3,3-双(4-羟基-2-异丙基-5-甲基苯基)异苯并呋喃-1(3H)-酮 | 6869-00-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 异戊烯醇脂质
• 中文名称: 3,3-双(4-羟基-2-异丙基-5-甲基苯基)异苯并呋喃-1(3H)-酮
• 英文名称: 3,3-bis-(4-hydroxy-2-isopropyl-5-methyl-phenyl)-phthalide
• 英文别名: 3,3-Bis-(4-hydroxy-2-isopropyl-5-methyl-phenyl)-phthalid；thymolphthalein；3,3-Bis(4-hydroxy-2-isopropyl-5-methylphenyl)isobenzofuran-1(3H)-one；3,3-bis(4-hydroxy-5-methyl-2-propan-2-ylphenyl)-2-benzofuran-1-one
• CAS: 6869-00-7
• 化学式: C₂₈H₃₀O₄
• 分子量: 430.544
• InChiKey: POLMEVSSJQXXES-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  294°C
• 沸点：
  598.9±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.187±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  溶解性几乎不溶于水；溶于乙醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.8
• 重原子数：
  32
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.32
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 储存条件：
  室温

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3-双(4-羟基-2-异丙基-5-甲基苯基)异苯并呋喃-1(3H)-酮 、 碘甲烷 在 potassium carbonate 、 丙酮 作用下， 生成 3,3-bis-(2-isopropyl-4-methoxy-5-methyl-phenyl)-phthalide
  参考文献：
  名称：

  Carvacrolphthalein

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01263a003
• 作为产物：
  描述：

  苯酐 、 香芹酚 在 四氯化锡 作用下， 生成 3,3-双(4-羟基-2-异丙基-5-甲基苯基)异苯并呋喃-1(3H)-酮
  参考文献：
  名称：

  Carvacrolphthalein

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01263a003

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20090246694A1

  公开（公告）日：2009-10-01

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula ( 1 a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) RO is OH or C 1 -C 20 organoxy, R 1 is a divalent C 1 -C 20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。 ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a) RO为OH或C1-C20有机氧基，R1为二价的C1-C20脂肪族基团或与RO形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• POLYMER ENHANCEMENT OF ENZYMATIC ACTIVITY
  申请人：The Regents of the University of California

  公开号：US20150344924A1

  公开（公告）日：2015-12-03

  Provided herein are methods for enhancing enzymatic activity using certain polymers that may be optionally attached to an enzyme. The polymers may be thermally-responsive polymers, including poly N-isopropylacrylamide or poly N-isopropylmethacrylamide. The polymer may also be a copolymer with at least two different monomer residues. The monomer residues may have a structure of formula (I): wherein R 1 , R A and R B are as described herein. Examples of such monomer residues may include N-isopropylacrylamide (NIPAm) or N-isopropylmethacrylamide (NIPMa). The polymer may include additional monomer residues, such as aminooxy-bearing methacrylamide monomer residues that can be modified to vary the lower critical solution temperature (LCST) of the polymer.

  本文提供了一种利用某些聚合物增强酶活性的方法，这些聚合物可以选择性地附着在酶上。这些聚合物可以是热响应性聚合物，包括聚N-异丙基丙烯酰胺或聚N-异丙基甲基丙烯酰胺。该聚合物也可以是至少含有两种不同单体残基的共聚物。这些单体残基可能具有以下结构（I）的结构：其中R1，RA和RB如本文所述。此类单体残基的示例可能包括N-异丙基丙烯酰胺（NIPAm）或N-异丙基甲基丙烯酰胺（NIPMa）。该聚合物可能包括额外的单体残基，例如氨氧基甲基丙烯酰胺单体残基，可以被修改以改变聚合物的临界溶解温度（LCST）。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090061358A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 + H + (1a) R 1 —O—COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1c) R 1 is a C 20 -C 50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1c）的磺酸。R1—COOCH(CF3)CF2SO3+H+(1a)R1—O—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1c)R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。