyl-3-(2-morpholinoethyl)thiourea;1-Cyclohexyl-3-(2-morpholino-ethyl)-thioharnstoff;1-cyclohexyl-3-(2-morpholin-4-ylethyl)thiourea
N-环己基-N’-[2-(4-吗啉基)乙基]-硫脲化学式
CAS
21545-54-0
化学式
C13H25N3OS
mdl
MFCD00006179
分子量
271.427
InChiKey
AKYYGBUVZFGJNI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    125-126 °C(lit.)
  • 密度:
    1.0836 (rough estimate)
  • 溶解度:
    38.5 [ug/mL]
  • 稳定性/保质期:
    遵照规定使用和储存,则不会发生分解。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.4
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.923
  • 拓扑面积:
    68.6
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 安全说明:
    S24/25,S76
  • WGK Germany:
    3

SDS

SDS:2cce0a73079dcd5c3725a8d8da4a144d
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1.1 产品标识符
: 1-Cyclohexyl-3-(2-morpholinoethyl)-2-thiourea
化学品俗名或商品名
1.2 鉴别的其他方法
无数据资料
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途,不作为药物、家庭备用药或其它用途。

模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
根据全球协调系统(GHS)的规定,不是危险物质或混合物。
2.3 其它危害物 - 无

模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: C13H25N3OS
分子式
: 271.42 g/mol
分子量
成分 浓度
1-Cyclohexyl-3-(2-morpholinoethyl)thiourea
-
化学文摘编号(CAS No.) 21545-54-0
EC-编号 244-436-1

模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
如果吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。
在皮肤接触的情况下
用肥皂和大量的水冲洗。
在眼睛接触的情况下
用水冲洗眼睛作为预防措施。
如果误服
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。
4.2 最重要的症状和影响,急性的和滞后的
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物, 硫氧化物
5.3 救火人员的预防
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步的信息
无数据资料

模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。
6.2 环境预防措施
不要让产物进入下水道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
扫掉和铲掉。 存放在合适的封闭的处理容器内。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭,储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

模块 8. 接触控制/个体防护
8.1 控制参数
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
常规的工业卫生操作。
人身保护设备
眼/面保护
请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
根据危险物质的类型,浓度和量,以及特定的工作场所来选择人体保护措施。,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
不需要保护呼吸。如需防护粉尘损害,请使用N95型(US)或P1型(EN 143)防尘面具。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH(US)或CEN(EU)的呼吸器和零件。

模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 固体
b) 气味
无数据资料
c) 气味临界值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/熔点范围: 125 - 126 °C - lit.
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 可燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸气压
无数据资料
l) 相对蒸气密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) 辛醇/水分配系数的对数值
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 化学稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 避免接触的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
半致死剂量(LD50) 静脉内的 - 老鼠 - 320 mg/kg
皮肤腐蚀/刺激
无数据资料
严重眼损伤 / 眼刺激
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞诱变
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(一次接触)
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(反复接触)
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛 可能引起眼睛刺激。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

模块 12. 生态学资料
12.1 毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 生物积累的潜在可能性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。
污染了的包装物
作为未用过的产品弃置。

模块 14. 运输信息
14.1 UN编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国(UN)规定的名称
欧洲陆运危规: 无危险货物
国际海运危规: 无危险货物
国际空运危规: 无危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别预防
无数据资料


