乙基全氟丁基醚 | 163702-06-5

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 醚类
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 乙基全氟丁基醚
• 英文名称: Propane, 2-(ethoxydifluoromethyl)-1,1,1,2,3,3,3-heptafluoro-
• 英文别名: 1-ethoxy-1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-(trifluoromethyl)propane
• CAS: 163702-06-5
• 化学式: CF₃CF(CF₃)CF₂OCH₂CH₃
• 分子量: 264.09
• InChiKey: SQEGLLMNIBLLNQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -138 oC
• 沸点：
  49.5±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.441±0.06 g/cm3(Predicted)
• 物理描述：
  Liquid

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氟化钾，无水 、 perfluoroisobutyryl fluoride 、 硫酸二乙酯 在 乙基全氟丁基醚 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以to yield 80 g of the title compound的产率得到乙基全氟丁基醚
  参考文献：
  名称：

  Alkoxy-substituted perfluorocompounds

  摘要：

  一种从基板表面去除污染物的过程，包括将基板与至少一种单烷氧基、双烷氧基或三烷氧基取代的全氟烷、全氟环烷、含全氟环烷基的全氟烷或含全氟环烷亚烷基的全氟烷化合物的清洁组合物接触，该化合物可选择包含额外的链状杂原子。这些化合物在具有良好的溶解性能的同时，环保可接受。

  公开号：

  US06608019B1
• 作为试剂：
  描述：

  氟化钾，无水 、 perfluoroisobutyryl fluoride 、 硫酸二乙酯 在 乙基全氟丁基醚 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以to yield 80 g of the title compound的产率得到乙基全氟丁基醚
  参考文献：
  名称：

  Coating compositions

  摘要：

  一种用于从基底表面去除污染物的过程，包括将基底与至少含有一种单烷氧基，双烷氧基或三烷氧基取代的全氟烷，全氟环烷烃，含有全氟环烷基的全氟烷或含有全氟环烷基链的全氟烷化合物的清洁组合物接触，该化合物可选择含有额外的链状杂原子。这些化合物在具有良好的溶解性能的同时，也是环境友好的。

  公开号：

  US20020119901A1

文献信息

• [EN] ANTIBACTERIAL COMPOSITION INCLUDING BENZOIC ACID ESTER AND METHODS OF INHIBITING BACTERIAL GROWTH UTILIZING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION ANTIBACTÉRIENNE COMPRENANT UN ESTER D'ACIDE BENZOÏQUE ET PROCÉDÉS D'INHIBITION DE LA CROISSANCE BACTÉRIENNE UTILISANT CELLE-CI
  申请人：KIMBERLY CLARK CO

  公开号：WO2018143911A1

  公开（公告）日：2018-08-09

  Antibacterial compositions and methods for inhibiting bacterial growth are disclosed. The antibacterial compositions can include a carrier and an antibacterial agent including a benzoic acid ester. The benzoic acid ester can have a carbon chain having a length of two to ten. The benzoic acid ester can have a hydroxyl group on the carbon chain.

  抗菌组合物和抑制细菌生长的方法被披露。抗菌组合物可以包括载体和包括苯甲酸酯的抗菌剂。苯甲酸酯的碳链长度可以为二至十。苯甲酸酯的碳链上可以有一个羟基。
• [EN] COMPOSITION COMPRISING ONE OR MORE PARTICULAR DOUBLE PYRIDINIUM COMPOUNDS, USE THEREOF FOR TREATING HAIR AND PROCESSES USING THEM<br/>[FR] COMPOSITION COMPRENANT UN OU PLUSIEURS COMPOSÉS À DOUBLE PYRIDINIUM PARTICULIERS, SON UTILISATION POUR LE TRAITEMENT DES CHEVEUX ET PROCÉDÉS D'UTILISATION ASSOCIÉS
  申请人：OREAL

  公开号：WO2017109126A1

  公开（公告）日：2017-06-29

  The present invention relates to a composition comprising one or more double pyridinium compounds of formula (I) or (II) below and one or more chemical oxidizing agents. The present invention also relates to a process for treating keratin materials, in particular keratin fibres, and more particularly human keratin fibres such as the hair, using said composition. A subject of the present invention is also the use of one or more double pyridinium compounds of formula (I) or (II) for treating keratin materials, in particular keratin fibres, and more particularly human keratin fibres such as the hair. Finally, the present invention relates to one or more particular double pyridinium compounds of formula (III) or (IV), and also to a composition comprising them.

  本发明涉及一种包含下述式(I)或(II)的一个或多个双吡啶化合物以及一个或多个化学氧化剂的组合物。本发明还涉及一种用于处理角蛋白材料，特别是角蛋白纤维，尤其是人类角蛋白纤维如头发的方法，使用所述组合物。本发明的一个主题还包括使用一个或多个下述式(I)或(II)的双吡啶化合物用于处理角蛋白材料，特别是角蛋白纤维，尤其是人类角蛋白纤维如头发。最后，本发明涉及一个或多个特定的下述式(III)或(IV)的双吡啶化合物，以及包含它们的组合物。
• Orthogonal Procesing of Organic Materials Used in Electronic and Electrical Devices
  申请人：Ober Christopher K.

