1,3-二甲基环戊-2-烯-1-醇 | 23685-97-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 中文名称: 1,3-二甲基环戊-2-烯-1-醇
• 英文名称: 1,3-dimethylcyclopent-2-en-1-ol
• 英文别名: 1,3-dimethylcyclopent-2-en-ol；1,3-dimethylcyclopent-2-enol；1,3-Dimethyl-2-cyclopentenol
• CAS: 23685-97-4
• 化学式: C₇H₁₂O
• 分子量: 112.172
• InChiKey: HSIBNMIHRZUZOO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  55 °C(Press: 11 Torr)
• 密度：
  0.971±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-二甲基环戊-2-烯-1-醇 在 sodium periodate 、 lithium aluminium tetrahydride 、 sodium hydrogenphosphate dodecahydrate 、 magnesium sulfate 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 、 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 92.58h， 生成 (±)-1,5-dimethylbicyclo[2.2.1]hept-5-en-2-one
  参考文献：
  名称：

  环戊烷天然产物和相关萜类化合物的三环辛烷核的不对称合成。

  摘要：

  提出了一种高度通用的构建基，以对流烷和相关萜类化合物的对映选择性合成。该合成具有非对映选择性Diels-Alder环加成反应，环丙烷化/同四环烷重排级联以及钯催化的CH乙酰氧基化。在8个步骤中以20％的收率和95％ee获得了目标三环辛烷。酮和醇官能团用作进一步详述的处理。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.9b03303
• 作为产物：
  描述：

  3-甲基-2-环戊烯-1-酮 、 甲基氯化镁 以 四氢呋喃 为溶剂， 以44%的产率得到1,3-二甲基环戊-2-烯-1-醇
  参考文献：
  名称：

  使用氯胺-T的立体烯丙基醇的立体选择性叠氮化。

  摘要：

  已探索了使用两种不同的氯胺盐（4-MeC（6）H（4）SO（2）NClNa，TsNClNa和t-BuSO（2）NClNa，BusNClNa）对一系列环状烯丙基醇进行立体选择性叠氮化。这些反应的立体选择性高度依赖于烯丙基醇和氯胺盐的结构。通常，获得顺式和反式-羟基氮丙啶的混合物，其中主要的非对映异构体是顺式-羟基氮丙啶，而在1，3-二取代的烯丙基醇的叠氮化中观察到完全的顺式-非对映选择性。在每种研究的情况下，与使用TsNClNa进行相同反应所观察到的相比，使用BusNClNa进行叠氮化可以得到更高的顺式-立体选择性。出乎意料的是，将叠氮化条件应用于1-取代的环戊-2-烯-1-醇不会产生氮丙啶。反而，

  DOI：

  10.1039/b811137e

文献信息

• Substitution in the cyclopentadienide anion series
  作者：S. McLean、P. Haynes

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)93886-4

  日期：1965.1

  It is shown that the cyclopentadienide anion can undergo an electrophilic substitution. In methylation reactions it was possible to stop the reaction at the intermediate 5-substituted cyclopentadiene stage. In the methylcyclopentadienide anion, the methyl group directs an electrophile to the adjacent carbon atom.

  结果表明，环戊二烯阴离子可以进行亲电取代。在甲基化反应中，可以在中间的5-取代的环戊二烯阶段终止反应。在甲基环戊二烯阴离子中，甲基将亲电子体引导至相邻的碳原子。
• Influence of increasing steric demand on isomerization of terminal alkenes catalyzed by bifunctional ruthenium complexes
  作者：Alexey V. Smarun、Wahyu Shahreel、Steven Pramono、Shin Yi Koo、Lai Yoong Tan、Rakesh Ganguly、Dragoslav Vidović

