2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯 | 3770-97-6

• 物质功能分类: 有机原料 - 重氮、偶氮或氧化偶氮化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯
• 中文别名: 2,1,5-重氮萘醌磺酰氯；2-重氮-1,2-二氢-1-氧代-5-萘磺酰氯；2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酰氯；2.1.5磺酰氯；1,2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酰氯；215磺酰氯；215 磺酰氯；2.1.5 磺酰氯
• 英文名称: 2-diazo-1-oxo-1,2-dihydronaphthalene-4-sulfonyl chloride
• 英文别名: 1-naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonyl chloride；1,2-naphthaquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride；2-diazo-1-naphthoquinone-5-sulfonyl chloride；2-diazo-1-naphthol-5-sulfonyl chloride；NAC-5；(6Z)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonyl chloride
• CAS: 3770-97-6
• 化学式: C₁₀H₅ClN₂O₃S
• 分子量: 268.68
• InChiKey: DZQQBMOSBPOYFX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  139 °C (decomp)
• 密度：
  1.57[at 20℃]
• 溶解度：
  可溶于氯仿（少量）、DMSO（少量）
• LogP：
  0.3 at 20℃
• 稳定性/保质期：

  常温常压下稳定，呈黄色至黄色结晶。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  93.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 危险等级：
  4.1
• 危险类别码：
  R34
• 危险品运输编号：
  3222
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  4.1
• 安全说明：
  S26,S36/37/39
• 储存条件：
  请将药品存放在避光、通风干燥的地方，并密封保存。

SDS

1,2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酰氯[用于感光材料的研究] 修改号码：5

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模块1. 化学品
产品名称： 1,2-Naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonyl Chloride [Research for
Photosensitive Material]
修改号码： 5

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模块2. 危险性概述

GHS分类
物理性危害
自反应物质和混和物 B型
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 1B类
严重损伤/刺激眼睛 第1级
环境危害未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词危险
危险描述加热可能起火或爆炸
造成严重的皮肤灼伤和眼损伤
防范说明
[预防] 远离热源/火花/明火/热表面。禁烟。
远离不相容的物质比如氧化剂。
只可存放于原用的容器内。
切勿吸入。
处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 吸入：将受害者移到新鲜空气处，在呼吸舒适的地方保持休息。
食入：漱口。切勿催吐。
眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
皮肤接触：立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
被污染的衣物清洗后方可重新使用。
立即呼叫解毒中心/医生。
一旦发生火灾：撤离灾区。由于爆炸的危险，远距离灭火。
修改号码：5
究]

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模块2. 危险性概述
[储存] 远离其他物质存放。
存放于通风良好处。保持凉爽。
存放处须加锁。
[废弃处置] 根据当地政府规定把物品/容器交与工业废弃处理机构。

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模块3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 1,2-萘醌-2-二叠氮-5-磺酰氯[用于感光材料的研究]
百分比： >98.0%(LC)(T)
CAS编码： 3770-97-6
俗名： 6-Diazo-5,6-dihydro-5-oxo-1-naphthalenesulfonyl Chloride
分子式： C10H5ClN2O3S

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模块4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。立即呼叫解毒中心/医生。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
立即呼叫解毒中心/医生。
眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
立即呼叫解毒中心/医生。
食入： 立即呼叫解毒中心/医生。漱口。切勿引吐。
紧急救助者的防护：救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块5. 消防措施
合适的灭火剂：干粉，二氧化碳
不适用的灭火剂：水
特殊危险性：一旦发生火警，有爆炸的危险。由于爆炸的危险，远距离灭火。
小心，燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法：从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：喷水,保持容器冷却，注意切勿直接接触水。如果安全，消除一切火源
。
消防员的特殊防护用具：灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用特殊的个人防护用品（针对有毒颗粒的P3过滤式空气呼吸器）。远离溢出物/泄露
紧急措施：处并处在上风处。
泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施：防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料：清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。
副危险性的防护措施切勿与水接触。移除所有火源。一旦发生火灾应该准备灭火器。使用防火花工具和防
爆设备。

