1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-5-vinyloxy-pentan-2-ol | 634196-76-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-5-vinyloxy-pentan-2-ol
• 英文别名: 5-ethenoxy-1,1,1-trifluoro-2-(trifluoromethyl)pentan-2-ol
• CAS: 634196-76-2
• 化学式: C₈H₁₀F₆O₂
• 分子量: 252.157
• InChiKey: WHONXLUSFJTTGU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  225.7±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.310±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,1,1-trifluoro-2,5-dihydroxy-2-(trifluoromethyl)pentane 、 乙烯基乙醚 在 mercury(II) diacetate 碳酸氢钠 作用下， 以 乙醚 、 水 为溶剂， 反应 48.0h， 以35%的产率得到1,1,1-trifluoro-2-trifluoromethyl-5-vinyloxy-pentan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated vinyl ethers, copolymers thereof, and use in lithographic photoresist compositions

  摘要：

  提供具有结构式（I）的氟化乙烯醚，其中结构式（I）中的X和Y中至少有一个是氟原子，而L、R1、R2、R3、R4如本文所定义。还提供由（I）和可能不是氟化的第二单体进行自由基聚合制备的共聚物。这些聚合物在光刻光阻组合物中很有用，特别是化学放大光阻。在一个首选实施例中，这些聚合物对深紫外（DUV）辐射几乎透明，因此在DUV光刻光阻组合物中很有用。还提供一种使用该组合物在基板上生成抗蚀图像的方法，即在集成电路或类似产品的制造中。

  公开号：

  US20060287558A1

文献信息

• US7150957B2
  申请人：——

  公开号：US7150957B2

  公开（公告）日：2006-12-19
• US7465837B2
  申请人：——

  公开号：US7465837B2

  公开（公告）日：2008-12-16
• US7947425B2
  申请人：——

  公开号：US7947425B2

  公开（公告）日：2011-05-24
• Fluorinated vinyl ethers, copolymers thereof, and use in lithographic photoresist compositions
  申请人：DiPietro A. Richard

  公开号：US20060287558A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  Fluorinated vinyl ethers are provided having the structure of formula (I) the structure of formula (I) wherein at least one of X and Y is a fluorine atom, and L, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 are as defined herein. Also provided are copolymers prepared by radical polymerization of (I) and a second monomer that may not be fluorinated. The polymers are useful in lithographic photoresist compositions, particularly chemical amplification resists. In a preferred embodiment, the polymers are substantially transparent to deep ultraviolet (DUV) radiation, and are thus useful in DUV lithographic photoresist compositions. A method for using the composition to generate resist images on a substrate is also provided, i.e., in the manufacture of integrated circuits or the like.

  提供具有结构式（I）的氟化乙烯醚，其中结构式（I）中的X和Y中至少有一个是氟原子，而L、R1、R2、R3、R4如本文所定义。还提供由（I）和可能不是氟化的第二单体进行自由基聚合制备的共聚物。这些聚合物在光刻光阻组合物中很有用，特别是化学放大光阻。在一个首选实施例中，这些聚合物对深紫外（DUV）辐射几乎透明，因此在DUV光刻光阻组合物中很有用。还提供一种使用该组合物在基板上生成抗蚀图像的方法，即在集成电路或类似产品的制造中。