  DOI：10.1016/j.jorganchem.2017.01.023

  日期：2017.4

  cyclopentadienyl- and imidazolyl-phosphine-containing Ru-based complexes bearing a different degree of the Cp-ring methylation has been attempted. According to experimental and structural data the steric factors prevented the formation of the last complex in the series that contains permethylated Cp ring. These complexes were then subjected to alkene isomerization using 1-hexene. The rate of isomerization

  已尝试制备一系列具有不同程度的Cp环甲基化的含环戊二烯基和咪唑基膦的Ru基络合物。根据实验和结构数据，空间因素阻止了含有全甲基化Cp环的系列中最后一个复合物的形成。然后使用1-己烯将这些络合物进行烯烃异构化。通常，异构化速率随着Cp-环甲基化的增加而降低，这表明初始的烯烃配位和/或咪唑基N去配位步骤在整个机理中受到限制。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer, Postive-Type Resist Composition, And Patterning Process Using Same
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20080311507A1

  公开（公告）日：2008-12-18

  Disclosed is a fluorine-containing compound represented by formula (1), wherein R 1 represents a polymerizable double-bond containing group, R 2 represents an acid-labile protecting group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W represents a bivalent linking group. This compound can provide a fluorine-containing polymer compound that has a weight-average molecular weight of 1,000-1,000,000 and contains a repeating unit represented by formula (2), wherein R 2 , R 3 and W are defined as above, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, at least two of R 4 , R 5 and R 6 may be combined to form a ring. This polymer compound can provide a resist composition capable of forming a pattern that is transparent to exposure light and superior in rectangularity.

  本发明涉及一种含氟化合物，其化学式为（1），其中R1代表可聚合的双键含基团，R2代表酸易保护基，R3代表氟原子或含氟烷基团，W代表双价连结基团。该化合物可提供一种含氟聚合物化合物，其重均分子量为1,000-1,000,000，并含有由式（2）所表示的重复单元，其中R2、R3和W如上所定义，R4、R5和R6中的每一个独立地代表氢原子、氟原子或一价有机基团，其中至少两个R4、R5和R6可以组成环。该聚合物化合物可提供一种抗蚀剂组合物，能够形成对曝光光线透明且在矩形度方面优越的图案。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer Compound, Resist Composition, Top Coat Composition And Pattern Formation Method
  申请人：Mori Kazunori

  公开号：US20120077126A1

  公开（公告）日：2012-03-29

  A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R 1 represents a polymerizable double bond-containing group; R 2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W 1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

  本发明的含氟聚合物包含通式（2）的重复单元（a），其具有1,000至1,000,000的质量平均分子量。该聚合物适用于抗高能辐射（波长小于或等于300nm的高能射线辐射或电子束辐射）的光阻组合物，或用于液体浸没光刻的面涂层组合物，并具有高水珠性，尤其是高后退接触角。在公式中，R1表示可聚合的双键含有的基团；R2表示氟原子或含氟烷基；R8表示取代或未取代的烷基或类似物；W1表示单键，取代或未取代的亚甲基或类似物。
• Fluorine-Containing Sulfonate Resin, Fluorine-Containing N-Sulfonyloxyimide Resin, Resist Composition and Pattern Formation Method
  申请人：KATO Misugi

  公开号：US20120328985A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  According to the present invention, there are provided a fluorine-containing sulfonate salt resin or fluorine-containing sulfonate ester resin having a structure of the following general formula (A) and a fluorine-containing N-sulfonyloxyimide resin having a repeating unit of the general formula (17). It is possible obtain a resist composition using the above resin such that the resist composition can attain high resolution, wide DOF, small LER and high sensitivity and form a good pattern shape.

  根据本发明，提供了具有以下通用式（A）结构的含氟磺酸盐树脂或含氟磺酸酯树脂以及具有通用式（17）重复单元的含氟N-磺酰氧亚胺树脂。可以使用上述树脂制备抗蚀剂组合物，使抗蚀剂组合物能够达到高分辨率、宽DOF、小LER和高灵敏度，并形成良好的图案形状。