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1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇 | 923018-85-3

中文名称
1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
中文别名
1-环已基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
英文名称
1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butane-l,3-diol
英文别名
1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butane-1,3-diol
1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇化学式
CAS
923018-85-3
化学式
C11H16F6O2
mdl
——
分子量
294.237
InChiKey
MQSXWPKOXBDISN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.8
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇甲基丙烯酸酐三氟甲磺酸2-甲氧基酚噻嗪 作用下, 反应 3.0h, 以90%的产率得到1-cyclohexyl-4,4,4-trifluoro-3-hydroxy-3-(trifluoromethyl)butyl 2-methylacrylate
    参考文献:
    名称:
    Process for producing fluorine-containing diol and its derivatives
    摘要:
    一种制备含氟二元醇的方法,其化学式为[2],包括在钌催化剂的存在下,通过氢气还原化学式为[1]的羟基酮。钌催化剂可以是固相催化剂,其中钌负载在活性炭、氧化铝或二氧化硅上。
    公开号:
    US20070032684A1
  • 作为产物:
    描述:
    4,4,4-三氟-3-羟基-1-苯基-3-(三氟甲基)-1-丁酮 在 5% activated charcoal-supported ruthenium catalyst 氢气 作用下, 以 异丙醚 为溶剂, 50.0 ℃ 、2.6 MPa 条件下, 反应 16.0h, 以91%的产率得到1-环己基-4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)-1,3-丁二醇
    参考文献:
    名称:
    Process for producing fluorine-containing diol and its derivatives
    摘要:
    一种制备含氟二元醇的方法,其化学式为[2],包括在钌催化剂的存在下,通过氢气还原化学式为[1]的羟基酮。钌催化剂可以是固相催化剂,其中钌负载在活性炭、氧化铝或二氧化硅上。
    公开号:
    US20070032684A1
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文献信息

  • SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
    申请人:ICHIKAWA Koji
    公开号:US20100304293A1
    公开(公告)日:2010-12-02
    A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.
    由公式(a)表示的盐:其中Q1和Q2各自独立代表原子等,X1代表单键等,X2代表单键等,Y1代表C3-C6的脂环烃基等,但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个原子,以及Z+代表有机反离子,以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
  • Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer Compound, Resist Composition, Top Coat Composition And Pattern Formation Method
    申请人:Mori Kazunori
    公开号:US20120077126A1
    公开(公告)日:2012-03-29
    A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R 1 represents a polymerizable double bond-containing group; R 2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W 1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.
    本发明的含聚合物包含通式(2)的重复单元(a),其具有1,000至1,000,000的质量平均分子量。该聚合物适用于抗高能辐射(波长小于或等于300nm的高能射线辐射或电子束辐射)的光阻组合物,或用于液体浸没光刻的面涂层组合物,并具有高珠性,尤其是高后退接触角。在公式中,R1表示可聚合的双键含有的基团;R2表示原子或含氟烷基;R8表示取代或未取代的烷基或类似物;W1表示单键,取代或未取代的亚甲基或类似物。
  • The cross-aldol reaction of hexafluoroacetone (HFA) with ketones catalyzed by an acid
    作者:Takeo Komata、Kei Matsunaga、Yoshiki Hirotsu、Shinya Akiba、Katsuyuki Ogura
    DOI:10.1016/j.jfluchem.2007.03.011
    日期:2007.8
    The cross-aldol reactions of hexafluoroacetone (HFA) and ketones using an acid catalyst are reported. When concentrated sulfuric acid was employed as the catalyst, HFA reacted regioselectively with various ketones at 50-100 degrees C to give the aldol adducts (6) in good yields. The reaction is initiated by an acid-catalyzed transformation of the ketone into the corresponding enol that reacts with HFA. The obtained adducts (6) can be reduced with hydrogen under a Ru/C catalyst to lead to the corresponding fluorine-containing diols (13).(c) 2007 Elsevier B.V. All rights reserved.
  • US7385091B2
    申请人:——
    公开号:US7385091B2
    公开(公告)日:2008-06-10
  • US8735044B2
    申请人:——
    公开号:US8735044B2
    公开(公告)日:2014-05-27
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