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模块7. 操作处置与储存
处理
技术措施：在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。切勿引起泄漏、溢出或分散。切勿产
生不必要的蒸气。远离热源/火花/明火/热表面。禁烟。采取措施防止静电积累。使用
防爆设备。避免冲击和摩擦。处理后彻底清洗双手和脸。
修改号码：5
究]

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模块7. 操作处置与储存
注意事项：如果可能，使用封闭系统。如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项：避免接触皮肤、眼睛和衣物。
可能产生高压。小心打开。
贮存
储存条件：保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗、通风良好处。
存放于惰性气体环境中。
防湿。
存放处须加锁。
确保容器不会受到未测影响，比如跌落或脱落。
远离其他材料存放。
热敏, 潮敏
包装材料：依据法律。只可存放在原用的容器內。

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模块8. 接触控制和个体防护
工程控制：尽可能安装封闭体系或局部排风系统。同时安装淋浴器和洗眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具，自携式呼吸器（SCBA），供气呼吸器等。使用通过政府标准的呼吸器。依
据当地和政府法规。
手部防护：防渗手套。
眼睛防护：护目镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护：防渗防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块9. 理化特性
固体
外形（20°C）：
外观： 晶体-粉末
颜色： 红黄色-深黄红色
气味：无资料
pH: 无数据资料
熔点： 132°C (分解)
沸点/沸程 无资料
闪点：无资料
爆炸特性
爆炸下限：无资料
爆炸上限：无资料
密度：无资料
溶解度：
[水] 不溶于
[其他溶剂]
溶于： 苯, 丙酮, 氯仿, 四氢呋喃, 二氧六环

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模块10. 稳定性和反应性
化学稳定性：一般情况下稳定。
危险反应的可能性：热、撞击、摩擦等条件下可能爆炸分解。
与水接触分解并产生有毒气体。
避免接触的条件： 热, 火花, 明火, 冲击, 摩擦, 湿气
须避免接触的物质 氧化剂, 碱, 水
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氮氧化物 (NOx), 硫氧化物, 氯化氢
修改号码：5
究]

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模块11. 毒理学信息
急性毒性： orl-mus LD50:>3200 mg/kg
orl-rat LD50:>3200 mg/kg
ipr-mus LD50:200 mg/kg
ipr-rat LD50:400 mg/kg
对皮肤腐蚀或刺激：无资料
对眼睛严重损害或刺激：无资料
生殖细胞变异原性：无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性：无资料
RTECS 号码: QK3686500

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模块12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类：无资料
甲壳类：无资料
藻类：无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律无资料
conSTaNT(PaM3/mol):

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模块13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门和专家。建议在可燃溶剂中溶解混合，然后在装有后燃和洗涤装置的化
学焚烧炉中慢慢焚烧。如果一次性焚烧大量物质，可能发生爆炸。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规
。

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模块14. 运输信息
联合国分类：与联合国分类标准不一致
UN编号： 未特殊规定（空运和海运禁止）

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模块15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。
修改号码：5
究]

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模块16 - 其他信息
N/A

制备方法与用途

用途：

• 印刷用PS的光敏剂
• PS版感光胶及光致抗蚀剂等

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 1H-茚-3-羧酸,7-(苯氧基磺酰)-,4-甲基苯基酯
  参考文献：
  名称：

  Baumbach, B.; Bendig, J.; Nagel, T., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1991, vol. 333, # 4, p. 625 - 635

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-diazo-1-naphthoquinone-5-sulfonic acid 在 三聚氯氰 作用下， 以 甲基叔丁基醚 为溶剂， 以98.3 %的产率得到2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯
  参考文献：
  名称：

  一种萘醌磺酰氯的制备方法

  摘要：

  本发明提供了一种萘醌磺酰氯的制备方法，在反应器内加入有机溶剂和三聚氯氰，控温‑5℃，分批加入萘醌磺酸，反应完后，控温‑5℃滴加入碳酸氢钠水溶液中和，分液，浓缩，正己烷打浆，过滤，干燥得到萘醌磺酰氯。本发明反应过程中不使用氯磺酸和二氯亚砜等强腐蚀物料，反应不产生大量的二氧化硫以及氯化氢气体和酸性废水，减少了废气废水压力，对环境绿色友好，并使工业化设备耐腐蚀要求降低，保证了设备的安全运行。

  公开号：

  CN117142985A

文献信息

• Photosensitive compound, photosensitive composition including the same, method of manufacturing the same
  申请人：Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd.