  公开号：US20110159252A1

  公开（公告）日：2011-06-30

  An orthogonal process for photolithographic patterning organic structures is disclosed. The disclosed process utilizes fluorinated solvents or supercritical CO 2 as the solvent so that the performance of the organic conductors and semiconductors would not be adversely affected by other aggressive solvent. One disclosed method may also utilize a fluorinated photoresist together with the HFE solvent, but other fluorinated solvents can be used. In one embodiment, the fluorinated photoresist is a resorcinarene, but various fluorinated polymer photoresists and fluorinated molecular glass photoresists can be used as well. For example, a copolymer perfluorodecyl methacrylate (FDMA) and 2-nitrobenzyl methacrylate (NBMA) is a suitable orthogonal fluorinated photoresist for use with fluorinated solvents and supercritical carbon dioxide in a photolithography process. The combination of the fluorinated photoresist and the fluorinated solvent provides a robust, orthogonal process that is yet to be achieved by methods or devices known in the art.

  本文介绍了一种用于光刻有机结构的正交工艺。该工艺利用氟化溶剂或超临界CO2作为溶剂，以使有机导体和半导体的性能不受其他侵蚀性溶剂的不利影响。其中一种方法还可以使用氟化光阻与HFE溶剂结合使用，但也可以使用其他氟化溶剂。在一种实施例中，氟化光阻是一种二苯并呋喃酮，但也可以使用各种氟化聚合物光阻和氟化分子玻璃光阻。例如，一种共聚物全氟癸基甲基丙烯酸酯（FDMA）和2-硝基苯甲酸甲酯（NBMA）是用于与氟化溶剂和超临界二氧化碳在光刻工艺中使用的适用于正交的氟化光阻。氟化光阻和氟化溶剂的组合提供了一种强大的正交工艺，这种工艺尚未被已知的方法或设备实现。
• COSMETIC COMPOSITION COMPRISING AT LEAST ONE ELASTOMERIC POLYURETHANE AND AT LEAST ONE CATIONIC POLYMER
  申请人：VOISIN Sébastien

  公开号：US20120128616A1

  公开（公告）日：2012-05-24

  Provided is a cosmetic composition comprising, in a cosmetically acceptable medium, at least one film-forming elastomeric, anionic polyurethane, and at least one cationic polymer, as well as a method for the styling of the hair comprising applying this composition to the hair.

  提供的是一种化妆品组合物，包括至少一种成膜弹性阴离子聚氨酯和至少一种阳离子聚合物，以及在化妆上可接受的介质中，用于造型头发的方法包括将该组合物涂抹于头发上。
• UV ABSORBER FORMULATIONS
  申请人：Acker Stephanie

  公开号：US20100111884A1

  公开（公告）日：2010-05-06

  Disclosed is a UV filter composition comprising (a) an organic UV absorber of formula (1), wherein R 1 and R 2 , independently of one another, are C 3 -C 18 alkyl; C 2 -C 18 alkenyl; a radical of the formula —CH 2 —CH(OH)—CH 2 —O-T 1 ; or R 1 and R 2 are a radical of the formula (4a); R 7 is a direct bond; a straight-chain or branched C 1 -C 4 alkylene radical or a radical of the formula (I) or (II); R 8 , R 9 and R 10 , independently of one another, are C 1 -C 18 alkyl; C 1 -C 18 alkoxy or a radical of the formula (III); R 11 is C 1 -C 5 alkyl; m 1 is a number from 1 to 4; p 1 is 0; or a number from 1 to 5; A 1 is a radical of the formula (1b), (1c) or (1d); R 3 is hydrogen; C 1 -C 10 alkyl; —(CH 2 CHR 5 —O)n 1 -T 2 ; or —CH 2 —CH(—OH)—CH 2 —O-T 2 ; R 4 is hydrogen; M; C 1 -C 5 alkyl; or —(CH 2 )m 2 —O-T 3 ; R 5 is hydrogen; or methyl; T 1 , T 2 and T 3 independently from each other are hydrogen; or C 1 -C 18 alkyl; Q 1 is C 1 -C 18 alkyl, M is a metal cation; m 2 is 1 to 4; and n 1 is 1-16, (b) dimethyl capramide, (c) a cosmetically acceptable carrier; and water.

  本发明公开了一种紫外线过滤组合物，包括（a）式（1）的有机紫外线吸收剂，其中R1和R2独立地是C3-C18烷基；C2-C18烯基；式—CH2—CH（OH）— —O-T1的基团；或者R1和R2是式（4a）的基团；R7是直链或支链C1-C4烷基、式（I）或（II）的基团；R8、R9和R10独立地是C1-C18烷基、C1-C18烷氧基或式（III）的基团；R11是C1-C5烷基；m1是1至4的数字；p1是0或1至5的数字；A1是式（1b）、（1c）或（1d）的基团；R3是氢、C1-C10烷基、式—（ CHR5—O）n1-T2或式— —CH（—OH）— —O-T2；R4是氢、M、C1-C5烷基或式—（ ）m2—O-T3；R5是氢或甲基；T1、T2和T3互相独立地是氢或C1-C18烷基；Q1是C1-C18烷基，M是金属阳离子；m2是1至4的数字；n1是1-16，（b）二甲基辛酰胺，（c）化妆品可接受载体；和水。