1,1,1-trifluoro-2,5-dihydroxy-2-(trifluoromethyl)pentane | 630414-87-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,1,1-trifluoro-2,5-dihydroxy-2-(trifluoromethyl)pentane
• 英文别名: 5,5,5-trifluoro-4-trifluoromethyl-pentane-1,4-diol；1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-2,5-pentanediol；5,5,5-Trifluoro-4-(trifluoromethyl)pentane-1,4-diol
• CAS: 630414-87-8
• 化学式: C₆H₈F₆O₂
• 分子量: 226.119
• InChiKey: JPCATPNHPKHHHV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  184.8±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.454±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1-trifluoro-2,5-dihydroxy-2-(trifluoromethyl)pentane 、 乙烯基乙醚 在 mercury(II) diacetate 碳酸氢钠 作用下， 以 乙醚 、 水 为溶剂， 反应 48.0h， 以35%的产率得到1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-5-vinyloxy-pentan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated vinyl ethers, copolymers thereof, and use in lithographic photoresist compositions

  摘要：

  提供具有结构式（I）的氟化乙烯醚，其中结构式（I）中的X和Y中至少有一个是氟原子，而L、R1、R2、R3、R4如本文所定义。还提供由（I）和可能不是氟化的第二单体进行自由基聚合制备的共聚物。这些聚合物在光刻光阻组合物中很有用，特别是化学放大光阻。在一个首选实施例中，这些聚合物对深紫外（DUV）辐射几乎透明，因此在DUV光刻光阻组合物中很有用。还提供一种使用该组合物在基板上生成抗蚀图像的方法，即在集成电路或类似产品的制造中。

  公开号：

  US20060287558A1
• 作为产物：
  描述：

  2-烯丙六氟异丙醇 在 dimethyl sulfide borane 、 sodium hydroxide 、 盐酸 、 双氧水 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 1,1,1-trifluoro-2,5-dihydroxy-2-(trifluoromethyl)pentane 、 1,1,1-三氟-2-三氟甲基-2,4-戊二醇
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated vinyl ethers, copolymers thereof, and use in lithographic photoresist compositions

  摘要：

  提供具有结构式（I）的氟化乙烯醚，其中结构式（I）中的X和Y中至少有一个是氟原子，而L、R1、R2、R3、R4如本文所定义。还提供由（I）和可能不是氟化的第二单体进行自由基聚合制备的共聚物。这些聚合物在光刻光阻组合物中很有用，特别是化学放大光阻。在一个首选实施例中，这些聚合物对深紫外（DUV）辐射几乎透明，因此在DUV光刻光阻组合物中很有用。还提供一种使用该组合物在基板上生成抗蚀图像的方法，即在集成电路或类似产品的制造中。

  公开号：

  US20060287558A1

文献信息

• Precursors to fluoroalkanol-containing olefin monomers and associated methods of synthesis and use
  申请人：Breyta Gregory

  公开号：US20050124827A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  The invention provides alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors to fluoroalkanol-substituted α,β-unsaturated esters. The fluoroalkanol-substituted α,β-unsaturated esters are olefins that can be readily polymerized to provide fluoroalkanol-substituted polymers useful in lithographic photoresist compositions. Also provided are methods for synthesizing the alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors.

  这项发明提供了烯烃氟烷醇和氟代多元醇前体，用于制备氟烷醇取代的α，β-不饱和酯。这些氟烷醇取代的α，β-不饱和酯是烯烃，可以方便地聚合，从而提供在光刻光阻组合物中有用的氟烷醇取代聚合物。还提供了合成烯烃氟烷醇和氟代多元醇前体的方法。
• Precursors to fluoroalkanol-containing olefin monomers, and associated methods of synthesis and use
  申请人：Breyta Gregory

  公开号：US20050124828A1

  公开（公告）日：2005-06-09

  The invention provides alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors to fluoroalkanol-substituted αβ-unsaturated esters. The fluoroalkanol-substituted αβ-unsaturated esters are olefins that can be readily polymerized to provide fluoroalkanol-substituted polymers useful in lithographic photoresist compositions. Also provided are methods for synthesizing the alkene fluoroalkanol and fluorinated polyol precursors.

  该发明提供了烯烃氟烷醇和氟代聚醇前体，用于制备氟烷醇取代的αβ-不饱和酯。这些氟烷醇取代的αβ-不饱和酯是烯烃，可以方便地聚合，从而提供在光刻光阻组合物中有用的氟烷醇取代聚合物。还提供了合成烯烃氟烷醇和氟代聚醇前体的方法。
• Fluorinated compound, fluoropolymer and method for producing the compound
  申请人：Asahi Glass Company, Limited

  公开号：US07825275B2

  公开（公告）日：2010-11-02

  To provide a novel fluorinated compound, a fluoropolymer and a method for producing the compound. A compound represented by the formula CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR (wherein X is a hydrogen atom, a cyano group or a group represented by the formula —C(O)OZ, Z is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group, n is 0, 1, or 2, and R is a hydrogen atom or a C1-20 monovalent organic group), a method for producing it, and a fluoropolymer obtained by polymerizing the compound.

  提供一种新型氟化合物、氟聚合物以及制备该化合物的方法。 一种由下式表示的化合物CF2═CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR═CHR（其中X为氢原子、氰基或由式—C(O)OZ表示的基团，Z为氢原子或C1-20单价有机基团，n为0、1或2，R为氢原子或C1-20单价有机基团），以及制备该化合物的方法，以及通过聚合该化合物获得的氟聚合物。
• Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt, Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt Resin, Resist Composition, and Pattern Forming Method Using Same
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150198879A1

  公开（公告）日：2015-07-16

  Disclosed is a fluorine-containing sulfonic acid salt resin having a repeating unit represented by the following general formula (3). In the formula, each A independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1-10. W represents a bivalent linking group, R 01 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and M + represents a monovalent cation. A resist composition containing this resin is further superior in sensitivity, resolution and reproducibility of mask pattern and is capable of forming a pattern with a low LER.

  本公开了一种含氟磺酸盐树脂，其具有以下通用式（3）所代表的重复单元。在该式中，每个A独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基基团，n表示1-10的整数。W表示二价连接基团，R01表示氢原子或一价有机基团，M+表示一价阳离子。含有该树脂的抗蚀组合物在感光性、分辨率和掩膜图案的重现性方面更加优越，并且能够形成具有较低LER的图案。
• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2018039793A

  公开（公告）日：2018-03-15

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる塩、これを含むレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含むレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。［式中、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。ｚは、０〜６の整数を表す。Ｘ1は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は＊−Ｏ−を表し、＊は、Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）又はＣ（Ｑ１）（Ｑ２）との結合位を表す。Ａ１は、直鎖又は分岐の２価の飽和脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、フッ素化アルキル基を表す。Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  这个问题描述的是提供一种能够制造具有良好CD均一性（CDU）的光刻胶图案的盐，包括这种盐的光刻胶组合物和制造光刻胶图案的方法。解决方案是一种由式（I）表示的盐，包括这种盐的光刻胶组合物和制造光刻胶图案的方法。【式中，Q1和Q2分别独立表示氟原子或全氟烷基。R1和R2分别独立表示氢原子、氟原子或全氟烷基。z表示0到6的整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−，*表示与C（R1）（R2）或C（Q1）（Q2）的结合位。A1表示直链或支链的二价饱和脂肪族烃基。R3和R4分别独立表示氟化烷基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无