  公开号：EP2289874A1

  公开（公告）日：2011-03-02

  Disclosed are a photosensitive compound and a method of manufacturing the same. The photosensitive is composed of a naphthoquinonediazide sulfonic ester compound having at least one naphthoquinonediazide sulfoxy group, and having either at least one carboxy group with 1 to 8 carbon atoms or at least one alkoxy group with 1 to 8 carbon atoms, in one molecule.

  揭示了一种光敏化合物及其制造方法。该光敏化合物由至少含有一个萘醌二氮化苯并磺酸酯基团的化合物组成，该化合物在一个分子中具有至少一个含有1至8个碳原子的羧基或至少一个含有1至8个碳原子的烷氧基。
• Pretreatment compositions
  申请人：Powell B. David

  公开号：US20060286484A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  A pretreatment composition of: (a) at least one compound having structure VI V 1 —Y—V 2 VI wherein Y is selected from the group consisting of S, O, NR 2 , (HOCH) p , and each R 1 is independently selected from H, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group or a halogen, each R 2 is independently H, SH, CH 3 , C 2 H 5 , and a linear or branched C 1 -C 4 alkyl group containing a thiol group; and wherein V 1 and V 2 are independently selected from wherein, m is independently an integer from 0 to 4 with the proviso that m can =0 only when Y═ n is an integer from 1 to 5; p is an integer of from 1 to 4, and each R 1 is defined as above; (b) at least one organic solvent, and optionally, (c) at least one adhesion promoter; wherein the amount of the compound of Structure VI present in the composition is effective to inhibit residue from forming when the photosensitive composition is coated on a substrate and the coated substrate is processed to form an image thereon.

  预处理组合物包括：(a)至少一种具有结构VIV1—Y—V2VI的化合物，其中Y选自S、O、NR2、(HOCH)p和each R1，每个R1独立选自H、烷基、烯基、炔基、烷氧基或卤素，每个R2独立为H、SH、CH3、C2H5和含巯基的直链或支链C1-C4烷基；其中V1和V2独立选自，其中m独立为0到4的整数，条件是m只能为0当Y=n为1到5的整数；p为1到4的整数，每个R1如上定义；(b)至少一种有机溶剂，以及可选地(c)至少一种促进粘附的物质；其中，组合物中存在的结构VI化合物的量足以抑制光敏组合物涂布在基材上并在涂覆的基材上形成图像时形成残留物。
• NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20190302617A1

  公开（公告）日：2019-10-03

  The present invention provides a negative photosensitive resin composition that has high pigment dispersibility and stability and can reduce residues of unexposed portions during development. The present invention provides a negative photosensitive resin composition containing an (A) alkali-soluble resin, a (B) dispersant having an amine value exceeding 0, a (C) benzofuranone based organic pigment having an amide structure, a (D) radical polymerizable compound, and a (E) photoinitiator. In this negative photosensitive resin composition, the (A) alkali-soluble resin contains one or more selected from the group consisting of a (A1) polyimide, a (A2) polyimide precursor, a (A3) polybenzoxazole, and a (A4) polybenzoxazole precursor, and the (B) dispersant having an amine value exceeding 0 contains a (B1) dispersant including a repeating unit represented by general formula (2) and a repeating unit represented by general formula (3) and a (B2) dispersant that is an acrylic block copolymer having an amine value of 15 to 60 mgKOH/g and/or a (B3) dispersant having a urethane bond. (In general formula (2), R 1 represents an alkylene group. R 2 and R 3 , which may be the same or different, each represents hydrogen, an alkyl group or a hydroxyl group. x represents an integer of 0 to 20. However, when x is 0, at least one of R 2 and R 3 is an alkyl group. m represents an integer of 1 to 100. In general formula (3), n represents an integer of 1 to 100.)

