sodium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoro-methylpropionate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: sodium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoro-methylpropionate
• 英文别名: 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethyl-propionic acid; monosodium salt；sodium 3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethyl-2-hydroxypropionate；Sodium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropionate；sodium;3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propanoate
• 化学式: C₄HF₆O₃*Na
• 分子量: 234.03
• InChiKey: RKWGHCSWWUAMID-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  60.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoro-methylpropionate 在 水 、 氯 、 sodium carbonate 作用下， 反应 0.85h， 生成 1,1,1,3,3,3-六氟丙烷-2,2-二醇
  参考文献：
  名称：

  EP1757572

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸甲酯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 异丙醚 、 水 、 甲苯 为溶剂， 生成 sodium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoro-methylpropionate
  参考文献：
  名称：

  CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ArF IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING PROCESS

  摘要：

  一种化学增感正型光刻胶组合物，包括（A）三氟甲基-3,3,3-三氟-2-羟基-2-丙酸磺酸盐，（B）酸发生剂，（C）碱性树脂和（D）有机溶剂，适用于ArF浸没光刻。羧酸磺酸盐具有高度疏水性，在浸没水中几乎不溶出。通过控制酸扩散，可以构建具有高分辨率的图案轮廓。

  公开号：

  US20130034813A1

文献信息

• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220127225A1

  公开（公告）日：2022-04-28

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.

  提供一种化学式为(1)的盐类，作为酸扩散抑制剂，并提供一种化学增强型光刻胶组合物，其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时，该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子，如CDU、LWR和DOF。
• Method for Producing Hydrate of Fluoroalkyl Ketone
  申请人：Yamamoto Yoshihiro

  公开号：US20080262273A1

  公开（公告）日：2008-10-23

  The present invention relates to a method for producing a compound represented by formula (2): [CF 3 (CF 2 ) n ][CF 3 (CF 2 ) m ]C(OH) 2 (2) wherein n and m independently represent 0 to 10, the method comprising reacting with a halogen or a halogen-containing oxidizing agent a salt of a compound represented by formula (1): [CF 3 (CF 2 ) n ][CF 3 (CF 2 ) m ]C(OH)COOH   (1) wherein n and m independently represent 0 to 10.

  本发明涉及一种制备式（2）所表示的化合物的方法：[CF3（CF2）n] [CF3（CF2）m] C（OH）2（2），其中n和m分别独立地表示0至10，所述方法包括与卤素或含卤氧化剂反应化合物盐的步骤，所述化合物盐表示为式（1）：[CF3（CF2）n] [CF3（CF2）m] C（OH）COOH（1），其中n和m分别独立地表示0至10。
• Method for producing hydrate of fluoroalkyl ketone
  申请人：Daikin Industries, Ltd.

  公开号：US07598425B2

  公开（公告）日：2009-10-06

  The present invention relates to a method for producing a compound represented by formula (2): [CF3(CF2)n][CF3(CF2)m]C(OH)2  (2) wherein n and m independently represent 0 to 10, the method comprising reacting with a halogen or a halogen-containing oxidizing agent a salt of a compound represented by formula (1): [CF3(CF2)n][CF3(CF2)m]C(OH)COOH  (1) wherein n and m independently represent 0 to 10.

  本发明涉及一种制备式（2）所表示的化合物的方法：[CF3（CF2）n] [CF3（CF2）m] C（OH）2  （2）其中n和m分别独立地表示0至10，所述方法包括与含卤素或卤素氧化剂反应化合物的盐，所述化合物的盐表示为式（1）：[CF3（CF2）n] [CF3（CF2）m] C（OH）COOH  （1）其中n和m分别独立地表示0至10。
• Synthesis and some reactions of pentafluoroacetone
  作者：U. Utebaev、E. G. Abduganiev、E. M. Rokhlin、I. L. Knunyants

  DOI：10.1007/bf00924686

  日期：1974.2
• NOVEL CARBOXYLIC ACID ESTER, USE OF THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：Daikin Industries, Ltd.

  公开号：EP2216320B1

  公开（公告）日：2016-08-03