4-(hydroxymethyl)-3-nitrophenol | 86031-17-6

• 物质功能分类: 有机原料 - 醇、酚、酚醇类化合物及衍生物 - 酚及其卤化、磺化、硝化或亚硝化衍生物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 4-(hydroxymethyl)-3-nitrophenol
• CAS: 86031-17-6
• 化学式: C₇H₇NO₄
• 分子量: 169.137
• InChiKey: HNPPKJBKLPUPHI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  86.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H302,H315,H319,H335

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(hydroxymethyl)-3-nitrophenol 在 氯化铵 、 对甲苯磺酸 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 锌 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 20.0h， 生成 3-amino-4-(((tetrahydro-2H-pyran-2-yl)oxy)methyl)phenyl neopentyl sulfate
  参考文献：
  名称：

  [EN] SULFATASE-CLEAVABLE LINKERS FOR ANTIBODY-DRUG CONJUGATES
  [FR] COUPLEURS CLIVABLES PAR SULFATASE POUR CONJUGUÉS ANTICORPS-MÉDICAMENT

  摘要：

  本公开提供了抗体药物偶联物结构，其中包括具有可切割连接物的硫酸酶可切割基团。该公开还涵盖了制备这种偶联物的方法，以及使用它们的方法。

  公开号：

  WO2020096775A1
• 作为产物：
  描述：

  对羟基苯甲醇 在 lanthanum(III) nitrate 盐酸 、 sodium nitrate 作用下， 以 乙醚 、 水 为溶剂， 以12%的产率得到4-(hydroxymethyl)-3-nitrophenol
  参考文献：
  名称：

  硝酸镧（III）催化的酚选择性硝化

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)85588-4

文献信息

• Silicone resist materials containing polysilanes and methods of making the same
  申请人：KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

  公开号：EP0493367A2

  公开（公告）日：1992-07-01

  A silicone resist material of the present invention contains a polysilane of formula (I) as an indispensable structure, wherein R1 to R3 may be identical or may be different, each representing a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 10 carbon atoms, or a nonsubstituted or substituted aryl group with 6 to 14 carbon atoms, R4 represents an alkylene group with 1 to 10 carbon atoms or a nonsubstituted or substituted phenylene group with 6 to 14 carbon atoms, and at least one of substituents R5 to R9 is a hydroxyl group, and the remaining groups other than the hydroxyl group among the groups R5 to R9 may be identical or may be different, each representing a hydrogen atom, a carboxyl group, or an alkoxy group with 1 to 10 carbon atoms, and n and k represent positive integers and m represents zero or a positive integer.

  本发明的硅树脂抗蚀剂材料含有式 (I) 的聚硅烷 作为不可或缺的结构、 其中 R1 至 R3 可以相同，也可以不同，各自代表氢原子、1 至 10 个碳原子的烷基或 6 至 14 个碳原子的非取代或取代芳基、 R4 代表 1 至 10 个碳原子的亚烷基或 6 至 14 个碳原子的未取代或取代的亚苯基、 取代基 R5 至 R9 中至少有一个是羟基，R5 至 R9 中除羟基以外的其余基团可以相同，也可以不同，每个基团代表一个氢原子、一个羧基或一个具有 1 至 10 个碳原子的烷氧基、 n 和 k 代表正整数，m 代表零或正整数。
• Photosensitive compound, photosensitive composition, method for resist pattern formation, and process for device prodution
  申请人：CANON KABUSHIKI KAISHA

  公开号：EP1865379A1

  公开（公告）日：2007-12-12

  A process for forming a resist pattern comprises the steps of applying on a substrate to form a photosensitive resist layer a photosensitive composition comprising at least one photosensitive compound having, in the molecule, two or more structural units represented by C6R2-6-CHR1-OR7 or C6R2-6-CHR1-COOR7 where R1 is a hydrogen atom or an alkyl group, at least one of R2, R3, R4, R5, and R6 is a nitro group, and others are selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl, an alkoxy, a phenyl, a naphthyl, and an alkyl in which a part or the entire of hydrogen atoms are substituted by a fluorine atom, and R7 is a substituted or unsubstituted phenylene or naphthylene group dissolved in an organic solvent, irradiating the resist layer selectively with a radiation ray, and developing a portion irradiated by the ray to form a pattern of the resist layer.

  一种形成抗蚀剂图案的工艺包括以下步骤 在基底上涂敷感光组合物以形成感光抗蚀剂层，该感光组合物包括至少一种感光化合物，其分子中具有两个或两个以上由C6R2-6-CHR1-OR7或C6R2-6-CHR1-COOR7代表的结构单元，其中R1是氢原子或烷基，R2、R3、R4、R5和R6中至少有一个是硝基、其他选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、苯基、萘基和其中部分或全部氢原子被氟原子取代的烷基组成的组，R7 是溶于有机溶剂中的取代或未取代的亚苯基或萘基，用射线选择性地照射抗蚀层，并显影被射线照射的部分以形成抗蚀层的图案。
• [EN] TARGETED PROTEASE DEGRADATION (TED) PLATFORM<br/>[FR] PLATEFORME DE DÉGRADATION DE PROTÉASE CIBLÉE (TED)<br/>[ZH] 靶向蛋白酶降解(TED)平台
  申请人：[en]EUBULUS BIOTHERAPEUTICS INC.;[zh]嘉兴优博生物技术有限公司

  公开号：WO2023056981A1

  公开（公告）日：2023-04-13

  本发明涉及靶向蛋白酶降解(TED)平台，具体地，本发明公开了一种式I所示的靶标分子-连接体-E3连接酶配体的偶联物，RT-L1-RE3(式I)，其中，所述RT为靶标分子的一价基团；所述RE3为E3连接酶配体的一价基团；所述L1为连接A和B的连接头；且L1如下式II所示：-W1-L2-W2-(II)。
• Silicone resist materials containing polysiloxanes
  申请人：KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

  公开号：EP0231497B1

  公开（公告）日：1994-03-02
• Method for resist pattern formation, and process for device prodution
  申请人：CANON KABUSHIKI KAISHA

  公开号：EP1865379B1

  公开（公告）日：2013-01-16