1-ethylcyclopentyl acetate | 3742-80-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-ethylcyclopentyl acetate
• 英文别名: 1-Acetoxy-1-aethyl-cyclopentan；1-Aethyl-1-acetoxy-cyclopentan；1-Ethyl-1-cyclopentanol acetate；(1-ethylcyclopentyl) acetate
• CAS: 3742-80-1
• 化学式: C₉H₁₆O₂
• 分子量: 156.225
• InChiKey: NRTGZESAIDNRFP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  168-169 °C
• 密度：
  0.96±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2915390090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethylcyclopentyl acetate 在 lithium hexamethyldisilazane 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 1-ethylcyclopentyl 3-hydroxy-3-(5-norbornen-2-yl)propionate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds having alicyclic structure and method for preparing same

  摘要：

  化合物的公式为（1）的酯类化合物可用作单体，形成基础树脂，用于化学放大的抗蚀剂组合物，适用于微细图案制作的光刻。其中，1R1为氢或C1-6烷基，R2为酸敏感基团，k为0或1，m为0至5的整数。

  公开号：

  US20010051741A1
• 作为产物：
  描述：

  环戊酮 在 4-二甲氨基吡啶 、 5%-palladium/activated carbon 、 氢气 、 sodium methylate 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 为溶剂， 80.0 ℃ 、3.0 MPa 条件下， 反应 92.0h， 生成 1-ethylcyclopentyl acetate
  参考文献：
  名称：

  [EN] ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
  [FR] ÉTHERS ET ESTERS DE CYCLOALCANOLS SUBSTITUÉS EN POSITION 1 DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS EN TANT QUE PRODUITS CHIMIQUES AROMATIQUES

  摘要：

  本发明涉及使用1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体作为香气化学品的用途；用于修改香味组合物的气味特性；以及含有1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体的香气化学品组合物；以及制备香味组合物或修改香味组合物的气味特性的方法。该发明还涉及特定的1-取代环烷醇的醚或酯。

  公开号：

  WO2020079007A1

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• Methods for Producing Fluorine-Containing Hydroxyaldehyde, Fluorine-Containing Propanediol, and Fluorine-Containing Alcohol Monomer
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150361026A1

  公开（公告）日：2015-12-17

  As shown by the following reaction formula, disclosed is a fluorine-containing hydroxyaldehyde production method, including the step of obtaining a fluorine-containing hydroxyaldehyde represented by the general formula (1) by reacting a fluorine-containing ketone represented by the general formula (4) and an aldehyde represented by the general formula (5) in the presence of an organic base selected from a heterocyclic compound which contains a nitrogen atom in its ring or a tertiary amine. By this production method, it is possible to obtain the fluorine-containing hydroxyaldehyde in a high yield. Furthermore, it is possible to easily obtain in high yields a fluorine-containing propanediol, which is a derivative of this fluorine-containing hydroxyaldehyde, and a fluorine-containing alcohol monomer by using the same.

  根据以下反应方程式，揭示了一种含氟羟基醛的生产方法，包括通过在选择的含氟酮（通式（4）表示）和醛（通式（5）表示）在含有从含有氮原子的杂环化合物或三级胺中选择的有机碱的情况下反应，获得由通式（1）表示的含氟羟基醛的步骤。通过这种生产方法，可以高产率地获得含氟羟基醛。此外，可以通过使用相同方法轻松高产率地获得含氟丙二醇（这是这种含氟羟基醛的衍生物）和含氟醇单体。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。