  本发明提供了一种具有高颜料分散性和稳定性的负性感光树脂组合物，可以减少在显影过程中未曝光部分的残留物。本发明提供了一种包含（A）可溶于碱性树脂、（B）胺值超过0的分散剂、（C）苯并呋喃酮基有机颜料（具有酰胺结构）、（D）自由基聚合化合物和（E）光引发剂的负性感光树脂组合物。在这种负性感光树脂组合物中，（A）可溶于碱性树脂包含从以下组中选择的一种或多种：（A1）聚酰亚胺、（A2）聚酰亚胺前体、（A3）聚苯并噁唑和（A4）聚苯并噁唑前体；而具有胺值超过0的（B）分散剂包括具有由通用公式（2）表示的重复单元和由通用公式（3）表示的重复单元的（B1）分散剂，以及胺值为15至60 mgKOH/g的丙烯酸酯嵌段共聚物（B2）和/或具有脲键的（B3）分散剂。（在通用公式（2）中，R1表示烷基基团。R2和R3，可能相同也可能不同，每个表示氢、烷基基团或羟基。x表示0到20的整数。但是，当x为0时，R2和R3中至少有一个是烷基基团。m表示1到100的整数。在通用公式（3）中，n表示1到100的整数。）
• Process of preparing light-sensitive naphthoquinonediazidesulfonic acid
  申请人：Hoechst Aktiengesellschaft

  公开号：US04555469A1

  公开（公告）日：1985-11-26

  A light-sensitive mixture comprising a water-insoluble binder soluble in aqueous alkaline solutions, and the reaction product of a naphthoquinonediazidesulfonyl halide with a mixture composed of a low molecular weight compound having a definite structure and molecular size containing at least one phenolic hydroxyl group, and of a polymeric compound having recurring units, each of which contains at least one phenolic hydroxyl group. The mixture is useful in producing printing plates and photoresists and has the advantage that the naphthoquinonediazidesulfonic acid ester contained therein is non-explosive.

  一种光敏混合物，包括一种水不溶性粘合剂，可溶于水性碱性溶液，以及萘醌二氮化磺酰卤化物与一种低分子量化合物的反应产物，该低分子量化合物具有明确定结构和分子大小，含有至少一个酚羟基，以及具有重复单元的聚合物化合物，每个单元含有至少一个酚羟基。该混合物可用于制备印刷版和光刻胶，并具有萘醌二氮化磺酸酯非爆炸性的优点。
• 고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
  申请人：Inha University Research and Business Foundation 인하대학교 산학협력단(220040085404) BRN ▼121-82-10209

  公开号：KR102080079B1

  公开（公告）日：2020-02-21

  본 발명은 본 발명은 고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 이를 이용한 패턴 형성 방법에 관한 것으로, 고불소계 용제에 용해 가능한 신규 화합물을 제공하여 네거티브형, 포지티프형 패턴을 제작할 수 있으며, 포토리소그라피 공정 중 도포(coating) 및 현상(develop) 과정을 유기용매나 수용액의 도움 없이 고불소계 용제만을 이용하여 유기전자재료 박막에 대한 화학적 침해의 가능성을 줄일 수 있으며, 후속 열처리(post-exposure bake) 또한 요구 되지 않아 패턴 형성 시 물리적, 화학적 침해를 최소화할 수 있는 효과가 있다.

  本发明涉及一种具有高溶解性的高氟化合物的单分子光刻胶及其用于形成图案的方法，通过提供可溶解于高氟化合物溶剂中的新化合物，可以制备负型和正型图案，并且在光刻工艺中，涂覆和显影过程可以仅使用高氟化合物而不需要有机溶剂或水溶液，从而减少对有机电子材料薄膜的化学侵蚀可能性，同时无需后续烘烤处理，可以最小化物理和化学侵蚀的效果。

表征谱图