二乙基硅烷作为沉积金属硅酸盐膜的重要硅源。一种有效的方法是通过化学气相沉积技术,在电子器件中形成高k电介质的金属硅酸盐薄膜,具体步骤包括:向反应区提供二乙基硅烷;同时引入氧源至该区域;再提供金属前驱体。通过这些物质之间的化学反应,可以在衬底上制备出所需的金属硅酸盐膜。常用的金属优选为铪、锆或它们的混合物。此外,金属硅酸盐膜的介电常数可根据膜中金属、硅和氧的相对原子浓度进行调节。
用途二乙基硅烷作为一种硅烷试剂,在文献中有报道其可用于制备沉积金属硅酸盐膜所需的硅源。
The design and application of a single-pot, reductive arene C–H bond silanolization of esters for synthesis of