1-ethoxy-1-ethylcyclohexane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-ethoxy-1-ethylcyclohexane
• 英文别名: 1-Ethoxy-1-ethylcyclohexane
• 化学式: C₁₀H₂₀O
• 分子量: 156.268
• InChiKey: YRMJRPYEZILWBX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  环己酮 在 12 % Pd/C 、 氢气 、 sodium methylate 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 1,4-二氧六环 、 甲苯 为溶剂， 87.0 ℃ 、2.0 MPa 条件下， 反应 70.5h， 生成 1-ethoxy-1-ethylcyclohexane
  参考文献：
  名称：

  [EN] ETHERS AND ESTERS OF 1-SUBSTITUTED CYCLOALKANOLS FOR USE AS AROMA CHEMICALS
  [FR] ÉTHERS ET ESTERS DE CYCLOALCANOLS SUBSTITUÉS EN POSITION 1 DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS EN TANT QUE PRODUITS CHIMIQUES AROMATIQUES

  摘要：

  本发明涉及使用1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体作为香气化学品的用途；用于修改香味组合物的气味特性；以及含有1-取代环烷醇的醚或酯，或两种或两种以上的1-取代环烷醇的醚或酯的混合物，或其立体异构体，或两种或两种以上的其立体异构体的香气化学品组合物；以及制备香味组合物或修改香味组合物的气味特性的方法。该发明还涉及特定的1-取代环烷醇的醚或酯。

  公开号：

  WO2020079007A1

文献信息

• Deuterium isotope effects for migrating and nonmigrating groups in the solvolysis of neopentyl-type esters
  作者：V. J. Shiner、Jimmy J. Tai

  DOI：10.1021/ja00392a031

  日期：1981.1

  -deuterium rate effects on the solvolysis of (1-methylcyclohexyl)methyl, (1-methylcyclopentyl)methyl, and (1-methylcyclobutyl)methyl sulfonate esters have been measured and the solvolysis products examined by /sup 2/H NMR spectroscopy. The results indicate that the products of the solvolysis of all these sulfonate esters are predominantly (greater than or equal to 98%) rearranged. In the solvolysis of (1-m

  ..cap α..- 和 ..gamma..- 氘速率对（1-甲基环己基）甲基、（1-甲基环戊基）甲基和（1-甲基环丁基）甲基磺酸酯的溶剂分解的影响已被测量，并且溶剂分解通过/sup 2/H NMR光谱检查产物。结果表明，所有这些磺酸酯的溶剂解产物主要（大于或等于 98%）重排。在（1-甲基环己基）甲基三氟甲磺酸酯的溶剂分解中，甲基迁移的重排产物略高于扩环产物。对于甲基-d/sub 3/ 化合物观察到正常同位素效应，在 80E 中为 1.057，在 97T 中为 1.073，并且在 80E 中观察到亚甲基-d/sub 4/ 化合物的反向效应为 0.963。然而，在（1-甲基环戊基）甲基和（1-甲基环丁基）甲基磺酸盐的溶剂分解中，主要产品为扩环产品。在这些例子中，对甲基-d/sub 3/-标记的物种观察到了相反的影响。在（1-甲基环己基）甲基的溶剂分解中，观察到的同位素效应可以分为0.927、0
• NOVEL ONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160131972A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  Sulfonium and iodonium salts of a carboxylate having an aromatic ring to which a nitrogen-containing alkyl or cyclic structure is attached are novel. The onium salt functions as an acid diffusion controlling agent in a resist composition, enabling to form a pattern of good profile with high resolution, improved MEF, LWR and DOF.

  一种具有芳香环的羧酸酯的砜和碘化物盐，其中连接有含氮烷基或环状结构，是一种新颖的化合物。该砜盐在抗蚀组合物中作为酸扩散控制剂，有助于形成具有高分辨率、改善MEF、LWR和DOF的良好轮廓图案。
• ONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160320698A1

  公开（公告）日：2016-11-03

  An onium salt having an anion moiety of a specific structure is an effective photoacid generator. A resist composition comprising the onium salt has the advantages of compatibility and reduced acid diffusion and forms a pattern with a good balance of sensitivity and MEF, rectangularity, and minimal defects.

  具有特定结构的阴离子基团的醇盐是一种有效的光酸发生剂。包含该醇盐的抗蚀组合物具有兼容性和减少酸扩散的优点，并形成具有良好灵敏度和MEF、矩形度以及最小缺陷的图案。
• SULFONIUM COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20180099928A1

  公开（公告）日：2018-04-12

  A sulfonium compound having formula (1) is provided wherein R 1 , R 2 and R 3 are a C 1 -C 20 monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, p=0-5, q=0-5, and r=0-4. A resist composition comprising the sulfonium compound is processed by lithography to form a resist pattern with improved LWR and pattern collapse.

  提供了一个具有式（1）的磺鎓化合物，其中R1，R2和R3是C1-C20单价含有杂原子的碳氢基团，p = 0-5，q = 0-5，r = 0-4。利用光刻技术处理含有该磺鎓化合物的抗蚀剂组合物，可形成具有改善的LWR和图案崩溃的抗蚀剂图案。
• SULFONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20150086926A1

  公开（公告）日：2015-03-26

  A carboxylic acid sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 0 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, R 01 and R 02 are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, at least one of R 0 , R 01 , and R 02 has a cyclic structure, L is a single bond or forms an ester, sulfonate, carbonate or carbamate bond with the vicinal oxygen atom, R 2 , R 3 and R 4 are monovalent hydrocarbon groups. The sulfonium salt functions as a quencher in a resist composition, enabling to form a pattern of good profile with minimal LWR, rectangularity, and high resolution.

  提供了具有公式（1）的羧酸磺酸盐，其中R0为氢或一价烃基，R01和R02为氢或一价烃基，R0、R01和R02中至少有一个具有环状结构，L为单键或与邻位氧原子形成酯、磺酸盐、碳酸酯或氨基甲酸酯键，R2、R3和R4为一价烃基。磺酸盐在抗蚀剂组合物中起到淬灭剂的作用，能够形成具有良好轮廓、最小LWR、矩形度和高分辨率的图案。