模块 15 - 法规信息
N/A


模块16 - 其他信息
N/A

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Synthesis of hydantocidin and C-2-thioxo-hydantocidin
    作者:Masao Shiozaki
    DOI:10.1016/s0008-6215(01)00239-7
    日期:2001.10
    Hydantocidin (12), a naturally occurring strong herbicide, was synthesized in 35.2% overall yield, with accompanying 5-epi-hydantocidin (12') in 9.6% overall yield via isothiocyanate (13) and spiro-hydantoin (10) from 2,3-O-isopropylidene-D-ribono-1,4-lactone (1). C-2-thioxo-hydantocidin (24) was also synthesized in 16.5% overall yield with accompanying 5-epi-C-2-thioxohydantocidin (24', 9.2% yield)
    Hydantocidin(12)是一种天然存在的强力除草剂,通过异硫氰酸酯(13)和螺-乙内酰脲(10)的合成,以35.2%的总收率合成了伴随的5-epi-hydantocidin(12'),以9.6%的总收率收率。 3-O-异亚丙基-D-ribono-1,4-内酯(1)。还通过异硫氰酸酯(22)以16.5%的总收率合成了C-2-硫氧杂合羟基抗生物素蛋白(24),伴随有5-表-C-2-硫氧杂合羟基抗生物素蛋白(24',9.2%的产率)。
  • Positive photosensitive composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020102491A1
    公开(公告)日:2002-08-01
    A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.
    一种正性感光组合物包括一种化合物,该化合物能够在受到光射线或辐射照射时生成一种特定的磺酸,以及(B)一种树脂,该树脂能够在酸的作用下分解,从而增加在碱性显影剂中的溶解度。
  • METHODS OF DEGRADING ORGANIC POLLUTANTS AND PREVENTING OR TREATING MICROBE USING Bi2S3-CdS PARTICLES
    申请人:Imam Abdulrahman Bin Faisal University
    公开号:US20200102228A1
    公开(公告)日:2020-04-02
    Methods of synthesizing Bi 2 S 3 —CdS particles in the form of spheres as well as properties of these Bi 2 S 3 —CdS particles are described. Methods of photocatalytic degradation of organic pollutants employing these Bi 2 S 3 —CdS particles and methods of preventing or reducing microbial growth on a surface by applying these Bi 2 S 3 —CdS particles in the form of a solution or an antimicrobial product onto the surface are also specified.
    本文描述了合成球形Bi2S3-CdS颗粒的方法以及这些颗粒的性质。还介绍了利用这些Bi2S3-CdS颗粒进行光催化降解有机污染物的方法,以及通过将这些Bi2S3-CdS颗粒以溶液或抗微生物产品的形式涂布在表面上来防止或减少微生物生长的方法。
  • Positive resist composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020006578A1
    公开(公告)日:2002-01-17
    A positive resist composition comprising (A) a compound generating a specific sulfonimide compound by irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a resin having a group, which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility of the composition in an alkali developer. The resist composition has an improved resolving power and an improved process allowance such as exposure margin and the depth of focus in a lithographic technique using a light source of short wavelengths capable of super fine working and a positive chemically amplified resist.
    一种正向光刻胶组合物,包括(A)一种化合物,通过受到光辐射或辐射而产生特定磺酰亚胺化合物,以及(B)一种树脂,具有一种基团,通过酸的作用分解以增加组合物在碱性显影剂中的溶解度。该光刻胶组合物具有改善的分辨率和改善的工艺容差,如曝光余量和焦深,适用于使用短波长光源的光刻技术和正向化学增强型光刻胶的超细加工。
  • Negative resist composition
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020061462A1
    公开(公告)日:2002-05-23
    A negative resist composition comprises: (A) an alkali-soluble resin; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with a radiation; (C) a crosslinking agent capable of crosslinking by the action of an acid; and (D) a solvent mixture containing: at least one solvent selected from the group A below; and at least one selected from the group consisting of the group B below and the group C below: group A: a propylene glycol monoalkyl ether carboxylate; group B: a propylene glycol monoalkyl ether, an alkyl lactate, an acetic ester, a chain ketone and an alkyl alkoxypropionate; group C: a &ggr;-butyrolactone, an ethylene carbonate and a propylene carbonate.
    一种负性光阻组合物包括:(A)一种可溶于碱的树脂;(B)一种在辐射下能够产生酸的化合物;(C)一种能够通过酸的作用进行交联的交联剂;和(D)含有溶剂混合物:至少包括下列A组中的一种溶剂;以及至少包括下列B组和下列C组中的一种的混合物:A组:丙二醇单烷基醚羧酸盐;B组:丙二醇单烷基醚、烷基乳酸酯、醋酸酯、链状酮和烷基烷氧基丙酸酯;C组:γ-丁内酯、乙烯碳酸酯和丙烯酸酯。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
hnmr
mass
cnmr
ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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