【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造できる塩及び該塩を含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2は、各々独立に、F又はC1〜C6のペルフルオロアルキル基;R1及びR2は、各々独立に、H又はF等;zは、0〜6のいずれかの整数;zが2以上のとき、複数のR1及びR2は互いに同一であっても異なってもよい;R3及びR4は、各々独立に、H又はC1〜C6の飽和炭化水素基;R5は、ヒドロキシ基、F及びC1〜C6のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つを有していてもよいC3〜C24の脂環式炭化水素基を有するC1〜C18の脂肪族炭化水素基等;Z+は、有機カチオン]【選択図】なし
提供含有盐和所述盐的光刻胶组合物,可用于制造具有良好线边粗糙度(LER)的光阻图案。盐由式(I)表示。【式中,Q1和Q2分别独立地表示F或C1-C6的
全氟烷基;R1和R2分别独立地表示H或F等;z表示0~6中的任一整数;当z为2或更大时,多个R1和R2可以相同也可以不同;R3和R4分别独立地表示H或C1-C6的饱和烷基;R5表示具有C3-C24的脂环式烷基或含有羟基、F和C1-C6的烷基中至少一个的C1-C18脂族烷基;Z+表示有机阳离子】【选择图】无