2,2-二(羟基甲基)丙烯酸丁酯 | 7024-08-0

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 酯类
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2,2-二(羟基甲基)丙烯酸丁酯
• 英文名称: trimethylolpropyl monoacrylate
• 英文别名: trimethylolpropane monoacrylate；2,2-Bis(hydroxymethyl)butyl acrylate；2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate
• CAS: 7024-08-0
• 化学式: C₉H₁₆O₄
• 分子量: 188.224
• InChiKey: SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  327.5±32.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.102±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-二(羟基甲基)丙烯酸丁酯 、 2,2-二甲基辛酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP6144466

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  三羟甲基丙烷 、 丙烯酸甲酯（MA） 在 对甲苯磺酸 、 tetramethoxytitanium 作用下， 反应 14.5h， 生成 2,2-二(羟基甲基)丙烯酸丁酯
  参考文献：
  名称：

  JP6144466

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Positive photosensitive composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020102491A1

  公开（公告）日：2002-08-01

  A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.

  一种正性感光组合物包括一种化合物，该化合物能够在受到光射线或辐射照射时生成一种特定的磺酸，以及（B）一种树脂，该树脂能够在酸的作用下分解，从而增加在碱性显影剂中的溶解度。
• Polymerizable Fluorine-Containing Compound
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20110098500A1

  公开（公告）日：2011-04-28

  A polymerizable fluorine-containing compound represented by formula (1), wherein R 1 represents a polymerizable double-bond containing group, R 2 represents an acid-labile protecting group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W represents a bivalent linking group. This compound can provide a fluorine-containing polymer compound that has a weight-average molecular weight of 1,000-1,000,000 and contains a repeating unit represented by formula (2), wherein R 2 , R 3 and W are defined as above, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, at least two of R 4 , R 5 and R 6 may be combined to form a ring. This polymer compound can provide a resist composition capable of forming a pattern that is transparent to exposure light and superior in rectangularity.

  一种可聚合的含氟化合物，其化学式为（1），其中R1表示可聚合的双键含有基团，R2表示酸敏感保护基团，R3表示氟原子或含氟烷基团，W表示二价连接基团。该化合物可以提供一种含氟聚合物化合物，其重均分子量为1,000-1,000,000，并包含由式（2）表示的重复单元，其中R2、R3和W如上所述，R4、R5和R6中的每一个独立地表示氢原子、氟原子或一价有机基团，至少两个R4、R5和R6可以结合形成一个环。该聚合物化合物可以提供一种抗蚀剂组合物，能够形成透明的曝光光线图案，并具有优异的矩形度。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer, Negative-Type Resist Composition, and Patterning Process Using Same
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20120226070A1

  公开（公告）日：2012-09-06

  A fluorine-containing unsaturated carboxylic acid represented by formula (1), wherein R 1 represents a polymerizable double-bond containing group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W represents a bivalent linking group. This compound can provide a fluorine-containing polymer compound that has a weight-average molecular weight of 1,000-1,000,000 and contains a repeating unit represented by formula (2), wherein R 3 and W are defined as above, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, at least two of R 4 , R 5 and R 6 may be combined to form a ring. This polymer compound can provide a chemically amplified resist composition that is transparent to KrF or ArF excimer laser light and has a high resolution and is capable of forming a pattern having a rectangular section with no swelling.

  化学式（1）所表示的含氟不饱和羧酸，其中R1代表可聚合的双键含基团，R3代表氟原子或含氟烷基团，W代表二价连接基团。该化合物可提供一种分子量为1,000-1,000,000且含有化学式（2）所表示的重复单元的含氟聚合物化合物，其中R3和W如上所定义，R4、R5和R6中的每一个独立地代表氢原子、氟原子或一价有机基团，R4、R5和R6中至少有两个可以结合形成环。该聚合物化合物可提供一种化学增强型光刻胶组合物，该组合物对KrF或ArF准分子激光光线透明，具有高分辨率，并能够形成具有矩形截面且无膨胀的图案。
• Fluorine-Containing Compound, Fluorine-Containing Polymer, Postive-Type Resist Composition, And Patterning Process Using Same
  申请人：ISONO Yoshimi

  公开号：US20080311507A1

  公开（公告）日：2008-12-18

  Disclosed is a fluorine-containing compound represented by formula (1), wherein R 1 represents a polymerizable double-bond containing group, R 2 represents an acid-labile protecting group, R 3 represents a fluorine atom or fluorine-containing alkyl group, and W represents a bivalent linking group. This compound can provide a fluorine-containing polymer compound that has a weight-average molecular weight of 1,000-1,000,000 and contains a repeating unit represented by formula (2), wherein R 2 , R 3 and W are defined as above, each of R 4 , R 5 and R 6 independently represents a hydrogen atom, fluorine atom or monovalent organic group, at least two of R 4 , R 5 and R 6 may be combined to form a ring. This polymer compound can provide a resist composition capable of forming a pattern that is transparent to exposure light and superior in rectangularity.

  本发明涉及一种含氟化合物，其化学式为（1），其中R1代表可聚合的双键含基团，R2代表酸易保护基，R3代表氟原子或含氟烷基团，W代表双价连结基团。该化合物可提供一种含氟聚合物化合物，其重均分子量为1,000-1,000,000，并含有由式（2）所表示的重复单元，其中R2、R3和W如上所定义，R4、R5和R6中的每一个独立地代表氢原子、氟原子或一价有机基团，其中至少两个R4、R5和R6可以组成环。该聚合物化合物可提供一种抗蚀剂组合物，能够形成对曝光光线透明且在矩形度方面优越的图案。
• STABILIZED (METH)ACRYLIC MONOMERS
  申请人：Breiner Christine Maria

  公开号：US20150073171A1

  公开（公告）日：2015-03-12

  The present invention relates to the stabilization of (meth)acrylic monomers against premature polymerization during synthesis, storage and transport. The term “(meth)acrylic monomers” is understood to mean derivatives both of methacrylic acid and of acrylic acid.

  本发明涉及在合成、储存和运输期间稳定（甲基）丙烯酸单体以防止过早聚合。术语“(甲基)丙烯酸单体”指的是甲基丙烯酸和丙烯酸的衍生物。